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Fターム[4G075EA06]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | 装置−設置形式、加熱形式 (1,526) | 外部加熱、冷却式 (527)

Fターム[4G075EA06]に分類される特許

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【課題】 放電の際に人体に有害なオゾン、NOxをほとんど発生させることなく、除菌作用を持つ酸素ラジカルやヒドロキシルラジカル等の活性種を室内空間へ放出することができる活性種発生装置、空気清浄装置及び汚水浄化装置を実現する。
【解決手段】 本発明に係る活性種発生装置は、水蒸気を発生させる水蒸気発生手段と、発生させた水蒸気を加熱する加熱手段と、放電電極及び対向電極間でコロナ放電を生じさせる放電手段とを備え、活性種発生装置の内部は、水蒸気圧が、活性種発生装置の外部の気圧よりも高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡易な設備構成で水の分離効率を向上可能で、反応時間を任意に設定可能な水分離システムを提供する。
【解決手段】原料を化学反応させた後に得られる生成物溶液から水を分離する水分離システムであって、前記原料が供給されて混合される混合手段3と、混合手段3の下流に接続され、混合された前記原料の化学反応が進行される化学反応進行手段4と、化学反応進行手段4の下流に接続され、化学反応進行手段4において生成した水を分離する水分離手段6と、化学反応進行手段4における化学反応時間を制御する制御手段12と、を備え、制御手段12は、化学反応進行手段4から排出される溶液中の生成物の量が多いときには、化学反応進行手段4における化学反応時間を短くし、化学反応進行手段4から排出される溶液中の生成物の量が少ないときには、化学反応進行手段4における化学反応時間を長くする制御を行う。 (もっと読む)


【課題】流動するガスを効率よく加熱することができるとともに、熱分解させることができ、さらに、単独であるいは他のガス分解装置と組み合わせて用いることができる多孔質発熱体、多孔質発熱素子及びガス分解素子を提供する。
【解決手段】連続気孔1bを有する金属多孔質体からなる多孔質発熱体1であって、
少なくとも表面に、Ni−W合金層10aを備えて構成される。 (もっと読む)


【課題】 単位時間当りの熱交換量を十分に確保できる熱交換装置を得ること。
【解決手段】
反応釜1のジャケット部11に冷却流体供給管23と蒸気供給管3を接続する。ジャケット部11の内部に第2の熱交換器31を取り付ける。ジャケット部11の外側に副熱交換器27を取り付ける。副熱交換器27の上下を循環ポンプ28を介在して反応釜1内と接続する。気液分離器4の下部に蒸気トラップ25を接続する。蒸気圧力調節弁7と気液分離器4の間に、流体供給管6を接続する。流体供給管6には液体エゼクタ20を介在する。液体エゼクタ20の吸込室22を蒸気トラップ25の出口側と接続する。
ジャケット部11の内側は反応釜1を熱交換すると共に、第2の熱交換器31でも熱交換し、また、ジャケット部11の外側は副熱交換器27を熱交換する。 (もっと読む)


【課題】照射特性の自由度を高くすることができる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】それぞれ円筒形状であって中心軸同士を互いに平行とした複数本の冷却管2と、各冷却管2に対してそれぞれ1個ずつ取り付けられた光源ブロック1とを備える。各光源ブロック1は、それぞれ、冷却管2を囲む筒形状のベース12と、冷却管2の軸方向に平行に直線状に並べてベース12に固定されそれぞれ紫外線を放射する複数個の発光ダイオード11とを有する。ベース12は、冷却管2周りに回転可能とされている。光源ブロック1が相互に連結される場合に比べ、各光源ブロック1の回転可能な角度を大きくして照射特性の自由度を高くすることができる。 (もっと読む)


【課題】温度制御が可能であって、濃度の高い溶液を少量使用して固形物の表面に反応させるための反応装置および反応方法を提供する。
【解決手段】反応装置は、回転可能な円筒状の反応容器であり、上部に蓋を有する。反応容器は、その円筒面の底部に垂直な軸が水平に対して傾斜する。反応容器は、回転することにより収容する固形物および容液を遠心力により持ち上げ、回転を停止することにより、固形物および溶液を落下させて、混合して反応を促進させる。 (もっと読む)


【課題】 高感度な検出が可能であり、且つ温度変化によるリアルタイムな分析を可能とする。
【解決手段】 流路1を有し、流路内の流体を加熱可能であって、該流路内の流体の状態を光を用いて観察可能な流路デバイスにおいて、観察面3と内壁上面4とを有する第1の部材2と、該内壁上面4と対向するとともに流路の内壁を構成する内壁下面を有する第2の部材5と、を備え、光を反射する反射面を有する発熱抵抗体6が内壁下面に設けられており、前記反射面で反射した光が内壁上面4と観察面3とを透過するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】マイクロ流路と同一の基体に配置した抵抗体を加熱し、抵抗体の抵抗値変化によって、マイクロ流路内の温度を制御するマイクロ流体デバイスにおいて、流路内の流体に温度分布が生じてしまうこと。
【解決手段】基体内部に設けられた流体を流通させる流路と、前記流路内の流体を主として加熱するための第一の抵抗体とが配置されたマイクロ流体デバイスにおいて、前記第一の抵抗体と異なる位置に配置された、前記流路内の流体を補助的に加熱するための第二の抵抗体を複数個配置する。このマイクロ流体デバイスを動作させるマイクロ流体装置は、前記流路内の流体の温度と前記第一の抵抗体の抵抗値との関係式と、前記第一の抵抗体に投入する熱エネルギーと前記第二の抵抗体に投入する熱エネルギーとの比の固定値と、記憶し、前記関係式と前記固定値とに従い、前記流路内の流体の温度を制御する。 (もっと読む)


【課題】 二酸化炭素分解に必要なエネルギーが従来より少なく、窒素酸化物やオゾンの生成を抑制した二酸化炭素分解方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】
二酸化炭素分解装置1は、二酸化炭素と窒素と水とを収容する反応容器10と、反応容器10を加熱する加熱ヒータ20と、反応容器10内に赤外線を放射する赤外線LED40と、を備え、所定の反応温度の二酸化炭素に赤外線を放射して、二酸化炭素の分子に非対称振動を与え、炭素と酸素とに分解する。 (もっと読む)


【課題】液相反応系(カルボニル化反応系など)の温度および圧力変動を抑制し、安定化する。
【解決手段】メタノールと一酸化炭素とを、それぞれ、供給ライン17,19により、カルボニル化触媒系を含む液相反応系3に供給し、反応系の液面を一定に保ちながら、生成した酢酸を含む反応混合物の一部を反応系から抜き取りつつフラッシュ蒸留塔4に供給し、このフラッシュ蒸留により分離されたカルボニル化触媒系を含む高沸点成分を循環ライン21により反応系3に循環する。循環ライン21では、流量を流量センサF3で検出するとともに温度を温度センサT2で検出し、検出されたデータに基づいて、制御ユニット8を利用して、温度調整ユニット6により循環する高沸点成分の温度をコントロールし、前記反応系の温度及び圧力変動を抑制する。 (もっと読む)


【課題】マイクロリアクタのマイクロ流路は、被反応流体の高粘性化または顆粒や結晶の析出を伴う反応用途に用いた場合に、流路が閉塞することがある。また、低温でのマイクロ反応でも安定した閉塞防止ができる低温領域用マイクロ流路閉塞防止装置およびそれを用いた方法が望まれる。
【解決手段】被反応流体の混合または/反応を進行させるため、混合部と流路形成体からなる広域のマイクロ流路の閉塞防止のため、超音波振動を付与する超音波振動付与手段を備えることが効果的である。また、超音波振動付与手段が発熱を発するため冷却を要するが、低温での混合または/反応を安定しておこなうために、低温のため超音波振動付与手段の冷却媒体の温度が露点以下となっても結露しないように冷却用ガス循環部内に除湿機能を備える。 (もっと読む)


【課題】すべての接液部を使い捨て可能にするマイクロチップユニット、及びこのマイクロチップユニットを用いた標識化合物の合成装置を提供する。
【解決手段】マイクロチップ1は、内部に流体の化学処理を行うマイクロ流路を有すると共に、表面にマイクロ流路に流体を導入するための供給口1a、及びマイクロ流路から排出される流体を排出するための排出口1bを有する。マイクロチップ1にはマイクロチップホルダ2−1,2−2が結合される。マイクロチップホルダ2−1,2−2にはマイクロチップ1の供給口1a及び排出口1bの少なくとも一方に接続される流路2b〜2dが形成される。マイクロチップホルダ2−1,2−2に設けられ、マイクロチップホルダ2−1,2−2の流路2b〜2dを切り替える流路切替機構9が設けられる。 (もっと読む)


【課題】 原料となる粉体を原料供給部から加熱部に供給し、この加熱部内において落下される粉体を加熱処理させた後、このように加熱処理された粉体を冷却部において冷却させるにあたり、原料となる粉体の種類、比重、粒径等が異なる場合においても、原料となる粉体に対応させて、この粉体を加熱部内において落下させながら加熱処理する時間を適切に調整して、原料となる様々な粉体を適切に加熱処理できるようにする。
【解決手段】 原料の粉体Wを供給する原料供給部10と、この原料供給部から供給されて落下される粉体を加熱処理する加熱部20と、加熱処理された粉体を冷却させる冷却部30とを備えた落下式粉体処理装置において、加熱部の下側及び/又は上側からガスを供給させて加熱部内を落下する粉体の落下速度を制御するようにした。 (もっと読む)


【課題】酸化処理対象物を広範囲に渡って略均一に高周波誘導加熱を行うことが可能な酸化処理装置および酸化処理方法を提案する。
【解決手段】酸化処理装置1は、連結および分解が可能な複数の中空導電体2と中空導電体2の中空部3が連接してなる冷却剤流路5とを有して酸化処理対象物PBを囲むコイル6と、冷却剤流路5に冷却剤を流通する冷却装置7と、コイル6に交流電力を印加する交流電源8と、を備える。 (もっと読む)


【課題】流体を低圧用途に分配するための低圧の吸着体ベースの流体貯留および分配容器を使用する際における流体利用率を最大にする改良された方法の提供。
【解決手段】容器内にナノ多孔質炭素吸着体20を保持する流体貯留および分配装置10で、1つの実施態様は脱硫用途、別の実施態様は塩素ガスなどの貯留である。配置構成では複数の多孔質炭素物品が移動しないように拘束するために位置安定化構造が用いられる。制御された方法で酸素と反応するシランを貯留するために炭素吸着体を使用する赤外線放射デバイスについて、吸着体の抵抗および/または誘導加熱によって炭素吸着体が残留流体を脱着する配置構成は、炭素吸着体を膨張剤と接触させ、続いて炭素吸着体を加圧したガス状浸透剤と接触させて、膨張剤および浸透剤を除去することにより、多孔質炭素吸着体の充填能力を増加させる方法。 (もっと読む)


【課題】反射板の変形を防止し、なおかつ筐体内温度を適正な温度に維持する。
【解決手段】水冷ジャケット31に収めた紫外線ランプ30と、前記紫外線ランプ30の光を反射する主反射板32とを筐体22に収め、前記紫外線ランプ30の直射光、及び前記主反射板32の反射光を照射する紫外線照射器7において、前記主反射板32の熱を回収して前記筐体22の外に排出する熱回収機構としての水冷機構33と、前記筐体22内の雰囲気の熱を前記水冷機構33に伝熱して当該水冷機構33に回収するヒートシンク34と、を備える構成とした。 (もっと読む)


【課題】光に反応する被照射体を簡易な構成で効率よく反応させることができる光照射装置および光照射方法を提供すること。
【解決手段】光に反応する被照射体に光を照射する光照射装置1は、被照射体に対向可能に設けられ、当該被照射体に光を照射する発光手段4と、被照射体と発光手段4とを相対移動させる移動手段3と、移動手段3により相対移動される被照射体に所定の気体を吹き付ける吹付手段5とを備え、移動手段3により被照射体と発光手段4とを相対移動させつつ、被照射体の被照射領域に吹付手段5により気体を吹き付けながら、発光手段4により当該被照射領域に光を照射する。 (もっと読む)


【課題】供給ストリーム構成成分の間のマイクロ及び/又は分子レベルでの、所望の混合及び相互作用を達成するために、マイクロリアクタ技術を利用する装置、システム及び方法を提供する。
【解決手段】供給ストリームは、個別に制御された供給ポンプの操作に基づいて、個別に制御された速度で増圧ポンプへ供給される。マイクロリアクタへの導入前に、第1及び第2の供給ストリームが一体化/混合される際の時間は一般に最小化され、それにより、マイクロリアクタ内での、マイクロ及び/又はナノスケールでの相互作用前に、潜在的な反応及び他の構成成分の相互作用が避けられる。多種のマイクロリアクタ設計/形状が、採用され、例えば、”Z”型のシングル又はマルチスロット形状、及び、”Y”型のシングル又はマルチスロット形状である。 (もっと読む)


【課題】低温反応を利用した薄膜堆積法は、付加価値の高いフルオロカーボン薄膜や炭素膜に変換し、リサイクルすることを可能にすることに加え、排ガスのリユースするための有効利用方法及び装置を提供する。
【解決手段】極低温に冷却された基材上に、フッ素含有排ガスを噴霧し、フッ素含有排ガスのみを凝縮薄膜として堆積させる工程と、該凝縮薄膜に雰囲気ガスとともに電子またはイオンまたは準安定励起種またはラジカルを照射することにより該フッ素含有排ガスを分解するとともに重合膜として固定化する工程と、固定化したフッ素含有重合膜を回収する工程を、含むフッ素含有排ガスの固定化方法。

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【課題】 装置の小型化を図りながら、エキシマランプの高電圧側電極とケーシングとの間での外部放電を防止して所期の紫外線照射処理を確実に行うことのできる光処理装置を提供すること。
【解決手段】 この光処理装置は、光取出窓を有するランプ収容室が内部に形成された金属製のケーシングと、このケーシングにおける前記ランプ収容室内に配置された、高電圧側電極およびアース側電極の一対の電極が放電容器の外表面に対向して配置されてなるエキシマランプとを具えた光放射ユニットを具えてなり、
前記エキシマランプは、放電容器の管壁の肉厚をT〔mm〕とするとき、前記高電圧側電極が、前記ランプ収容室の高さ方向の中央位置を中心に±1.5Tの範囲内に位置された状態で、配置されている。 (もっと読む)


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