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Fターム[4G072GG03]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 発明のカテゴリー (4,870) | 方法 (2,025)

Fターム[4G072GG03]に分類される特許

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【課題】簡便で、環境への負荷が小さく、表面修飾の制御が容易な製造方法により、表面が有機修飾された球状シリカを提供する。
【解決手段】アルコキシシランAと有機化アルコキシシランBをアルコール水溶液中で混合する工程(I)を含む表面が有機修飾された球状シリカの製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】種々の金属イオンについて室温で高いイオン伝導性を示し、安価かつ簡便に製造可能な無機固体イオン伝導体とその製造方法およびそれを用いた電気化学デバイスを提供する。
【解決手段】無機固体イオン伝導体は、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化スズ、および酸化インジウムからなる群より選択される1または複数からなる非晶質の金属酸化物と、前記金属酸化物中に含有された1価、2価、または3価の金属イオンとを含み、25℃(室温)において1×10−7S・cm−1以上のイオン伝導度を有する。 (もっと読む)


【課題】高容量でサイクル性の高い非水電解質二次電池の負極活物質を、連続的に大量生産することができる非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法、非水電解質二次電池用負極活物質、リチウムイオン二次電池、及び電気化学キャパシタを提供することを目的とする。
【解決手段】リチウムイオンを吸蔵、放出し得る材料の表面が黒鉛被膜で被覆された非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法であって、前記材料の表面を黒鉛被膜で被覆する工程を、連続炉で行うことを特徴とする非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 高温の気相で行う反応を用いず、低温の液相で行う反応を採用することにより、シリコンを多量で安定的に連続生成させる多結晶シリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】 溶融金属亜鉛中においてクロルシランと金属亜鉛を反応させ多結晶シリコンと塩化亜鉛とを反応生成物として生じさせる還元反応部分の位置が、反応生成物である塩化亜鉛を電気分解することによって塩素と金属亜鉛を生成させる電解部分の位置より下部にある。還元反応部分でクロルシランと金属亜鉛とを反応させ多結晶シリコンと塩化亜鉛を反応生成物として生じさせる。反応生成物である多結晶シリコンを分離し、塩化亜鉛を電気分解することによって塩素と金属亜鉛を生成させこの塩素はクロルシランの製造用に使用する。金属亜鉛はクロルシランとの反応に使用する。 (もっと読む)


【課題】MgSi1−xSn系多結晶体であって、性能指数が高い、熱電変換素子および、熱電変換モジュールの提供。
【解決手段】Sb、P、As、Bi、Alから選択される少なくとも1種のドーパントAでドーピングされたMgSi1−xSn中に、Sc、Ti、V、Y、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wから選択される少なくとも1種の遷移金属Bの元素および/または遷移金属Bのシリサイドが分散していることを特徴とする下記式(1)で表されるMgSi1−xSn・Aa・Bb多結晶体。MgSi1−xSn・Aa・Bb、式(1)[ただし、式(1)中のxは0〜1、aはMgSi1−xSnに対するドーパントAの含有量であって0.01〜5mol%であり、bはMgSi1−xSnに対する遷移金属Bの含有量であって0.01〜5mol%である。] (もっと読む)


【課題】帯状の基板を搬送しつつ連続的に活物質層の形成と、リチウムの付与を行なうにあたって、単一の真空容器内で差圧構造を設けて、両処理を安定して実施できる生産性に優れたリチウム二次電池用負極の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】真空中で、帯状の基板の表面上に、負極を形成するリチウム二次電池用製造装置は、活物質形成エリア10とリチウム付与エリア50の間にスリット部を設けて分離された差圧構造であり、基板4を搬送する搬送機構と、搬送機構によって保持されている基板の表面上に、蒸着可能領域5内で活物質層を形成するための活物質形成手段と、リチウム付与可能領域55内でリチウムを付与するためのリチウム付与手段と、活物質層を酸化するガスノズル22と、圧力を制御するガスノズル62とを収容する真空容器1と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 金属シリコンを製造する際に原料として通常使用されている珪石を代替するために、珪石と同様の扱いができるような粒径の珪砂造粒体を連続的に製造することができる方法を提供する。
【解決手段】 転動造粒機に珪砂とバインダーとを供給して珪砂造粒体を製造するに際し、上記転動造粒機を少なくとも2台準備し、第一段の転動造粒機に存在する造粒体中の、粒径が20mm以上の造粒体の割合が30重量%以下となるように、粒成長した中間造粒体を取り出し、次段の転動造粒機にて、前記中間造粒体に珪砂とバインダーとを供給して更に粒成長せしめて珪砂造粒体を得る。 (もっと読む)


【解決手段】一方向凝固法により金属ケイ素を精製する方法であって、溶融した金属ケイ素を撹拌翼により最大線速50cm/sec以下で撹拌しながら一方向凝固する金属ケイ素の精製方法。
【効果】遠心法や沈降法等の他の工程を特に行わないで一方向凝固法だけでも金属ケイ素中の炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化カルシウム等の不純物を効率よく低減することができる。 (もっと読む)


【課題】水蒸気等の酸化剤中における焼成工程での収縮が小さく、シリカ膜の亀裂や半導体基板との剥離が発生しにくい無機ポリシラザン及び無機ポリシラザンを含有するシリカ膜形成用塗布液を提供すること。
【解決手段】1H―NMRスペクトルにおいて、4.75ppm以上で5.4ppm未満の範囲のピーク面積をAとし、4.5ppm以上で4.75ppm未満の範囲のピーク面積をBとし、4.2ppm以上で4.5ppm未満の範囲のピーク面積をCとしたとき、A/(B+C)の値が0.9〜1.5であり、(A+B)/Cの値が4.2〜50であり、ポリスチレン換算値による質量平均分子量が2000〜20000である無機ポリシラザンをシリカ膜形成用塗布液に含有させる。 (もっと読む)


【課題】均一な混合状態を維持できる粉体を提供すること。
【解決手段】シリカを含み、安息角が35度以上55度以下であり、30℃における熱伝導率が0.05W/m・K以下である粉体。 (もっと読む)


【課題】本発明は、容器内に収容された溶融シリコンに高周波誘導加熱を施したり、容器の底部から溶融シリコンに不活性ガスを吹き込んだり、または、溶融シリコンの浴面近傍に酸化性ガスとは別にさらに水素を吹き付けたりせずとも、溶融シリコン中のボロンの除去速度を向上させることが可能な溶融シリコン中のボロン除去方法を提供することを目的とする。
【解決手段】容器としてのルツボ1内に収容された溶融シリコン3の浴面3aにAr−5.0%HOガスを吹き付けてプラズマアーク溶解しながら溶融シリコン3中のBを除去する方法であって、ルツボ1内に収容された溶融シリコン3を、プロペラ2を用いて周方向に250rpmの速度で攪拌する。 (もっと読む)


【解決手段】不純物としてPを含有するシリコンとスラグを加熱してそれぞれを溶融し、シリコンとスラグを溶融状態で接触させてシリコン中のPをスラグに吸収させ、次いでこれらを冷却・固化し、Pを吸収させたスラグをシリコンから分離除去する第一工程を少なくとも1回行った後、得られたシリコンを解砕し、これを無機酸を含む水溶液にて処理する第二工程を行うことによりシリコン中に含まれるPを除去するシリコンの精製方法であって、スラグの組成が、少なくとも1種の塩基性酸化物を含み、この塩基性酸化物と、中性酸化物、酸性酸化物、アルカリ金属ハロゲン化物、及びアルカリ土類金属ハロゲン化物から選ばれる混合物からなり、かつ酸性酸化物を含む場合は、酸性酸化物の含有量が塩基性酸化物の含有量よりも少ない組成であるシリコンの精製方法。
【効果】従来の精製方法よりも安価に効率よくシリコン中のPを除去することができる。 (もっと読む)


【課題】内添する填料の原料として再生粒子及び二酸化チタン粒子を用い、高い不透明度及び白色度を有する印刷用紙を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、填料が内添された印刷用紙であって、上記填料として、製紙スラッジを主原料とし、脱水、熱処理及び粉砕工程を経て得られた再生粒子と二酸化チタン粒子とが凝集剤にて凝集されてなる複合粒子を含み、印刷不透明度が90%以上96%以下であることを特徴とする。上記複合粒子の表面の少なくとも一部がシリカで被覆されているとよい。また、上記複合粒子におけるシリカの含有率が5質量%以上30質量%以下であるとよい。上記再生粒子の平均粒子径(一次粒子径)が1μm以上10μm以下であり、上記二酸化チタン粒子の平均粒子径(一次粒子径)が0.2μm以上1μm以下であるとよい。 (もっと読む)


【課題】導電性が高く、かつ放充電時体積変化が抑制されたシリコン二次粒子を提供すること。
【解決手段】50〜100nm粒径のシリコン微粒子を核とし、該核の周囲にアモルファスグラファイトのカーボンシェルが形成された被覆シリコン微粒子が凝集してなる、シリコン二次粒子。このシリコン二次粒子は、50〜100nm粒径のシリコン微粒子0.1〜1.0質量部が100質量部の純水にコロイド状に浮遊する上澄みを有する溶液を調製し、上澄みに、0.3〜3.0質量部のアニリンを添加し溶解させ、5〜20質量部の過酸化水素水を添加し、攪拌しながらシリコン微粒子を核としてアニリンを重合させて、周囲にポリアニリンシェルが形成されたシリコン微粒子を製造し、シリコン微粒子を凝集させて二次粒子を製造し、乾燥させた後、650〜750℃で焼成し、ポリアニリンシェルをカーボンシェルに変性させることによって得ることができる。 (もっと読む)


【課題】従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を有する薄膜積層基材;従来に比べ大面積化された自己支持性のナノ薄膜を、少ない工程数で、簡便にかつ確実に形成できる薄膜積層基材の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の凸部2を表面に有する基材(A)3と、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を覆うように連続して形成された厚さ1〜100nmの薄膜(B)6とを有する薄膜積層基材1;基材(A)3を金属酸化物析出反応液に浸漬し、基材(A)3の表面に金属酸化物または金属酸化物前駆体を析出させることによって、複数の凸部2の頭頂部4および複数の凸部2の間の空隙5を連続して覆う厚さ1〜100nmの薄膜(B)6を形成する薄膜積層基材1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶融シリコンの異物汚染を抑制できるシリコンインゴットの電磁鋳造方法の提供。
【解決手段】チャンバー1内を真空引きする際、シャッター30によって無底冷却ルツボ10の上端開口を遮蔽し、不活性ガス導入管4の遮断弁5を閉にし、通気管20、真空引き用配管23の各遮断弁21、25を開にした状態で、排気管7の排気ポンプ8を作動させることなく、真空引き用配管23の真空ポンプ24を作動させ、その後にチャンバー1内を不活性ガスで満たす際、ガス導入管4の遮断弁5を開に切り換えた状態にし、その後にシリコン原料14を溶解しながら連続鋳造する際、シャッター30を退避させてルツボ10の上端開口を開放し、通気管20、真空引き用配管23の各遮断弁21、25を閉に切り換えた状態で、排気ポンプ8を作動させ、その後にチャンバー1内でインゴット19を冷却する際、通気管20の遮断弁21を開に切り換えた状態にする。 (もっと読む)


【課題】付着性が抑制され、水蒸気が発生しにくい粉体を提供する。
【解決手段】シリカを含有し、BET比表面積が10m/g以上400m/g以下であり、含水率が0.2質量%以上2.5質量%以下であり、30℃における熱伝導率が0.05W/m・K以下である、粉体。 (もっと読む)


【課題】高透過率及び優れた耐擦傷性を有する反射防止膜が成膜可能な組成物を提供する。
【解決手段】シリカ微粒子、シリケート化合物、水及び水溶性アルコールを含む組成物であって、(1)前記シリカ微粒子及びシリケート化合物の質量比が、0.5≦シリカ微粒子[g]/(シリカ微粒子[g]+シリケート化合物[g])≦0.8を満たす、(2)前記水の含有量が、1重量%以上25質量%以下である、及び(3)塩の含有量が0.3質量%以下であるを満たす組成物。 (もっと読む)


【課題】微粒子状炭素がシリカ骨格の内部にまで均一に分散した状態にあって優れた電気伝導性を示すシリカ・炭素複合多孔質体と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ・炭素複合多孔質体は、ケイ酸エステル又はその重合体をシリカ原料として、当該シリカ原料中に微粒子状の炭素を添加、混合して、その混合物中でシリカ原料を加水分解することにより、シリカと炭素の共分散体を作製して、当該共分散体中に含まれるシリカをゲル化させ、共分散体を多孔質化することによって得られる。このシリカ・炭素複合多孔質体は、比表面積が20−1000m2/g、細孔容積が0.3−2.0ml/g、平均細孔径が2−100nmに調製される。このようなシリカ・炭素複合多孔質体は、微粒子状炭素がシリカ骨格の内部にまで均一に分散した状態にあり、優れた電気伝導性を示すものとなる。 (もっと読む)


【課題】 シリコン融液及び多結晶シリコンインゴットへの不純物汚染を抑制し、かつ、離型性に優れるとともに、きわめて低コストのシリコンインゴット製造用角形容器を提供する。
【解決手段】 シリコン融液を凝固して多結晶シリコンインゴットを製造するための容器であって、少なくとも表層部分がシリカガラスから成り、内部部分がシリカよりも高い融点を有する耐熱性物質から成る平行平板状の多孔質シリカ複合板体が組み合わされて構成された角形容器であるシリコンインゴット製造用角形シリカ複合容器。 (もっと読む)


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