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Fターム[4G146BC18]の内容

炭素・炭素化合物 (72,636) | 製造−製造工程、製造条件 (14,091) | 特殊な環境(電場、無重力、磁場等) (92)

Fターム[4G146BC18]に分類される特許

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【課題】グラフェン積層体のグラフェン間に層間物質が挿入された新規な層間物質挿入黒鉛、及びその層間物質挿入黒鉛を剥離することにより薄片化黒鉛を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る層間物質挿入黒鉛では、グラフェン積層体のグラフェン間に層間物質が挿入されている。前記層間物質は、マレイン酸、無水マレイン酸及びマレイン酸塩からなる群から選択された少なくとも1種の化合物である。本発明に係る薄片化黒鉛の製造方法は、グラフェン積層体のグラフェン間に、マレイン酸、無水マレイン酸及びマレイン酸塩からなる群から選択された少なくとも1種の層間物質が挿入されている層間物質挿入黒鉛に、超音波を照射することによって前記層間物質挿入黒鉛を剥離して薄片化黒鉛を得る工程を備える。 (もっと読む)


【課題】簡易にしかも安価に作製することができるアモルファスカーボン薄膜作製方法を提供する。
【解決手段】超臨界流体セル6の流体層5内に二酸化炭素及び炭化水素を封入し超臨界状態を形成する工程と、流体層5内に紫外波長のレーザー光を照射する工程と、を含むアモルファスカーボン薄膜作製方法。 (もっと読む)


【課題】基材表面に、非晶質炭素被膜を被覆し、これを高面圧下でかつ摺動頻度の高い摺動部材として使用したとしても、その表面の非晶質炭素被膜の摩耗を抑制することができる摺動部材の製造方法を提供することにある。
【解決手段】基材10の表面に、ナノダイヤモンド粒子21が分散されたニッケルめっき被膜20を被覆する工程と、ニッケルめっき被膜20の表面に露出したナノダイヤモンド粒子21を核として、ナノダイヤモンド粒子21から膜厚方向に非晶質炭素を成長させながら、ニッケルめっき被膜20の表面に非晶質炭素被膜30を被覆する工程と、を少なくとも含む。 (もっと読む)


【課題】酸化グラフェンから生成されるグラフェンにおいて、導電性が向上したグラフェン及びその作製方法を提供する。また、充放電容量を向上させることができ、信頼性及び耐久性を含め、電気特性の良好な蓄電装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】第1の導電層上に酸化グラフェンを含む層を形成し、作用極である第1の導電層、及び、対極である第2の導電層を浸漬した電解液中で、酸化グラフェンの還元反応が生じる電位を第1の導電層の電位に供給して、グラフェンを生成する方法である。また、少なくとも正極、負極、電解液及びセパレータを有する蓄電装置において、正極及び負極の一方又は双方は、上記作製方法を用いてグラフェンを生成する蓄電装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】グラフェンライク炭素材料の樹脂からなる基材に対する密着性に優れた複合材料を提供する。
【解決手段】樹脂からなる基材と、基材表面の少なくとも一部を覆うように設けられたグラフェンライク炭素材料層とを備え、基材の表面にグラフェンライク炭素が密着している複合材料。 (もっと読む)


【課題】量産に適したグラフェンの製造方法及びグラフェン製造装置を提供すること
【解決手段】、本技術のグラフェンの製造方法は、導電性を有するフレキシブルな成膜対象物の表面に炭素源物質を接触させる。グラフェンは、成膜対象物に電流を印加して成膜対象物をグラフェンの生成温度以上に加熱することによって成膜対象物の表面において前記炭素源物質から生成される。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノ構造体の長尺化や形状の安定化が可能なカーボンナノ構造体の製造装置およびカーボンナノ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノ構造体の製造装置1は、カーボンナノ構造体20を成長させる触媒部材4と、原料ガス供給部11および原料ガス供給管5と、磁場発生部材(コイル7、8)と、加熱部材(ヒータ6)とを備える。原料ガス供給部11および原料ガス供給管5は、触媒部材4に、カーボンナノチューブ20を構成するための炭素を供給する。磁場発生部材(コイル7、8)は、触媒部材4の一方表面から、当該一方表面と対向する他方表面に向けて、磁場強度が徐々に高くなる勾配磁場(たとえば磁束線9、10で示されるカスプ磁場)を印加する。加熱部材(ヒータ6)は、触媒部材4を加熱する。 (もっと読む)


【課題】安全に、容易に且つ安価に製造できるグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】グラフェンの製造方法は、表面にグラフェン酸化物層が積層された導電性基材を、有機溶媒及び支持電解質を含有する電解液中に浸漬する。そして、導電性基材の電位を負側に印加して、グラフェン酸化物を電気化学還元してグラフェンを得る。グラフェン酸化物を低電圧で容易に還元することができ、グラフェンを安全、容易且つ安価に製造できる。 (もっと読む)


【課題】ダイヤモンドライクカーボン膜を備えた摺動部材において、せん断に対するダイヤモンドライクカーボン膜の密着性(耐引っ掻き性)を向上することで摺動部材の耐摩耗性の向上および長寿命化が可能な摺動部材を提供する。
【解決手段】基材の上に、第一層を含むDLC膜を配置した摺動部材であって、前記基材が、V,Cr,Nb,Mo,Ta,Wから選ばれる少なくとも1種を含む合金鋼であり、前記第一層がV,Cr,Nb,Mo,Ta,Wから選ばれる少なくとも1種を含み、前記基材から第一層に向けて同一の結晶構造が連続することを特徴とする摺動部材。 (もっと読む)


【課題】ハードマスクとして好適に用いられるアモルファスカーボン膜の製造法を提供する。また、半導体装置における保護膜や封止膜に適したアモルファスカーボン膜の製造法を提供する。
【解決手段】プラズマ雰囲気形成領域を内部に有するチャンバーを備えるCVD装置を用意し、チャンバー内圧を6.66Pa以下、バイアス印加手段を介して成膜用の基体を設置するステージに印加するバイアスを100〜1500W、基体の成膜時の基体温度を200℃以下、成膜用の原料ガスの流量を100〜300cc/min.(0℃、大気圧)、プラズマ雰囲気を形成するための希ガスの流量を50〜400cc/min.(0℃、大気圧)とし、基体をプラズマ雰囲気に対面させ、基体上にアモルファスカーボン膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】小径で長尺な筒状の基材であっても、基材の内面を均一厚みのDLC膜で被覆することができる被覆部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】プラズマCVD装置1は、直流パルスプラズマCVD法により被覆部材を製造するためのものである。被覆部材の製造時には、円筒状の基材200は、処理室3内で宙吊りにされる。宙吊り状態の基材200は、その軸線Cが水平方向に延びるような姿勢にされている。プラズマ電源8をオンすることにより、隔壁2と基台5との間に直流パルス電圧を印加してプラズマを発生させる。このプラズマの発生により、処理室3内において原料ガスがプラズマ化し、基材200の内周面および外周面にDLC膜が堆積される。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブの分散体および分散方法の提供。
【解決手段】カーボンナノチューブ(CNT)とポリ(3-ヘキシルチオフェン)(P3HT)の複合体をポリジメチルシロキサン(PDMS)中に均一に分散してなるカーボンナノチューブ分散体。 (もっと読む)


【課題】CNM等の難溶解性粉体の表面修飾処理を高速化して、大量の表面修飾処理を低コストで行うことのできる粉体可溶化方法及びその粉体可溶化方法に基づき粉体可溶化処理を行える粉体可溶化装置を提供することである。
【解決手段】攪拌部材4の終端部5を液中電極14の対向電極として、両電極間に高電圧高周波パルス発生装置17の合成電圧Vが印加される。合成電圧Vの印加により、水面32近傍のCNTあるいは水面32に浮遊するCNT11が粉体電極となって、液中電極14との間で液中プラズマ放電27を発生させる。液中プラズマ放電27により液中電極14の周囲が沸騰状態に達し、HやOH等のラジカルを含む活性水蒸気28が生ずる。活性水蒸気28及び液中プラズマに接触することにより、浮遊CNT粉体はCNT周囲に水和層が形成され親水化される。 (もっと読む)


【課題】基材への接着を促進するような中間層を使用しないで硬質被覆層をかみそり刃先基材に被覆する方法を提供する。
【解決手段】金属でドープ塗装されたグラファイトを有するターゲットをスパッタリングすることにより、金属ドープされたダイヤモンド状炭素からなる被覆層16をかみそり刃の研がれた刃先ならびにその近接部の基材12に直接蒸着形成し、次いでポリ四フッ化エチレンからなる外側層18を前記金属でドープ塗装されたダイヤモンド状炭素の被覆層上へ被覆形成する。 (もっと読む)


【課題】フラーレンベース材料を分離精製するフラーレンベース材料の製造方法を提供する。
【解決手段】イオン性又は分極性のフラーレンベース材料7を、泳動液2中に分散させた後、前記泳動中で複数の電極3,4間に電圧を印加する電気泳動法を用いて、イオン性又は分極性のフラーレンベース材料7を精製する。溶媒に溶けにくいフラーレンベース材料7の効率的な精製を行うことができ、純度の高いフラーレンベース材料7の大量精製が可能になった。 (もっと読む)


【課題】(1)加熱中に破損することなく(2)平坦性の高い(3)電気伝導性、熱伝導性に優れた(4)長尺のグラファイトフィルムを得る。
【解決手段】原料フィルムをグラファイト化するグラファイトフィルムの製造方法であって、炭素質容器の内面に原料フィルムを添わせて保持し、グラファイト化する。好ましくは、黒鉛化が通電しながらグラファイト化する。 (もっと読む)


【課題】新規な炭素材料を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】超臨界状態のアルゴン、二酸化炭素または窒素を雰囲気流体とする密閉容器内に炭素源となる原料化合物を供給しつつ、前記密閉容器内に設けられた2つの電極に電圧を印加することで前記2つの電極間に生起させた放電プラズマによって前記原料化合物を分解し、前記2つの電極のうちの少なくとも一方の電極上に膜状の炭素材料を形成する炭素材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、物理的な衝突を利用したナノ材料の製造方法に関し、特に、大量製造および製造コストの低減に有利なカーボンナノ材料の製造方法を提供するものである。
【解決手段】本発明のナノ材料の製造方法は、複数個の硬質物質同士の物理的な衝突によって生じる局所的な高温場を利用して、カーボンナノ材料を製造するものである。組成式に炭素を含む物質をカーボンナノ材料の原料として用い、前記高温場においてカーボンナノ材料を合成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、潤滑剤に対する濡れ性が高く、平滑な表面を有し、高硬度で緻密な水素を含む炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法、並びに、該炭素膜の形成方法により形成された水素を含む炭素膜を有する磁気記録媒体及び磁気記録再生装置を提供することを課題とする。
【解決手段】水素を含む炭素膜の形成後に、成膜室101内に不活性ガスを導入し、不活性ガスをイオン化して水素を含む炭素膜の表面に加速照射し、水素を含む炭素膜の少なくとも表層部を脱水素化する。 (もっと読む)



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