【課題】難燃性が高く、ワイヤー流れ量が小さい良好な成形性を有する樹脂組成物、特に半導体封止材を提供する。また、そのような樹脂組成物を調製するのに好適な非晶質シリカ質粉末と、非晶質シリカ質粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５μｍ以上６０μｍ以下、最大粒子径が７５μｍ以下、相対密度が８５％以上であり、粒子径３０μｍ以上７５μｍ以下の粒子における、粒子内部に粒子径の３０％以下の径の空隙を含有する粒子の割合が１０％以上である非晶質シリカ質粉末。シリカ質原料粉末を、シリカ質原料粉末１ｋｇあたりの熱量を１５ＭＪ／ｋｇ以上２５ＭＪ／ｋｇ以下としたプロパンガスと酸素ガスとで形成した火炎中に噴射して溶融、非晶質化した後、さらに同様の熱量でもう一度溶融し、粒子融着指数を３．０以上７．０以下とし、溶融後の粉末を７５μｍ以下の目開きの網で篩うことを特徴とする非晶質シリカ質粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液状のエポキシ樹脂組成物に含有させても、得られるエポキシ樹脂組成物の流動性の低下を抑制でき、さらに、凝集の発生を抑制できる表面処理シリカ粒子を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子１００質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物３０〜４０質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】フィラーとしてのシリカ粒子を充填してなる樹脂混合物において、フィラー充填率を高くしても高流動性を有する樹脂混合物、およびそのためのフィラーとしてのシリカ粒子を提供すること。
【解決手段】粒径範囲５００ｎｍ〜７５μｍのシリカ粒子（Ｘ）を９０質量％以上含有し、かつ粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲に粒度分布の極大値をもち、かつその９５質量％以上が粒径範囲３０ｎｍ〜５００ｎｍのシリカ超微粒子（Ｙ）を０．５〜１０質量％含有するシリカ粒子を提供する。また、それを樹脂と混合した樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】粒径を大きくするに際して焼成に伴う不具合を抑制することの容易なポリオルガノシロキサン粒子の製造方法及びシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン粒子は、Ｒ^１_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎで表されるアルコキシドの加水分解及び縮合を通じて製造される。こうしたアルコキシドとしては、例えばメチルトリメトキシシランが挙げられる。ポリオルガノシロキサン粒子及びシリカ粒子の製造方法では、アルコキシドを加水分解及び縮合させることで、液滴状のシード粒子が分散してなるシード粒子水性分散液を調製する。次に、シード粒子水性分散液とアルコキシドと混合することでシード粒子を成長させた成長粒子を得る。続いて、成長粒子を固化させることで固化粒子を得る。固化粒子は、光学顕微鏡で観察されるコアシェル構造を有しており、こうした固化粒子を焼成する。 （もっと読む）

【課題】粉体の輸送、分級などの粉体操作の操作性に優れた金属シリコン粉体である塩基性金属シリコン粉体を提供すること。
【解決手段】金属シリコン粉体と、表面積１ｍ^２当たり０．１μｍｏｌ以上１０μｍｏｌ以下の塩基当量となるように前記金属シリコン粉体の表面に接触させた塩基性物質とを有する塩基性金属シリコン粉体。金属シリコン粉体表面において僅かに酸化物（シリカ）層が存在することでそのシリカと塩基性物質とが相互作用して効果が得られるものと思われる。このことは純粋な金属シリコンを破砕して金属シリコン粉体を製造した直後に塩基性物質を接触させても粉体の操作性向上効果が低いことからも裏付けられる。つまり、金属シリコン粉体表面に存在する痕跡程度の酸化物層であっても塩基性物質と反応するには充分であると考えられる。 （もっと読む）

【課題】高純度で安価なコロイダルシリカ及びそのようなコロイダルシリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属を含有する粗製コロイダルシリカを表面処理剤で湿式処理する表面処理工程と鉱酸含有液、水の順で洗浄して精製コロイダルシリカとする精製工程とを有するものである。特に表面処理剤はシランカップリング剤及びシラザン類からなる群から選択される１以上の化合物を含むことが望ましい。 （もっと読む）

【課題】環式オレフィン重合体などの重合体に配合した場合の分散性に優れる変性シリカを与えることができる、変性シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカと、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、およびヒドロキシフェニル基から選択される官能基を有する環式オレフィン重合体と、を溶媒中で混合する変性シリカの製造方法。エポキシ基含有シランカップリング剤で表面処理されたシリカの体積平均粒径は１μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム２を結晶成長させた（Ｓ１０）後に、熟成（Ｓ１１）、脱水し（Ｓ１２）、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ（Ｓ１３）、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする（Ｓ１４）。このようにして作製したシリカコーティング粒子３を洗浄した（Ｓ１５）後に、水に分散させて（Ｓ１６）、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム２を溶解させて流出させることによって（Ｓ１７）、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子４が形成され、乾燥した（Ｓ１８）後に、加熱工程において４００℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって（Ｓ１９）、低密度シリカナノ中空粒子１が製造される。 （もっと読む）

【目的】
ナノ構造を有する無機多孔質体の合成法は、古くから開発されているにも係わらずこれを応用加工した商品開発ができなかった。そこで、ナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質することによって、有機材料との相溶性を向上させ、しかも有機材料に対する添加量を増やして加工性を向上させた多孔質体を提供する。
【構成】
本発明のナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質する方法は、ゾルーゲル法による加水分解、縮重合によって得られた湿潤ゲルの状態でシランカップリング剤を添加し、その後、超臨界流体で乾燥させて得られるものである。 （もっと読む）

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】新規な貫通孔を有するマイクロリング状無機酸化物粒子を提供する。
【解決手段】平均外径（Ｄ_O）が１０ｎｍ〜２０μｍの範囲にあり、貫通孔の平均径（Ｄ_I）が１ｎｍ〜１２μｍの範囲にあり、リング幅（Ｗ_R）と平均外径（Ｄ_O）との比（Ｗ_R）／（Ｄ_O）が０．２〜０．４５の範囲にあることを特徴とするマイクロリング状無機酸化物粒子。平均粒子径が３〜１００ｎｍの無機酸化物ゾルを噴霧乾燥したのち、得られた粒子を、酸または塩基で処理することで、貫通孔を形成するマイクロリング状無機酸化物粒子の製造方法。シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる複合酸化物微粒子を使用し、シリカ以外の無機酸化物を酸にて除去したのち、酸または塩基で処理するか、水熱処理して貫通孔を形成するマイクロリング状無機酸化物粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】強度を確保しながら軽量化を図り、折り曲げても亀裂を生じ難く、耐熱性等に優れており、かつ高い絶縁性能有するケーブル用被覆材およびそのケーブルを提供する。
【解決手段】送電用ケーブルおよび通信用ケーブルに用いられる被覆材であって、被覆材中にシリカ質の中空微粒子を含有することを特徴とするケーブル用被覆材であり、好ましくは、平均粒径５〜１００μｍ以下、容重が０.１５〜０.３５g/cm³であって、内部空間に隔壁を有するシリカ質中空微粒子が用いられるケーブル用被覆材、該被覆材を有する送電用ケーブルないし通信用ケーブル。 （もっと読む）

【課題】粒子成長に必要な塩以外の金属成分を含まず、低粘度で安価であり、且つバインダー力や塗料等の補強効果に優れるシリカゾルを提供することにある。
【解決手段】分鎖状シリカ粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルにおいて、
上記分鎖状シリカ粒子は、微粒子が、他の材質からなる接合部を介することなく、微粒子同士が直接結合し一定方向に伸長した主鎖部と、該主鎖部の途中から枝分かれした、少なくとも一箇所の枝分かれ部を有するシリカゾル。 （もっと読む）

【課題】ナノオーダーの微細な粒径を有していながら、高い疎水性を示し、透明樹脂に対しての分散性が著しく高められた表面処理シリカ系粒子を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡で測定して平均粒子径が１〜５０ｎｍの範囲あるシリカ系粒子であって、個々の粒子が、疎水性シランカップリング剤により表面処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）

シリカ−ジルコニアナノクラスタを含有する充填剤が開示される。充填剤は、シリカナノ粒子のゾルと、予成形結晶ナノジルコニア粒子のゾルとを混合することにより調製され得る。充填剤は、乳白光等の所望の光学特性を提供し、歯科用組成物において有用である。 （もっと読む）

本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大きさが揃った薄片状物質を提供しやすい製法を提供することを課題とする。
【解決手段】薄片状金属酸化物の製法において、塗布液を微滴化する工程、微滴化された塗布液を基材に吹き付けて基材上に塗布液を塗着させる工程、塗着された塗布液を乾燥させて薄片状物質の前駆体を形成する工程、及び該前駆体を基材から剥離させる工程を有するものとし、微滴化される塗布液は、塗布液中に８〜４０重量％の固形分と残部の溶媒とを有し、該溶媒は沸点が１３０℃以上の有機溶媒と酸性水溶液とを含有し、前記固形分は金属酸化物オリゴマーを有し、該金属酸化物オリゴマーはポリスチレン換算の重量平均分子量で５００〜５００００とすること。 （もっと読む）

疎水性ケイ酸を、ｐＨ０〜６で水相に分散し、次の工程において、塩基を添加することにより、ケイ酸分散体のｐＨを７〜１２に調整する、疎水性ケイ酸の水分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シングルナノ領域に周期性があり、かつ平均粒子径及び比表面積が小さい中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子の製造方法であって、中空構造でありかつ外殻部にメソ細孔を有するＢＥＴ表面積が１００ｍ²/ｇ以上のメソポーラスシリカ粒子のメソ細孔内に、非酸化性雰囲気での焼成により炭化する炭素含有化合物を充填し、非酸化性雰囲気下で８００℃以上で焼成して炭素支持体とした後、酸化性雰囲気下で加熱して、該炭素支持体を除去する工程を含む中空シリカ粒子の製造方法、及び（２）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、平均粒子径が０．０５〜２μｍであり、かつ窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】 緻密なシリカ殻からなり、しかも分散性に優れた、ナノサイズの中空シリカ粒子を簡易に、生産性よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】 まず、Ｆe³⁺水溶液を塩基水溶液に加え、ゲル状Ｆe(ＯＨ)₃を生成させる。その後、Ｆe(ＯＨ)₃を１００℃の下で結晶性ヘマタイト（α−Ｆe₂Ｏ₃）に変化させ、核粒子を作製する。この際、種結晶を添加して、その添加量によってヘマタイト一次粒子の粒子径を制御することもできる。次に、アルコール系溶媒に、水に分散させたままのヘマタイト粒子、凝集防止剤、および少量の水を加え、均一に分散させた後、さらにＳi(ＯＣ₂Ｈ₅)₄などのシリコンアルコキシドと塩基性触媒とを加え、アルコキシドの加水分解によって生じるシリカによって、ヘマタイト粒子の表面を被覆する。この後、シリカ層で被覆されたヘマタイト粒子を希塩酸中に分散させ、ヘマタイトを溶解除去し、中空シリカ粒子を得る。 （もっと読む）