本発明は、混合金属酸化物触媒を用いた窒素酸化物の吸蔵及び分解方法に関し、より詳しくは、ハイドロタルサイト前駆体から製造された混合金属酸化物触媒を用いて窒素酸化物の吸着・貯蔵及び脱着性能を向上させることを特徴とし、これにより、還元分解が非常に難しいと言われてきた、酸素存在下のＮＯｘ及びＮ２Ｏを酸素と分離吸着した後、還元剤と共に分解脱着を容易化させることで、効率良く分解処理できるという長所がある。 （もっと読む）

下記式（Ｉ）により表されるペロフスカイト：Ａ_ｘＡ’_{（１−ｘ）}Ｂ_{（１−ｙ）}Ｂ’_ｙＯ_３−δ［式中、ＡおよびＡ’は、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｔｈを含むランタニド系列およびアクチニド系列の三価希土類元素から選択された少なくとも一種の元素を表し、Ｂは、Ｓｃ、および、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎを含むがそれらに限定されないＩＩＩＡ族元素から選択された少なくとも一種の元素を表し、Ｂ’は、遷移金属から選択されるが、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ａｇ、Ａｕに限定されない少なくとも一種の元素であり、ｘ＝０〜１、貴金属に対して０≦ｙ≦０．２、貴金属以外の遷移金属に対して０≦ｙ≦０．５、そして、δは、酸素欠損量を表す。］が、ここに開示されている。さらに、ペルフォスカイトの調製のための低温プロセスおよびその使用がここに開示されている。 （もっと読む）

【課題】３個以上の炭素原子を有するオレフィン(たとえばプロピレン)をハイドロ酸化してオレフィンオキシド(たとえばプロピレンオキシド)を形成させるための方法と触媒を開発すること。
【解決手段】本発明の方法は、水素と触媒とが存在する反応条件下でオレフィンと酸素とを接触させることを含む。本発明の触媒は、チタン含有担体〔好ましくは複数のチタン配位環境(たとえばチタノシリケートにグラフトされたチタン)を有する担体〕上に分散された酸化された金を含有する。本発明の方法は、オレフィンの転化率が良好でオレフィンオキシド選択性が高い。本発明の触媒は水素を効率的に使用し、触媒寿命が長い。 （もっと読む）

炭化水素の酸化カップリング方法、例えばメタンの酸化カップリング方法などに、酸化用触媒を反応槽内に準備しそして酸化カップリング反応を一連の反応条件下で起こさせることを含める。その酸化用触媒は、（Ａ）ランタノイド族、Ｍｇ、Ｃａおよび周期律表の４族の元素（Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆ）から成る群より選択した少なくとも１種の元素、（Ｂ）周期律表の１族の元素であるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓおよび３族の元素（ＬａおよびＡｃを包含）および５−１５族の元素から成る群より選択した少なくとも１種の元素、（Ｃ）１族の元素であるＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓおよび元素Ｃａ、ＳｒおよびＢａから成る群より選択した少なくとも１種の元素および（Ｄ）酸素を含有する。
（もっと読む）

本発明は、少なくとも一種の光触媒活性金属酸化物が塗布された基材と少なくとも一種の共触媒とからなる光触媒Ｐの製造方法であって、少なくとも、
（Ａ）少なくとも一種の基材を、少なくとも一種の光触媒活性金属酸化物の少なくとも一種の前駆化合物を含む電解液で電気化学的処理して、少なくとも一種の光触媒活性金属酸化物が塗布された基材を得る工程と、
（Ｂ）該少なくとも一種の光触媒活性金属酸化物が塗布された基材を、該少なくとも一種の共触媒の少なくとも一種の前駆化合物を含む他の電解液中で光化学的処理して該光触媒Ｐを得る工程とからなる方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、エチレン性不飽和有機化合物をヒドロシアン化してニトリル官能基を少なくとも１個含む化合物を得るための方法に関する。本発明は、液状媒体中で遷移金属から選択される金属元素と有機リンリガンドとを含む触媒の存在下でエチレン性不飽和を少なくとも１個含む炭化水素質化合物をシアン化水素との反応によってヒドロシアン化するための方法を提供するものであり、本発明の１つの実施形態において、前記有機リンリガンドは次式を有する。


ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、１〜１２個の炭素原子を有し且つヘテロ原子を含有していてもよい直鎖状若しくは分岐鎖状アルキル基、ヘテロ原子を含んでいてもよい置換若しくは非置換芳香族若しくは環状脂肪族基を含む基、カルボニル、アルコキシカルボニル若しくはアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトリル基又は１〜１２個の炭素原子を有するハロアルキル基を表わし、Ｘはフッ素及び臭素より成る群から選択されるハロゲン原子を表わす。本発明は特に、ブタジエンからアジポニトリルを合成するのに有用である。
（もっと読む）

【課題】煙道ガス又は燃焼ガス発生装置から酸化炭素又は酸化硫黄を除去する。
【解決手段】本発明は、一般に、ボイラ、ヒータ、キルン、又は他の煙道ガス又は燃焼ガス発生装置（例えば発電所、処理工場に位置するもの）の排出制御装置の分野に関し、特に、煙道ガス又は燃焼ガス発生装置からの酸化炭素（例えばＣＯ₂又はＣＯ）を除去及び又は捕捉するように設計された新規且つ有用な方法及び装置に関する。他の実施形態において、本発明は、煙道ガス又は燃焼ガス発生装置からの排出制御を達成する方法に関し、煙道ガス又は燃焼ガス発生装置の中に含まれる酸化水素又は酸化硫黄の減少又は除去を実現する方法である。 （もっと読む）

求核性化合物のトランスアルコキシル化の方法であって、アルコキシル化及び求核性化合物は、適切な容器中で組み合され、そして不均一系触媒の存在下に、少なくとも１つのヒドロキシアルキル基を前記アルコキシル化化合物から前記求核性化合物へと転移させることができる条件下で反応させられる。この方法は、特により多数のヒドロキシアルキル基を有しているアルカノールアミンから、より少数のヒドロキシアルキル基を有しているアルカノールアミンへ、ヒドロキシアルキル基を転移させるためのアルカノールアミンのトランスアルコキシル化において有用である。
（もっと読む）

本発明は、鋳型のキャビティに導入される粉末状骨材を機械的に圧密化することによって環状酸化物成形体を製造するための方法であって、得られた圧縮構造の周面が円錐台のものに対応する、方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、窒素酸化物、一酸化炭素、炭化水素、及び硫黄反応のための、白金族金属を含まない又は実質的に含まない触媒系に関する。本発明の触媒系は基材とウォッシュコートとを含む。ウォッシュコートは、担体材料酸化物、触媒、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数を含む少なくとも１種の酸化物固体を含む。触媒系はオーバーコートを任意選択的に有してもよく、おーばーこーとは、担体材料酸化物、触媒、及びこれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数を含む少なくとも１種の酸化物固体を含む。触媒は、ＺＰＧＭ遷移金属触媒、混合金属酸化物触媒、ゼオライト触媒、又はこれらの混合物からなる群から選択される１つ又は複数を含む。
（もっと読む）

本発明は、四フッ化ケイ素原料ガスを１つ以上の精製工程にさらすことにより、四フッ化ケイ素原料ガスを精製する方法であって、精製工程が、四フッ化ケイ素原料ガスをイオン交換樹脂に接触させて酸性の汚染物質を除去する工程と、吸収液体を用いた二酸化炭素の除去と低温蒸留による不活性化合物の除去とにより、四フッ化ケイ素原料ガスを触媒に接触させて一酸化炭素を除去する工程と、を含む精製方法と、四フッ化ケイ素原料ガスから一酸化炭素を除去するのに適した触媒と、そのような触媒を製造する方法とに関する。
（もっと読む）

【課題】担持された触媒成分を効率的に暖機し、早期に活性化することができる触媒担体用の多孔質担体及びその製造方法、並びにその多孔質担体を用いた触媒体を提供すること。
【解決手段】触媒体１は、多孔質担体５に触媒成分４１を担持してなる。多孔質担体５は、多数の細孔２０を有する多孔質基材２を備えている。多孔質基材２の少なくとも表面２００近傍の細孔２０内には、熱伝導率が３０Ｗ／ｍ・Ｋ以下の熱抵抗粒子３が分散されている。熱抵抗粒子３は、多孔質基材２の表面２００からの深さが２０μｍの領域内に分散されている。 （もっと読む）

供給流の芳香族トランスアルキル化及びオレフィン減少のための方法及び装置を開示する。トランスアルキル化条件によって、供給流に対して増加したキシレン濃度及び減少したオレフィン濃度を有する生成物が与えられる。本方法及び装置をキシレン製造設備において用いて、水素処理、水素化、或いはクレー及び／又は分子篩による処理のような供給材料の予備処理の必要性を最小にするか又は回避することができる。 （もっと読む）

【課題】 新しいタイプのナノアロイ組成物の出現が要望されている。
【解決手段】 一般式（Ａ_ａ）_ｎ（Ｂ_ｂ）_ｎ（Ｃ_ｃ）_ｎ（Ｄ_ｄ）_ｎ（Ｅ_ｅ）_ｎ（．．．）_ｎにより表される合金（式中、Ａは酸素貯蔵剤であり；Ｂは焼結防止剤であり；Ｃは酸化触媒であり；Ｄは還元触媒であり；ＥはＮＯ_ｘ吸収剤であり；各下付き文字は組成の化学量論を表し；ｎはゼロよりも大きいか、もしくは等しく；ｎの和は２よりも大きいか、もしくは等しく；そして合金が少なくとも２種の異なる金属を含む）を含んでなる組成物が本発明により提供される。 （もっと読む）

【課題】粒子寸法が制御され、顕著な副生物がなく、安定化された金属コロイドを提供する。
【解決手段】周期律表のＩｂ族、ＩＩｂ族、ＩＩＩ族、ＩＶ族、Ｖ族、ＶＩ族、ＶＩＩｂ族、ＶＩＩＩ族、ランタノイド族及び／又はアクチノイド族の金属を含んで成り、粒子寸法が５０ｎｍ以下であり、支持電解質及び／又は安定剤として、第４級アンモニウム塩又はホスホニウム塩（それぞれＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４Ｎ^＋Ｘ⁻又はＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４Ｐ^＋Ｘ⁻であって、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は同じ又は異なり、Ｃ_１−１８アルキル又はアリール基である。）が存在する、有機媒体に溶解性もしくは再分散性である金属コロイド、２成分系金属コロイドまたは多成分系金属コロイドである。更に、同様の水溶性金属コロイド、２成分系金属コロイドまたは多成分系金属コロイドである。 （もっと読む）

本院では、多孔性有機無機ハイブリッド材料又は多孔性有機無機メソポーラス材料の配位的に不飽和な金属部位に、選択的に、有機物、無機物、イオン性液体及び有機無機ハイブリッド物質を段階的に官能基化させ、吸着剤、気体貯蔵体、センサー、メンブレイン、機能性薄膜、触媒及び触媒担体等に用いられ得る多孔性有機無機ハイブリッド材料又は多孔性有機無機メソポーラス材料の表面官能基化方法並びにこの方法を用いて製造された表面官能基化された多孔性有機無機ハイブリッド材料の不均一触媒反応への適用を開始している。
（もっと読む）

一般に、ａ）２価金属化合物と３価金属化合物との物理的混合物を粉砕するステップと、ｂ）前記粉砕された物理的混合物を、約２００℃〜約８００℃の範囲の温度でか焼するステップと、ｃ）前記か焼された混合物を水性懸濁液中で再水和させて、添加剤を含有する陰イオン性粘土を形成するステップと、を含み、添加剤は前記ステップ（ａ）の物理的混合物中に任意選択的に存在し、かつ、前記ステップ（ｃ）の水性懸濁液中に存在し、また前記添加剤は実質上バナジウムを含まない、添加剤を含有する陰イオン性粘土の調製のためのプロセスを開示する。
（もっと読む）

【課題】全細孔容積の耐熱性が改善された多孔質ジルコニア系粉末及びその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】（１）１０００℃で３時間熱処理後の全細孔容積が少なくとも０．７５ｍｌ／ｇであり、且つ、１０００℃で３時間熱処理後の１０〜１００ｎｍの直径を有する細孔の合計容積が全細孔容積の少なくとも３０％である多孔質ジルコニア系粉末、及び
（２）ジルコニウム塩溶液に硫酸塩化剤を添加することにより塩基性硫酸ジルコニウムを生成させ、次に前記塩基性硫酸ジルコニウムを中和することにより水酸化ジルコニウムを生成させ、次に前記水酸化ジルコニウムを熱処理することにより多孔質ジルコニア系粉末を製造する方法であって、前記ジルコニウム塩溶液に前記硫酸塩化剤を添加する際に、オートクレーブ中で、温度１００℃以上の前記ジルコニウム塩溶液に前記硫酸塩化剤を添加することを特徴とする多孔質ジルコニア系粉末の製造方法。 （もっと読む）

気相中での化学反応を触媒する触媒アセンブリであって、固体担体であって、その表面（Σ）に前記固体担体（Σ）とは異なる化学的性質を有しているアンカリング酸化物（Ｏ）が付着し、前記アンカリング酸化物は前記固体担体の前記表面（Σ）のゼロ以外の面積割合を被覆した固体担体と、考慮される前記化学反応について触媒活性を有している金属相（Ｍ）とからなり、前記触媒活性金属相（Ｍ）は、前記固体担体（Σ）にグラフトされた前記アンカリング酸化物（Ｏ）を介して前記固体担体（Σ）上へとアンカリングされていることを特徴とするアセンブリ。 （もっと読む）

開示技術は、少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で行うためのプロセスに関する。触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含む。一実施態様では、プロセスマイクロチャネルは、流体の流れを撹乱するための１つ以上の構造体を含むプロセス処理区域と、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体を含む反応区域とを含み、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体は、反応体が１つ以上の構造体を通って流れ、触媒と接触することができるようにする開口部を含む。本プロセスは、少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体とを含む反応体混合物を形成させる工程、反応体混合物をプロセス処理区域の中に流し、流体の流れを撹乱するための１つ以上の構造体と接触させ、液体反応体と気体反応体との混合を促進する工程、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体の開口部の中に反応体混合物を流して触媒と接触させる工程、および少なくとも１つの液体反応体を少なくとも１つの気体反応体と反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程を含む。一実施態様では、本プロセスは、少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成を行うためのプロセスに関する。触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含む。本プロセスは、Ｈ_２とＣＯとを含む反応体をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、反応体の入り口空塔速度は少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を反応体と接触させる工程、および触媒の存在下で反応体を反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程を含む。
（もっと読む）