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Fターム[4G072GG01]の内容

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Fターム[4G072GG01]に分類される特許

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【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】カリウムイオンの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、カリウムイオンを含有し且つ透過型電子顕微鏡観察による長径/短径比が1.2〜10である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にカリウムイオンのイオンの供給源となる化合物およびアルカリ剤を添加し、アルカリ性とした後、加熱してシリカ粒子を形成させ、続いてビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させる工程を有することにより製造することができる。 (もっと読む)


【課題】坩堝内に装入された塊状のシリコン原料を効率良く溶解することができ、多結晶シリコンインゴットの生産効率を大幅に向上させることが可能な多結晶シリコンインゴットの製造装置及び多結晶シリコンインゴットの製造方法を提供する。
【解決手段】坩堝20内に装入されたシリコン原料を溶解してシリコン融液を生成し、このシリコン融液を凝固させて多結晶シリコンのインゴットを製出する多結晶シリコンインゴットの製造装置10であって、有底筒状をなす坩堝20と、坩堝20の上方側に配置された上部加熱部14と、坩堝20の下方側に配置された下部加熱部30と、を備え、下部加熱部30は、坩堝20が載置される台座31と、誘導加熱コイル32と、を有し、誘導加熱コイル32によって台座31に電流を発生させ、台座31を自己発熱させる構成とされていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン:モノアルキルトリアルコキシシラン=0.05〜0.35:0.65〜0.95の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量1モルに対し、アルコール類を4〜8モル、水を3〜6モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が90〜200kg/m、平均空孔径が20〜65nmのシリカキセロゲルを得る。 (もっと読む)


本発明は、分散体を生成する方法であって、a)シラン処理コロイダルシリカ粒子の水性分散体と少なくとも2個のヒドロキシル基を含有する少なくとも1つの有機化合物を混合して、シラン処理コロイダルシリカ粒子および前記少なくとも1つの有機化合物の水性分散体を提供するステップであって、混合が単官能アルコールの実質的に非存在下で行われるステップと、b)形成された水性分散体から、分散体中の水の残部が約10重量%未満になるまで水を抜き取るステップとを含む方法に関する。本発明はまた、それから得られる分散体、および分散体の使用にも関する。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコン成形体の材料欠陥を破壊なしに試験する方法を提供する。
【解決手段】ポリシリコン成形体に超音波を照射し、ポリシリコン成形体が通過後に超音波受信機により超音波を記録し、これによりポリシリコン中の材料の欠陥を検出する。 (もっと読む)


本発明は、トリクロロシランの合成システム及び方法に向けられる。開示されたシステム及び方法は、気化された金属塩を回収又は分離し、トリクロロシラン合成中の下流操作で金属塩の凝固によって生じる閉塞を削減するために、スラリー中の固形物濃度を増大することを含みうる。加熱して温度を上げてクロロシラン化合物を気化し、その後気化クロロシラン化合物を凝縮するのではなく、本発明は、水素などの非凝縮性ガスを利用してクロロシラン成分を気化することによって、スラリーストリーム中の固形分濃度を増大させることを含みうる。この方法は、結果的に、スラリー温度を低下できる蒸発条件を促進できる。低いスラリー温度によって金属塩は気化しにくくなり、このことが下流のユニット操作へのキャリーオーバーの可能性を削減する。 (もっと読む)


【課題】なし
【解決手段】一次元のナノ構造は、約200nm未満の均一な直径を有する。“ナノワイヤー”と呼ばれる、かかる新規のナノ構造は、異なる化学的な構成を有する少なくとも2つの単結晶の物質のヘテロ構造と同様に、単結晶のホモ構造を含む。単結晶の物質がヘテロ構造を形成するために使用されるので、結果となるヘテロ構造は、同様に単結晶となるであろう。ナノワイヤーのヘテロ構造は、一般的に、異なる物質を含むワイヤーを生成する、ドーピング及び構成が縦若しくは放射方向の何れかで制御されるか、又は両方向で制御される、半導体ワイヤーに基づく。結果となるナノワイヤーのヘテロ構造の例は、縦のヘテロ構造のナノワイヤー(LOHN)及び共軸のヘテロ構造のナノワイヤー(COHN)を含む。 (もっと読む)


本発明は、表面の少なくとも一部が、塩基性のpHの水中において不溶性で且つ化学的に安定であるカチオン伝導性有機多価電解質の層で被覆されている、アルカリカチオンを伝導するセラミックの膜に関する。また、本発明は、アルカリ金属水酸化物の水溶液の形態である液体電解質と接触する固体電解質としての上記膜を備える電気化学装置に関する。 (もっと読む)


【課題】短時間でシリコン芯線と芯線ホルダの接合強度を十分なものとし、その結果、反応初期の成長速度抑制期間を短縮することを可能とする多結晶シリコンの製造手法を提供すること。
【解決手段】本発明の芯線ホルダ20は、一方端側が円錐台状の斜面を有する形状とされ、当該端部には開口部22が設けられ、シリコン芯線5を挿入して保持するための空洞21が形成されている。シリコン芯線5の表面にはシーメンス法により多結晶シリコン6が気相成長し、多結晶シリコン棒の製造が行われる。開口部22近傍の円錐台状斜面には、断熱層として、開口部近傍の外周面から空洞21に向かって環状スリット23a〜cが形成されている。この環状スリットは、断熱部(断熱層)として作用し、シリコン芯線5あるいは多結晶シリコン6からの伝導熱および輻射熱の金属電極への逃げを抑制し芯線ホルダ20の一方端側を加熱する。 (もっと読む)


【課題】繊維状多結晶Siを製造する方法、及び、当該方法により製造される繊維状多結晶Siを提供する。
【解決手段】Siとアルカリ金属を主成分として含む混合融液より糸状物を紡糸する行程と、当該紡糸された糸状物からアルカリ金属を蒸発させて除去する行程を有する繊維状多結晶Siの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】リチウムイオン二次電池の負極活物質として用いた場合に優れたサイクル特性を有し、バリアフィルムの蒸着材料として用いた場合にガスバリア性に優れた蒸着膜を形成できるSiOx(x<1)の製造方法を提供する。
【解決手段】SiOガスが発生する原料をプラズマ加熱により気化させてSiOガスとした後、珪素酸化物として析出させることを特徴とするSiOx(x<1)の製造方法である。SiOガスを析出する際は、析出基体を用いる、またはSiOガスに非酸化性ガスを混合することにより、冷却して行うのが好ましい。原料は、Si粉末とSiO2粉末および/またはSiO粉末とを混合して得られたものを用いるのが好ましい。得られた珪素酸化物は、X線回折測定において金属珪素および二酸化珪素に由来する回折ピークを示さない、非結晶質のSiOx(x<1)となる。 (もっと読む)


【課題】 ウェット洗浄工程を増加させることなく、かつ、より低温でシリサイドを形成することが可能なシリサイドの形成方法を提供すること。
【解決手段】 表面にシリコンとシリコン酸化物とが露出している基板101上にシリサイドを形成するシリサイドの形成方法であって、基板101の温度を400℃以上として、シリコンとシリコン酸化物とが露出している基板101の表面上にマンガン有機化合物ガスを供給し、基板101の表面に露出したシリコンを選択的にマンガンシリサイド化する。 (もっと読む)


【課題】酸化ケイ素を主成分とし、表面に存在する水酸基及び吸着水が十分に除去された低誘電率性、低誘電正接性の多孔質酸化物粒子を得るとともに、表面に存在する水酸基及び吸着水を十分に除去することができる多孔質酸化物粒子の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化ケイ素を主成分とする多孔質酸化物粒子の外周表面及び内表面に表面処理剤が修飾されており、シラノール基の3000〜3800cm-1の赤外線吸光ピークの最大値が、酸化ケイ素のSi−O吸光を示す1850〜1900cm-1の赤外線吸光ピークの最大値の2倍以下である多孔質酸化物粒子である。また、表面の水酸基及び吸着水が除去された多孔質酸化物粒子は、当該多孔質酸化物粒子の表面に表面処理剤を修飾する第1工程と、当該表面処理剤により修飾された多孔質酸化物粒子にマイクロ波を照射する第2工程と、を含む方法により得ることができる。 (もっと読む)


【課題】酸化物微小構造体表面の水酸基及び吸着水を十分に除去することができる酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化物微小構造体の表面に存在する水酸基及び吸着水を除去する方法であって、当該酸化物微小構造体の表面に表面処理剤を修飾する第1工程と、当該表面処理剤により修飾された酸化物微小構造体にマイクロ波を照射する第2工程と、を含む酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法である。
本発明により得られる酸化物微小構造体は、その規則正しい構造の形状性など光学分野、触媒分野、電気化学分野、電子工学分野などで好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、太陽電池用シリコンを安定かつ安価に提供する。
【解決手段】太陽電池用シリコンの製造方法のある態様は、ゼオライトを含有した珪素含有物質を炭素含有物質の存在下で塩素化することで四塩化珪素を得る工程(1)と、前記工程(1)によって得られた四塩化珪素を分離精製する工程(2)と、前記工程(2)において精製された四塩化珪素と亜鉛ガスを反応させることで多結晶シリコンを得る工程(3)とを備える。 (もっと読む)


【課題】高圧かつ原料大量供給の条件で、シリコンロッドの溶断を防ぎつつ高い成長速度と収率でシリコンロッドを太く成長させる。
【解決手段】反応炉1内のシリコン芯棒4に通電してシリコン芯棒4を発熱させ、シリコン芯棒4にクロロシラン類を含む原料ガスを供給することにより、シリコン芯棒4の表面に多結晶シリコンを析出させシリコンロッドRとして成長させる多結晶シリコンの製造方法において、反応炉1内の圧力を0.4MPa以上0.9MPa以下、シリコンロッドRの表面温度を1000℃以上1100℃以下に維持しながら、原料ガスを150℃以上600℃以下に予熱した後に反応炉1に供給するとともに、シリコンロッドRの径の増加に合わせて単位表面積当たりのクロロシラン類供給量を2.0×10-7mol/sec/mm2以上3.0×10-7以下mol/sec/mm2の範囲内に維持しながら原料ガスを供給する。 (もっと読む)


【課題】化粧料等に適したオパール様の遊色効果を呈する薄片状シリカ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】180〜280nmの非晶質球状シリカ粒子を、ゲル化した非晶質シリカで結合してなり、オパール様の遊色効果を呈する薄片状シリカである。この薄片状シリカは、表面をアルミノ珪酸イオンで被覆した180乃至280nmの非晶質球状シリカ粒子からなるコロイダルシリカと、活性珪酸水溶液とを混合してなる水性シリカ分散液を凍結して、非晶質球状シリカ粒子をゲル化した非晶質シリカで結合してなる薄片状シリカを氷の結晶界面に析出させることで製造することができる。 (もっと読む)


【課題】単結晶シリコンの品質低下を招く重金属不純物であるクロム、鉄、ニッケル、銅、コバルトの含有量の総計が低い清浄な高純度の多結晶シリコン塊を提供すること。
【解決手段】シーメンス法で得られたシリコン多結晶棒の電極側端近傍では、クロム、鉄、ニッケル、銅、コバルトの合計濃度が高い。そこで、多結晶シリコン棒100の破砕工程に先立ち、反応炉外に取り出した多結晶シリコン棒100の電極側端から少なくとも70mmまでの多結晶シリコン部分を除去する足切工程を設ける。これにより、バルク中のクロム、鉄、ニッケル、銅、コバルトの合計濃度が150ppta以上の多結晶シリコン部分を除去することができる。より低不純物濃度の多結晶シリコン塊を得るためには、少なくとも155mmまでの多結晶シリコン部分を除去すればよい。 (もっと読む)


【課題】低燃費性と耐摩耗性に優れたゴム組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される硫黄含有シランカップリング剤と水とアルコールと酸性化合物を混合して処理液を調製し、予め乾燥させたシリカに前記処理液を付与して表面処理を行う表面処理シリカの製造方法である。該表面処理シリカをジエン系ゴムに添加し混合してゴム組成物を調製する。
(R(RSi−A …(1)
(Rは炭素数1〜3のアルコキシ基、Rは炭素数1〜40のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基、Aは硫黄原子を含む官能基、m=1〜3、m+n=3) (もっと読む)


本発明は、新規の有機−無機シリカ粒子、その製造方法及びこれを含むハードコーティング組成物に関するもので、より詳細には、シリカ粒子の表面のヒドロキシ基(―OH)に開始剤を化学的に結合させた有機−無機シリカ粒子、その製造方法及びこれを含むハードコーティング組成物に関するものである。本発明に係る有機−無機シリカ粒子を含むハードコーティング組成物は、耐磨耗性及び耐スクラッチ性などに優れたハードコーティングフィルムを提供することができる。
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