マイクロチャネル技術を用いる触媒反応プロセス
開示技術は、少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で行うためのプロセスに関する。触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含む。一実施態様では、プロセスマイクロチャネルは、流体の流れを撹乱するための１つ以上の構造体を含むプロセス処理区域と、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体を含む反応区域とを含み、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体は、反応体が１つ以上の構造体を通って流れ、触媒と接触することができるようにする開口部を含む。本プロセスは、少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体とを含む反応体混合物を形成させる工程、反応体混合物をプロセス処理区域の中に流し、流体の流れを撹乱するための１つ以上の構造体と接触させ、液体反応体と気体反応体との混合を促進する工程、触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体の開口部の中に反応体混合物を流して触媒と接触させる工程、および少なくとも１つの液体反応体を少なくとも１つの気体反応体と反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程を含む。一実施態様では、本プロセスは、少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成を行うためのプロセスに関する。触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含む。本プロセスは、Ｈ２とＣＯとを含む反応体をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、反応体の入り口空塔速度は少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を反応体と接触させる工程、および触媒の存在下で反応体を反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化した均一系触媒を含み、前記プロセスマイクロチャネルは、１つ以上の内部障害物を含むプロセス処理区域と、前記触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体を含む反応区域とを含み、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記反応体が、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の中を流れることができるようにする開口部を含み、
前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とを含む反応体混合物を形成させる工程、
前記反応体混合物を前記プロセス処理区域の中に流して前記１つ以上の内部障害物と接触させ、前記液体反応体と前記気体反応体との混合を促進する工程、
前記反応体混合物を、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の中の開口部の中に流し、前記触媒と接触させる工程、および
前記少なくとも１つの液体反応体を前記少なくとも１つの気体反応体と反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項２】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、前記同じ構造を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、異なる構造を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記１つ以上の内部障害物は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中に形成され、および／または前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている１つ以上の表面構成要素を含む、請求項１から３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている表面構成要素を含む、請求項１から４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記１つ以上の構造体を被覆する触媒を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記１つ以上の構造体上に成長した触媒を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記触媒は、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体と接触している固体粒子を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記１つ以上の内部障害物は、前記プロセス処理区域の中の流体の流れの前記バルク流れ方向に対して垂直な少なくとも１つの寸法を有し、前記寸法は、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の前記開口部の前記直径より大きい、請求項１から８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記反応区域の中の前記反応体混合物の前記空塔速度は、少なくとも約０．０１ｍ／ｓである、請求項１から９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセス処理区域の下流の前記プロセスマイクロチャネルの中に配置された複数の平行なサブマイクロチャネルを含み、前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの中に配置される、請求項１から１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁を被覆する、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁上に成長した、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの中の固体粒子を含む、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記プロセス処理区域と前記反応区域との間に１つ以上の分流区域が配置され、各分流区域は、前記反応体混合物の流れを２つ以上の小さくなった流れに分流する、請求項１から１４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記プロセス処理区域と前記反応区域との間に２つ以上の分流区域が配置され、前記２つ以上の分流区域は直列に配置され、１つの分流区域は前記次の分流区域の下流にある、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中および／または上に表面構成要素が配置されている、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記サブマイクロチャネルの中の前記表面構成要素は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中にエッチングされている、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記サブマイクロチャネルの前記内壁は波形である、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記１つ以上の内部障害物、および／または前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの内壁から突き出ている複数の相互に連結した傾斜のある角度構造体を含み、前記プロセスマイクロチャネルは、前記相互に連結した傾斜のある角度構造体に隣接する開放通路を有する、請求項１から１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記触媒の上に液膜層があり、前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項１から２０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの液体反応体は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの気体反応体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項１から２４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記プロセス処理区域の前記長さに対する前記反応区域の前記長さの前記比は、約０．０１から約１０００の前記範囲にある、請求項１から２５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記１つ以上の分流区域の前記長さに対する前記反応区域の前記長さの前記比は、約０．１から約１０００の前記範囲にある、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項１から２７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とは、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項１から２８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記プロセスマイクロチャネルはマイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は原料流ヘッダを含み、前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とは前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項１から２９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記少なくとも１つの気体反応体は、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１から３０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記少なくとも１つの気体反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項３１に記載のプロセス。
【請求項３３】
前記少なくとも１つの気体反応体は、前記少なくとも１つの液体反応体と前記プロセス処理区域の中で混合される、請求項１から３２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３４】
前記反応体混合物は、液相と気相とを含み、前記気相は、約０．１から約２５ミクロンの前記範囲の体積基準の平均直径と、約１から約５の前記範囲のスパンとを有する気泡を含む、請求項１から３３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１から３４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１から３５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記プロセスマイクロチャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミックス、ガラス、重合体とガラス繊維とを含む複合材料、石英、シリコン、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項１から３６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルに隣接している、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３９】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルと熱接触している、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含む、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記熱交換チャネルは、マイクロチャネルを含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記熱交換チャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記熱交換チャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４４】
前記熱交換チャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミック、ガラス、重合体とガラス繊維とを含むコンポジット、石英、ケイ素、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４５】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体がある、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４６】
前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中で相変化する、請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４７】
前記熱交換チャネルの中で吸熱プロセスが実行される、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４８】
前記熱交換チャネルの中で発熱プロセスが実行される、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４９】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して交差流である、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５０】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して並流である、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５１】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記少なくとも１つの液体反応体、前記少なくとも１つの気体反応体、前記少なくとも１つの反応生成物またはそれらの２つ以上の混合物を含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５２】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、空気、水蒸気、液体水、一酸化炭素、二酸化炭素、気体窒素、液体窒素、不活性気体、気体炭化水素、油および液体炭化水素の１つ以上を含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５３】
前記発熱源および／または吸熱源と前記プロセスマイクロチャネルとの間の前記熱の流束は、前記プロセスマイクロチャネルの表面積の平方センチメートルあたり約０．０１から約５００ワットの前記範囲にある、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項５４】
前記プロセスマイクロチャネルに入る前記第１の反応体の前記温度は、前記プロセスマイクロチャネルから出る前記生成物の前記温度から約２００℃の範囲内にある、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項５５】
前記１つ以上の内部障害物、および／または前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中に形成され、および／または前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている１つ以上の表面構成要素を含む、請求項１から５４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５６】
前記表面構成要素は、前記マイクロチャネル内壁の１つ以上の中のくぼみおよび／または前記マイクロチャネル内壁の１つ以上からの突起物の前記形であり、前記突起物は、前記マイクロチャネルを通る流体の流れの前記方向に対して傾斜した角度の配向を有する、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５７】
前記表面構成要素は、少なくとも２つの表面構成要素領域の前記形であり、第１の表面構成要素領域の中で前記第１の流体と第２の流体との混合が実行された後、第２の表面構成要素領域の中を流れ、前記第２の表面構成要素領域の中の前記流れパターンは、前記第１の表面構成要素領域の中の前記流れパターンと異なる、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５８】
前記表面構成要素は、互いの上に積層され、および／または３次元パターンで絡み合った２つ以上の層を含む、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５９】
前記表面構成要素は、円形、楕円形、正方形、長方形、格子模様、Ｖ字形、波形またはそれらの組み合わせの前記形状である、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項６０】
前記表面構成要素は、副構成要素を含み、前記表面構成要素の前記主壁は、きざみ目、波、ギザギザ、孔、バリ、格子、貝またはそれらの組み合わせの前記形状のより小さな表面構成要素をさらに含む、請求項５３に記載のプロセス。
【請求項６１】
前記化学反応は、フィッシャー‐トロプシュ合成反応、酸化反応、水素化分解反応、水素化反応、水和反応、カルボニル化反応、二量化反応、三量化反応、オリゴマー化反応、重合反応、脱硫反応、過酸化水素合成反応、アルコールのアルデヒドまたはカルボニルへの選択酸化、１つ以上の汚染物質の湿式酸化、水素化処理反応、アルキル化反応、アシル化反応、光触媒反応、またはそれらの２つ以上の組み合わせである、請求項１から６０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６２】
前記触媒は、少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒、酸化触媒、水素化分解触媒、水素化触媒、水和触媒またはカルボニル化触媒を含む、請求項１から６１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６３】
前記触媒は活性部分を含み、前記活性部分は、前記式
ＣｏＭ１ａＭ２ｂＯｘ
式中、Ｍ１は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓまたはそれらの混合物、Ｍ２は、Ｌｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｚｒ、Ｌａ、Ａｃ、Ｃｅ、Ｔｈまたはそれらの２つ以上の混合物、ａは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｂは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｘは、存在する前記元素の前記原子価要件を満たすために必要な酸素の前記数、によって表される組成を含む、請求項１から６２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６４】
前記触媒は、アルミナに担持したコバルトを含む、請求項１から６３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６５】
前記触媒は、少なくとも約２５重量％のコバルト担持率レベルと、少なくとも約３％のコバルト分散度とを有する、請求項１から６４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６６】
前記触媒は、傾斜触媒である、請求項１から６５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６７】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、熱伝導性材料で作られている、請求項１から６６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６８】
少なくとも１つの第１の反応体と少なくとも１つの第２の反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で実行するためのプロセスであって、前記触媒は、固体触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、第２の開放断面積は第１の開放断面積より小さく、
前記反応体の少なくとも１つを、前記第１のプロセス処理区域を通して流した後、前記第２のプロセス処理区域を通して前記プロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体は、少なくとも１つの液体と少なくとも１つまたは２つ以上の気体とを含み、これらの反応体は少なくとも１つの液体生成物を生成し、前記少なくとも１つの反応体の前記局所速度は、前記少なくとも１つの反応体が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れこれを通って流れるとき増加する工程、
前記少なくとも１つの触媒を、前記少なくとも１つの第１の反応体および少なくとも１つの第２の反応体と接触させる工程、
前記少なくとも１つの触媒の上に液膜層を形成させる工程、
前記少なくとも１つの第１の反応体と前記少なくとも１つの第２の反応体とを反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項６９】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度は、約０．０１から約１００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７０】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度は、約０．１から約２５０ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７１】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第２のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度は、約０．０１から約２００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７２】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第２のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度は、約０．１から約５００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７３】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度に対する前記第２のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度の前記比は、約１．２から約１００の前記範囲にある、請求項６８から７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７４】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度に対する前記第２のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度の前記比は、約１．２から約１００の前記範囲にある、請求項６８から７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７５】
前記第２の開放断面積に対する前記第１の開放断面積の前記比は、約１．２から約２５の前記範囲にある、請求項６８から７４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７６】
前記触媒上の前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項６８から７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７７】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記液体は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７８】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記気体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７９】
前記少なくとも１つの生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８０】
前記第２のプロセス処理区域は、前記反応区域の上流にある、請求項６８から８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８１】
前記反応区域は、前記第２のプロセス処理区域を含む、請求項６８から８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８２】
前記プロセスマイクロチャネルは、２つ以上の側壁を含み、前記２つ以上の側壁は、前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ互いに接近して前記第１のプロセス処理区域の中の前記開放断面積より小さな前記第２のプロセス処理区域の中の開放断面積を提供する、請求項６８から８１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８３】
前記第２のプロセス処理区域は、前記第１のプロセス処理区域の前記開放断面積より小さな開放断面積を前記第２のプロセス処理区域に提供する１つ以上の内部障害物を含む、請求項６８から８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８４】
前記内部障害物は、球状の物体および／または表面構成要素を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８５】
前記内部障害物は、前記触媒を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８６】
前記内部障害物は、前記触媒のための１つ以上の担体を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８７】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項６８から８６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８８】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の下流にある少なくとも１つの追加の区域をさらに含み、前記少なくとも１つの追加の区域は、前記反応区域の前記断面積より大きな断面積を有する、請求項６８から８７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８９】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項６９から８８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９０】
前記第１の反応体と前記第２の反応体とは、前記プロセスマイクロチャネルの上流、および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項６９から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９１】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記第１の反応体と前記第２の反応体とは、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９２】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記第２の反応体は、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９３】
前記第２の反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項９２に記載のプロセス。
【請求項９４】
前記第２の反応体は、前記反応区域の中で前記第１の反応体と混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９５】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記第２の反応体は、前記混合区域の中で前記第１の反応体と混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９６】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記混合区域の中で前記第２の反応体の一部が前記第１の反応体と混合され、前記第２の反応体の一部は前記反応区域の中で前記第１の反応体と接触する、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９７】
前記化学反応は、フィッシャー‐トロプシュ合成反応、酸化反応、水素化分解反応、水素化反応、水和反応、カルボニル化反応、二量化反応、三量化反応、オリゴマー化反応、重合反応、脱硫反応、過酸化水素合成反応、アルコールのアルデヒドまたはカルボニルへの選択酸化、１つ以上の汚染物質の湿式酸化、水素化処理反応、アルキル化反応、アシル化反応、光触媒反応またはそれらの２つ以上の組み合わせである、請求項６８から９６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９８】
少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、前記第２の開放断面積は、前記第１の開口断面積より小さく、
前記第１のプロセス処理区域と、続いて前記第２のプロセス処理区域とを通して少なくとも１つの反応体組成物をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記少なくとも１つの反応体組成物は、少なくとも１つの液体と少なくとも１つまたは２つ以上の気体とを含み、これらは少なくとも１つの液体生成物を生成し、前記少なくとも１つの反応体組成物の前記局所速度は、前記少なくとも１つの反応体組成物が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れこれを通って流れるとき増加する工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記少なくとも１つの反応体組成物と接触させる工程、
前記少なくとも１つの触媒の上に液膜層を形成させる工程、
前記少なくとも１つの反応体組成物を反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項９９】
少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成反応を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
Ｈ２とＣＯとを含む反応体をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体の入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項１００】
前記反応体は、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、１から約４の炭素原子の炭化水素、またはそれらの２つ以上の混合物をさらに含む、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１０１】
前記反応体は、１つ以上の希釈材料をさらに含む、請求項９９または１００に記載のプロセス。
【請求項１０２】
ＣＯに対するＨ２の前記モル比は、最大約２．７である、請求項９９から１０１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０３】
前記触媒は被膜層を含み、前記被膜層の前記厚さは、少なくとも約１１０ミクロンである、請求項９９から１０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０４】
前記触媒は固体粒子を含み、前記固体粒子の前記平均粒子サイズは、少なくとも約２２５ミクロンである、請求項９９から１０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０５】
ＣＯの前記体積計測消費重量は、少なくとも約１０ｇ‐ｍｏｌ／ｋｇ‐触媒／時間・活性触媒、モル基準のメタンへの選択率は、サイクルあたり約１５％より小さい、請求項９９から１０４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０６】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域の中で１つ以上の追加の反応体および／または希釈材料が前記反応体に加えられる、請求項９９から１０４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０７】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域の中の前記プロセスマイクロチャネルの前記開放断面積は、前記反応区域の上流にある前記プロセスマイクロチャネルの前記開放断面積より狭い、請求項９９から１０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０８】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域は、１つ以上の壁構造体をさらに含み、前記壁構造体は、前記反応区域から液体を取り出す、請求項９９から１０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０９】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項９９から１０８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１０】
前記プロセスマイクロチャネルの中に液体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記液体の前記動的圧力は、約０．１から約１００Ｐａの前記範囲にある、請求項９９から１０９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１１】
前記プロセスマイクロチャネルの中に気体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記気体の前記動的圧力は、約０．５から約２００Ｐａの前記範囲にある、請求項９９から１１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１２】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項９９から１１１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１３】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１４】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記反応体は、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１５】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記反応体の１つは、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１６】
前記１つの反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１１５に記載のプロセス。
【請求項１１７】
前記反応体は、前記反応区域の中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１８】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体は、前記混合区域の中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１９】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体の前記一方の一部は、前記混合区域の中で前記他方の反応体と混合され、前記一方の反応体の一部は、前記反応区域の中で前記他方の反応体と接触する、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２０】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項９９から１１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２１】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項９９から１１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２２】
前記プロセスマイクロチャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミックス、ガラス、重合体とガラス繊維とを含む複合体、石英、シリコン、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項９９から１２１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２３】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルに隣接している、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２４】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルと熱接触している、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２５】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含む、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２６】
前記熱交換チャネルは、マイクロチャネルを含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２７】
前記熱交換チャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２８】
前記熱交換チャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２９】
前記熱交換チャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミック、ガラス、重合体とガラス繊維とを含むコンポジット、石英、ケイ素、またはそれらの２つ以上の組み合わせ含む材料で作られる、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３０】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体がある、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３１】
前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中で相変化する、請求項１３０に記載のプロセス。
【請求項１３２】
前記熱交換チャネルの中で吸熱プロセスが実行される、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３３】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して交差流である、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３４】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して並流または向流である、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３５】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記第１の反応体、前記第２の反応体、前記生成物、またはそれらの２つ以上の混合物を含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３６】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、空気、水蒸気、液体の水、一酸化炭素、二酸化炭素、気体窒素、液体窒素、不活性気体、気体炭化水素、油および液体炭化水素の１つ以上を含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３７】
前記発熱源および／または吸熱源と前記プロセスマイクロチャネルとの間の前記熱の流束は、前記プロセスマイクロチャネルの表面積の平方センチメートルあたり約０．０１から約５００ワットの前記範囲にある、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１３８】
前記プロセスマイクロチャネルに入る前記第１の反応体の前記温度は、前記プロセスマイクロチャネルから出る前記生成物の前記温度から約２００℃の範囲内にある、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１３９】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記マイクロチャネル内の流れを変化させるための、１つ以上の内壁の中および／または上に形成された表面構成要素を含む、請求項９９から１３８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４０】
前記表面構成要素は、前記プロセスマイクロチャネル内壁の１つ以上の中のくぼみおよび／または前記プロセスマイクロチャネル内壁の１つ以上からの突起物の形であり、前記くぼみまたは突起物は、前記マイクロチャネルを通る流体の流れの前記方向に対して傾斜のある角度の配向を有する、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４１】
前記表面構成要素は、少なくとも２つの表面構成要素領域の形であり、前記第１の流体と第２の流体との混合が第１の表面構成要素領域の中で実行された後、第２の表面構成要素領域の中を流れ、前記第２の表面構成要素領域の中の前記流れのパターンは、前記第１の表面構成要素領域の中の前記流れのパターンと異なる、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４２】
前記表面構成要素は、互いの上に積層され、および／または３次元パターンで絡み合った２つ以上の層を含む、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４３】
前記表面構成要素は、円形、楕円形、正方形、長方形、格子模様、Ｖ字形、波形またはそれらの組み合わせの形である、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４４】
前記表面構成要素は、副構成要素を含み、前記表面構成要素の前記主壁は、きざみ目、波、ギザギザ、孔、バリ、格子、貝またはそれらの組み合わせの形のより小さな表面構成要素をさらに含む、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４５】
前記プロセスマイクロチャネルは、１つ以上の側壁と、前記側壁の１つ以上の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記開口区間は、内部部分と、前記開口区間の前記内部部分の上にある表面構成要素シートとを含み、前記表面構成要素シートの中および／または上に表面構成要素がある、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１４６】
前記触媒は活性部分を含み、前記活性部分は、前記式
ＣｏＭ１ａＭ２ｂＯｘ
式中、Ｍ１は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓまたはそれらの混合物、Ｍ２は、Ｌｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｚｒ、Ｌａ、Ａｃ、Ｃｅ、Ｔｈまたはそれらの２つ以上の混合物、ａは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｂは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｘは、存在する前記元素の前記原子価要件を満たすために必要な酸素の前記数、によって表される組成物を含む、請求項９９から１４５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４７】
前記触媒は、アルミナに担持したコバルトを含む、請求項９９から１４５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４８】
前記触媒は、少なくとも約２５重量％のコバルト担持率レベルと、少なくとも約３％のコバルト分散度とを有する、請求項１４７に記載のプロセス。
【請求項１４９】
前記触媒は、傾斜触媒である、請求項９９から１４８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５０】
前記触媒は、固体粒子を含む、請求項９９から１４９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５１】
前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの少なくとも１つの内壁上にある、請求項９９から１５０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５２】
前記触媒は、担体に担持されている、請求項９９から１５１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５３】
前記担体は、シリカゲル、発泡銅、焼結ステンレス鋼繊維、スチールウール、アルミナ、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリスルホン酸エステル、ポリ（テトラフルオロエチレン）、鉄、ニッケルスポンジ、ナイロン、ポリ二フッ化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンエチルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリブチレンまたはそれらの２つ以上の組み合わせを含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５４】
前記担体は、熱伝導性材料を含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５５】
前記担体は、Ｎｉ、ＣｒおよびＦｅを含む合金かまたはＦｅ、Ｃｒ、ＡｌおよびＹを含む合金を含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５６】
前記担体は、側流構成、貫流構成、ハニカム構造または蛇行構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５７】
前記担体は、発泡体、フェルト、詰め物、フィンまたはそれらの２つ以上の組み合わせの前記構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５８】
前記担体は、隣接するギャップを有する側流構成、隣接するギャップを有する発泡体構成、ギャップを有するフィン構造体、または流れのためのギャップを有するガーゼ構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５９】
前記担体は、少なくとも１つのフィンを含むフィンアセンブリを含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１６０】
前記フィンアセンブリは、複数の平行な離間したフィンを含む、請求項１５９に記載のプロセス。
【請求項１６１】
前記触媒は、担体に担持され、前記担体は、マイクログルーブ型担体ストリップを含み、前記マイクログルーブ型担体ストリップは、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、第１の表面、第１の側端、第２の側端、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在する前端、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在する後端、前記第１の表面にあって前記中心軸に対してある角度で前記第１の側端と前記第２の側端との間に延在する、複数の平行なマイクログルーブを有する、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６２】
前記担体ストリップは、熱伝導性材料で作られている、請求項１６１に記載のプロセス。
【請求項１６３】
前記触媒は、前記マイクログルーブの中に配置された固体粒子を含む、請求項１６１に記載のプロセス。
【請求項１６４】
前記触媒は複合担持構造体に担持されており、
前記複合担持構造体は、
第１の表面、第２の表面、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、前端、後端、第１の側端、第２の側端を含む少なくとも１つの第１の担体ストリップであって、前記前端と前記後端とは、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記前端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記第１の側端から前記後端へ延在する第１の担体ストリップと、
第１の表面、第２の表面、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、前端、後端、第１の側端、第２の側端を含む少なくとも１つの第２の担体ストリップであって、前記前端と前記後端とは、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記前端から前記第１の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記第２の側端から前記後端へ延在する第２の担体ストリップとを含んでおり、
前記第１の担体ストリップは、前記第２の担体ストリップに隣接し、前記第１の担体ストリップの前記第２の表面は、前記第２の担体ストリップの前記第１の表面と接触し、
前記担体ストリップのそれぞれの前記前端および後端は開放され、前記前端および後端を通って流体が流れることが可能であり、
前記担体ストリップのそれぞれの前記側端は閉ざされ、前記側端を通って流体が流れることはできず、
前記マイクログルーブのそれぞれは、流体が前記担体ストリップを通って１つの担体ストリップから別の担体ストリップへ流れることが十分に可能であるように、前記担体ストリップの中に進入し、
前記第１の担体ストリップの前記第１の表面の前記マイクログルーブは、前記第１の担体ストリップの前記前端および前記第１の側端の方へ配向し、前記中心軸と第１の角度を形成し、
前記第２の担体ストリップの前記第１の表面の前記マイクログルーブは、前記第２の担体ストリップの前記前端および前記第１の側端の方へ配向し、前記中心軸と第２の角度を形成し、前記第１の角度は、前記第２の角度と異なり、前記第１の担体ストリップの前記マイクログルーブと前記第２の担体ストリップの前記マイクログルーブとの交差を提供する、
請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６５】
前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中にあり、前記反応区域は、前記プロセスマイクロチャネルの断面積の約５％から約９５％を含むバルク流路を有する、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６６】
前記プロセスマイクロチャネル内の前記温度は、約１５０℃から約２７０℃の前記範囲にある、請求項９９から１６５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６７】
前記プロセスマイクロチャネル内の前記圧力は、少なくとも約５気圧である、請求項９９から１６６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６８】
前記プロセスマイクロチャネルの中の流体の前記流れの前記空間速度は、少なくとも約１０００ｈｒ−１である、請求項９９から１６７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６９】
前記プロセスマイクロチャネルの中の流体の前記流れの前記圧力降下は、前記プロセスマイクロチャネルの長さのメートルあたり最大約１５気圧である、請求項９９から１６８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７０】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含み、前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中を流れ、前記熱交換チャネルの中を流れる前記熱交換流体の前記圧力降下は、前記熱交換チャネルの長さのメートルあたり最大約１０気圧である、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１７１】
ＣＯの前記反応率は、サイクルあたり少なくとも約５０％である、請求項９９から１７０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７２】
メタンへのモル基準の前記選択率は、サイクルあたり約２５％以下である、請求項９９から１７１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７３】
モル基準の生成物の前記収率は、サイクルあたり少なくとも約２５％である、請求項９９から１７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７４】
前記生成物は、前記プロセスマイクロチャネルから取り出され、前記プロセスは、前記プロセスマイクロチャネルを通して再生用流体を流し、前記触媒と接触させる工程をさらに含む、請求項９９から１７３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７５】
ＣＯに対するＨ２の前記モル比は、約０．８から約２．７の前記範囲にある、請求項９９から１７４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７６】
前記生成物は、大気圧で約３５０℃以下の温度で沸騰する炭化水素を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７７】
前記生成物は、大気圧で約３５０℃以上の温度で沸騰する炭化水素を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７８】
前記生成物は、中間留分の前記沸点範囲を有する炭化水素混合物を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７９】
前記生成物は、少なくとも１つのオレフィンを含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８０】
前記生成物は、ノルマルパラフィン、イソパラフィン、またはそれらの混合物を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８１】
前記生成物は、水素化分解、水素化異性化または脱ロウを用いてさらにプロセス処理される、請求項９９から１８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８２】
前記生成物は、さらにプロセス処理され、潤滑剤基油またはディーゼル燃料を形成する、請求項９９から１８１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８３】
前記反応は、連鎖成長反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８４】
前記反応は、オリゴマー化反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８５】
前記反応は、重合反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８６】
少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、前記第２の開放断面積は、前記第１の開放断面積より小さく、
前記第１のプロセス処理区域と、続いて前記第２のプロセス処理区域とを通して前記プロセスマイクロチャネルの中にＨ２とＣＯとを含む反応体を流す工程であって、前記反応体の前記局所速度は、前記反応体が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れ、これを通って流れるとき増加する工程、
前記フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を前記反応体と接触させる工程、
前記触媒の上に液膜層を形成させる工程、
および前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項１８７】
前記反応体は、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、１から約４の炭素原子の炭化水素、またはそれらの２つ以上の混合物をさらに含む、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１８８】
前記第１のプロセス処理区域の中に気相があり、前記第１のプロセス処理区域の中の気体の前記局所速度は、約０．１から約２５０ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１８９】
前記第２のプロセス処理区域の中に液相があり、前記第２のプロセス処理区域の中の液体の前記局所速度は、約０．０１から約２００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１９０】
前記第２のプロセス処理区域の中に気相があり、前記第２のプロセス処理区域の中の気体の前記局所速度は、約０．１から約５００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１９１】
前記第２の開放断面積に対する前記第１の開放断面積の前記比は、約１．２から約２５の前記範囲にある、請求項１８６から１９０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９２】
前記触媒上の前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項１８６から１９１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９３】
前記反応体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１８６から１９２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９４】
前記生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１８６から１９２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９５】
前記第２のプロセス処理区域は、前記反応区域の上流にある、請求項１８６から１９４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９６】
前記反応区域は、前記第２のプロセス処理区域を含む、請求項１８６から１９４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９７】
前記プロセスマイクロチャネルは、２つ以上の側壁を含み、前記２つ以上の側壁は、前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域にかけて互いに接近し、前記第１のプロセス処理区域の中の開放断面積より小さな前記第２のプロセス処理区域の中の開放断面積を提供する、請求項１８６から１９６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９８】
前記第２のプロセス処理区域は、前記第１のプロセス処理区域の開放断面積より小さな開放断面積を有する前記第２のプロセス処理区域を提供する１つ以上の内部障害物を含む、請求項１８６から１９７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９９】
前記内部障害物は、球状物体および／または表面構成要素を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２００】
前記内部障害物は、前記触媒を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２０１】
前記内部障害物は、前記触媒のための１つ以上の担体を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２０２】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項１８６から２０１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０３】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の下流にある少なくとも１つの追加の区域をさらに含み、前記少なくとも１つの追加の区域は、前記反応区域の前記断面積より大きな断面積を有する、請求項１８６から２０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０４】
前記プロセスマイクロチャネルの中に液体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記液体の前記動的圧力は、約０．１から約１００Ｐａの前記範囲にある、請求項１８６から２０３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０５】
前記プロセスマイクロチャネルの中に気体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記気体の前記動的圧力は、約０．５から約２００Ｐａの前記範囲にある、請求項１８６から２０３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０６】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項１８６から２０５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０７】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０８】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記反応体は、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０９】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記反応体の１つは、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１０】
前記１つの反応体は、前記開口区間を通って第２の反応体流チャネルから前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項２０９に記載のプロセス。
【請求項２１１】
前記反応体は、前記反応区域の中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１２】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体は、前記混合区域の中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１３】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体の前記一方の一部は、前記混合区域の中で前記他方の反応体と混合され、前記一方の反応体の一部は、前記反応区域の中で前記他方の反応体と接触する、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１４】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、
反応体を前記プロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体は、液体と気体との反応体または反応して液体生成物を生成する気体反応体を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、２つ以上の炭化水素の混合物を含む工程、
を含むプロセス。
【請求項２１５】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、反応して液体生成物を生成する液体および気体または気体状反応体を含み、前記反応体の１つはＨ２を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、２つ以上の炭化水素の混合物を含む工程、
を含むプロセス。
【請求項２１６】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、液体と、反応して液体生成物を生成する気体または気体反応体とを含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、炭化水素混合物を含み、前記混合物の少なくとも約１０重量％は、大気圧で約２５℃から約３５０℃の前記範囲の温度で沸騰し、前記混合物の約５重量％は、大気圧で約３５０℃より高い温度で沸騰する工程、
を含むプロセス。
【請求項２１７】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、液体と気体との反応体または反応して液体生成物を生成する気体反応体を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、炭化水素混合物を含み、前記炭化水素混合物の少なくとも約５重量％は、少なくとも約５００の数平均分子量を有する炭化水素を含む工程、
を含むプロセス。
【請求項１】
少なくとも１つの液体反応体と少なくとも１つの気体反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化した均一系触媒を含み、前記プロセスマイクロチャネルは、１つ以上の内部障害物を含むプロセス処理区域と、前記触媒と接触および／または担持するための１つ以上の構造体を含む反応区域とを含み、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記反応体が、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の中を流れることができるようにする開口部を含み、
前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とを含む反応体混合物を形成させる工程、
前記反応体混合物を前記プロセス処理区域の中に流して前記１つ以上の内部障害物と接触させ、前記液体反応体と前記気体反応体との混合を促進する工程、
前記反応体混合物を、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の中の開口部の中に流し、前記触媒と接触させる工程、および
前記少なくとも１つの液体反応体を前記少なくとも１つの気体反応体と反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項２】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、前記同じ構造を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、異なる構造を有する、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記１つ以上の内部障害物は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中に形成され、および／または前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている１つ以上の表面構成要素を含む、請求項１から３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている表面構成要素を含む、請求項１から４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記１つ以上の構造体を被覆する触媒を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記１つ以上の構造体上に成長した触媒を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記触媒は、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体と接触している固体粒子を含む、請求項１から５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記１つ以上の内部障害物は、前記プロセス処理区域の中の流体の流れの前記バルク流れ方向に対して垂直な少なくとも１つの寸法を有し、前記寸法は、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体の前記開口部の前記直径より大きい、請求項１から８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記反応区域の中の前記反応体混合物の前記空塔速度は、少なくとも約０．０１ｍ／ｓである、請求項１から９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセス処理区域の下流の前記プロセスマイクロチャネルの中に配置された複数の平行なサブマイクロチャネルを含み、前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの中に配置される、請求項１から１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁を被覆する、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁上に成長した、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記触媒は、前記サブマイクロチャネルの中の固体粒子を含む、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記プロセス処理区域と前記反応区域との間に１つ以上の分流区域が配置され、各分流区域は、前記反応体混合物の流れを２つ以上の小さくなった流れに分流する、請求項１から１４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６】
前記プロセス処理区域と前記反応区域との間に２つ以上の分流区域が配置され、前記２つ以上の分流区域は直列に配置され、１つの分流区域は前記次の分流区域の下流にある、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中および／または上に表面構成要素が配置されている、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記サブマイクロチャネルの中の前記表面構成要素は、前記サブマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中にエッチングされている、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記サブマイクロチャネルの前記内壁は波形である、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記１つ以上の内部障害物、および／または前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの内壁から突き出ている複数の相互に連結した傾斜のある角度構造体を含み、前記プロセスマイクロチャネルは、前記相互に連結した傾斜のある角度構造体に隣接する開放通路を有する、請求項１から１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記触媒の上に液膜層があり、前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項１から２０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの液体反応体は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの気体反応体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記少なくとも１つの生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１から２３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項１から２４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記プロセス処理区域の前記長さに対する前記反応区域の前記長さの前記比は、約０．０１から約１０００の前記範囲にある、請求項１から２５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記１つ以上の分流区域の前記長さに対する前記反応区域の前記長さの前記比は、約０．１から約１０００の前記範囲にある、請求項１５に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項１から２７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とは、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項１から２８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記プロセスマイクロチャネルはマイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は原料流ヘッダを含み、前記少なくとも１つの液体反応体と前記少なくとも１つの気体反応体とは前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項１から２９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３１】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記少なくとも１つの気体反応体は、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１から３０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３２】
前記少なくとも１つの気体反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項３１に記載のプロセス。
【請求項３３】
前記少なくとも１つの気体反応体は、前記少なくとも１つの液体反応体と前記プロセス処理区域の中で混合される、請求項１から３２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３４】
前記反応体混合物は、液相と気相とを含み、前記気相は、約０．１から約２５ミクロンの前記範囲の体積基準の平均直径と、約１から約５の前記範囲のスパンとを有する気泡を含む、請求項１から３３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１から３４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１から３５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記プロセスマイクロチャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミックス、ガラス、重合体とガラス繊維とを含む複合材料、石英、シリコン、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項１から３６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルに隣接している、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３９】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルと熱接触している、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含む、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記熱交換チャネルは、マイクロチャネルを含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記熱交換チャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記熱交換チャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４４】
前記熱交換チャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミック、ガラス、重合体とガラス繊維とを含むコンポジット、石英、ケイ素、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４５】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体がある、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４６】
前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中で相変化する、請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４７】
前記熱交換チャネルの中で吸熱プロセスが実行される、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４８】
前記熱交換チャネルの中で発熱プロセスが実行される、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４９】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して交差流である、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５０】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して並流である、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５１】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記少なくとも１つの液体反応体、前記少なくとも１つの気体反応体、前記少なくとも１つの反応生成物またはそれらの２つ以上の混合物を含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５２】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、空気、水蒸気、液体水、一酸化炭素、二酸化炭素、気体窒素、液体窒素、不活性気体、気体炭化水素、油および液体炭化水素の１つ以上を含む、請求項４０に記載のプロセス。
【請求項５３】
前記発熱源および／または吸熱源と前記プロセスマイクロチャネルとの間の前記熱の流束は、前記プロセスマイクロチャネルの表面積の平方センチメートルあたり約０．０１から約５００ワットの前記範囲にある、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項５４】
前記プロセスマイクロチャネルに入る前記第１の反応体の前記温度は、前記プロセスマイクロチャネルから出る前記生成物の前記温度から約２００℃の範囲内にある、請求項２８に記載のプロセス。
【請求項５５】
前記１つ以上の内部障害物、および／または前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体は、前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁の中に形成され、および／または前記プロセスマイクロチャネルの１つ以上の内壁から突き出ている１つ以上の表面構成要素を含む、請求項１から５４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項５６】
前記表面構成要素は、前記マイクロチャネル内壁の１つ以上の中のくぼみおよび／または前記マイクロチャネル内壁の１つ以上からの突起物の前記形であり、前記突起物は、前記マイクロチャネルを通る流体の流れの前記方向に対して傾斜した角度の配向を有する、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５７】
前記表面構成要素は、少なくとも２つの表面構成要素領域の前記形であり、第１の表面構成要素領域の中で前記第１の流体と第２の流体との混合が実行された後、第２の表面構成要素領域の中を流れ、前記第２の表面構成要素領域の中の前記流れパターンは、前記第１の表面構成要素領域の中の前記流れパターンと異なる、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５８】
前記表面構成要素は、互いの上に積層され、および／または３次元パターンで絡み合った２つ以上の層を含む、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項５９】
前記表面構成要素は、円形、楕円形、正方形、長方形、格子模様、Ｖ字形、波形またはそれらの組み合わせの前記形状である、請求項５５に記載のプロセス。
【請求項６０】
前記表面構成要素は、副構成要素を含み、前記表面構成要素の前記主壁は、きざみ目、波、ギザギザ、孔、バリ、格子、貝またはそれらの組み合わせの前記形状のより小さな表面構成要素をさらに含む、請求項５３に記載のプロセス。
【請求項６１】
前記化学反応は、フィッシャー‐トロプシュ合成反応、酸化反応、水素化分解反応、水素化反応、水和反応、カルボニル化反応、二量化反応、三量化反応、オリゴマー化反応、重合反応、脱硫反応、過酸化水素合成反応、アルコールのアルデヒドまたはカルボニルへの選択酸化、１つ以上の汚染物質の湿式酸化、水素化処理反応、アルキル化反応、アシル化反応、光触媒反応、またはそれらの２つ以上の組み合わせである、請求項１から６０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６２】
前記触媒は、少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒、酸化触媒、水素化分解触媒、水素化触媒、水和触媒またはカルボニル化触媒を含む、請求項１から６１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６３】
前記触媒は活性部分を含み、前記活性部分は、前記式
ＣｏＭ１ａＭ２ｂＯｘ
式中、Ｍ１は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓまたはそれらの混合物、Ｍ２は、Ｌｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｚｒ、Ｌａ、Ａｃ、Ｃｅ、Ｔｈまたはそれらの２つ以上の混合物、ａは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｂは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｘは、存在する前記元素の前記原子価要件を満たすために必要な酸素の前記数、によって表される組成を含む、請求項１から６２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６４】
前記触媒は、アルミナに担持したコバルトを含む、請求項１から６３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６５】
前記触媒は、少なくとも約２５重量％のコバルト担持率レベルと、少なくとも約３％のコバルト分散度とを有する、請求項１から６４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６６】
前記触媒は、傾斜触媒である、請求項１から６５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６７】
前記１つ以上の内部障害物と、前記触媒と接触および／または担持するための前記１つ以上の構造体とは、熱伝導性材料で作られている、請求項１から６６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項６８】
少なくとも１つの第１の反応体と少なくとも１つの第２の反応体との間の化学反応を少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で実行するためのプロセスであって、前記触媒は、固体触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、第２の開放断面積は第１の開放断面積より小さく、
前記反応体の少なくとも１つを、前記第１のプロセス処理区域を通して流した後、前記第２のプロセス処理区域を通して前記プロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体は、少なくとも１つの液体と少なくとも１つまたは２つ以上の気体とを含み、これらの反応体は少なくとも１つの液体生成物を生成し、前記少なくとも１つの反応体の前記局所速度は、前記少なくとも１つの反応体が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れこれを通って流れるとき増加する工程、
前記少なくとも１つの触媒を、前記少なくとも１つの第１の反応体および少なくとも１つの第２の反応体と接触させる工程、
前記少なくとも１つの触媒の上に液膜層を形成させる工程、
前記少なくとも１つの第１の反応体と前記少なくとも１つの第２の反応体とを反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項６９】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度は、約０．０１から約１００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７０】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度は、約０．１から約２５０ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７１】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第２のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度は、約０．０１から約２００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７２】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第２のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度は、約０．１から約５００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項６８に記載のプロセス。
【請求項７３】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度に対する前記第２のプロセス処理区域の中の前記液体の前記局所速度の前記比は、約１．２から約１００の前記範囲にある、請求項６８から７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７４】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記第１のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度に対する前記第２のプロセス処理区域の中の前記気体の前記局所速度の前記比は、約１．２から約１００の前記範囲にある、請求項６８から７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７５】
前記第２の開放断面積に対する前記第１の開放断面積の前記比は、約１．２から約２５の前記範囲にある、請求項６８から７４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７６】
前記触媒上の前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項６８から７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７７】
前記少なくとも１つの反応体は、液体を含み、前記液体は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７８】
前記少なくとも１つの反応体は、気体を含み、前記気体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項７９】
前記少なくとも１つの生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項６８から７６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８０】
前記第２のプロセス処理区域は、前記反応区域の上流にある、請求項６８から８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８１】
前記反応区域は、前記第２のプロセス処理区域を含む、請求項６８から８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８２】
前記プロセスマイクロチャネルは、２つ以上の側壁を含み、前記２つ以上の側壁は、前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ互いに接近して前記第１のプロセス処理区域の中の前記開放断面積より小さな前記第２のプロセス処理区域の中の開放断面積を提供する、請求項６８から８１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８３】
前記第２のプロセス処理区域は、前記第１のプロセス処理区域の前記開放断面積より小さな開放断面積を前記第２のプロセス処理区域に提供する１つ以上の内部障害物を含む、請求項６８から８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８４】
前記内部障害物は、球状の物体および／または表面構成要素を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８５】
前記内部障害物は、前記触媒を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８６】
前記内部障害物は、前記触媒のための１つ以上の担体を含む、請求項８３に記載のプロセス。
【請求項８７】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項６８から８６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８８】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の下流にある少なくとも１つの追加の区域をさらに含み、前記少なくとも１つの追加の区域は、前記反応区域の前記断面積より大きな断面積を有する、請求項６８から８７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項８９】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項６９から８８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９０】
前記第１の反応体と前記第２の反応体とは、前記プロセスマイクロチャネルの上流、および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項６９から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９１】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記第１の反応体と前記第２の反応体とは、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９２】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記第２の反応体は、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９３】
前記第２の反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項９２に記載のプロセス。
【請求項９４】
前記第２の反応体は、前記反応区域の中で前記第１の反応体と混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９５】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記第２の反応体は、前記混合区域の中で前記第１の反応体と混合される、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９６】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記混合区域の中で前記第２の反応体の一部が前記第１の反応体と混合され、前記第２の反応体の一部は前記反応区域の中で前記第１の反応体と接触する、請求項６８から８９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９７】
前記化学反応は、フィッシャー‐トロプシュ合成反応、酸化反応、水素化分解反応、水素化反応、水和反応、カルボニル化反応、二量化反応、三量化反応、オリゴマー化反応、重合反応、脱硫反応、過酸化水素合成反応、アルコールのアルデヒドまたはカルボニルへの選択酸化、１つ以上の汚染物質の湿式酸化、水素化処理反応、アルキル化反応、アシル化反応、光触媒反応またはそれらの２つ以上の組み合わせである、請求項６８から９６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項９８】
少なくとも１つの触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、前記第２の開放断面積は、前記第１の開口断面積より小さく、
前記第１のプロセス処理区域と、続いて前記第２のプロセス処理区域とを通して少なくとも１つの反応体組成物をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記少なくとも１つの反応体組成物は、少なくとも１つの液体と少なくとも１つまたは２つ以上の気体とを含み、これらは少なくとも１つの液体生成物を生成し、前記少なくとも１つの反応体組成物の前記局所速度は、前記少なくとも１つの反応体組成物が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れこれを通って流れるとき増加する工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記少なくとも１つの反応体組成物と接触させる工程、
前記少なくとも１つの触媒の上に液膜層を形成させる工程、
前記少なくとも１つの反応体組成物を反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項９９】
少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成反応を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
Ｈ２とＣＯとを含む反応体をプロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体の入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項１００】
前記反応体は、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、１から約４の炭素原子の炭化水素、またはそれらの２つ以上の混合物をさらに含む、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１０１】
前記反応体は、１つ以上の希釈材料をさらに含む、請求項９９または１００に記載のプロセス。
【請求項１０２】
ＣＯに対するＨ２の前記モル比は、最大約２．７である、請求項９９から１０１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０３】
前記触媒は被膜層を含み、前記被膜層の前記厚さは、少なくとも約１１０ミクロンである、請求項９９から１０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０４】
前記触媒は固体粒子を含み、前記固体粒子の前記平均粒子サイズは、少なくとも約２２５ミクロンである、請求項９９から１０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０５】
ＣＯの前記体積計測消費重量は、少なくとも約１０ｇ‐ｍｏｌ／ｋｇ‐触媒／時間・活性触媒、モル基準のメタンへの選択率は、サイクルあたり約１５％より小さい、請求項９９から１０４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０６】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域の中で１つ以上の追加の反応体および／または希釈材料が前記反応体に加えられる、請求項９９から１０４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０７】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域の中の前記プロセスマイクロチャネルの前記開放断面積は、前記反応区域の上流にある前記プロセスマイクロチャネルの前記開放断面積より狭い、請求項９９から１０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０８】
前記触媒は反応区域の中にあり、前記反応区域は、１つ以上の壁構造体をさらに含み、前記壁構造体は、前記反応区域から液体を取り出す、請求項９９から１０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１０９】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項９９から１０８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１０】
前記プロセスマイクロチャネルの中に液体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記液体の前記動的圧力は、約０．１から約１００Ｐａの前記範囲にある、請求項９９から１０９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１１】
前記プロセスマイクロチャネルの中に気体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記気体の前記動的圧力は、約０．５から約２００Ｐａの前記範囲にある、請求項９９から１１０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１２】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項９９から１１１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１３】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１４】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記反応体は、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１５】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記反応体の１つは、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１６】
前記１つの反応体は、第２の反応体流チャネルから前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１１５に記載のプロセス。
【請求項１１７】
前記反応体は、前記反応区域の中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１８】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体は、前記混合区域の中で混合される、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１１９】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体の前記一方の一部は、前記混合区域の中で前記他方の反応体と混合され、前記一方の反応体の一部は、前記反応区域の中で前記他方の反応体と接触する、請求項９９から１１２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２０】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項９９から１１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２１】
前記プロセスマイクロチャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項９９から１１９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２２】
前記プロセスマイクロチャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミックス、ガラス、重合体とガラス繊維とを含む複合体、石英、シリコン、またはそれらの２つ以上の組み合わせを含む材料で作られている、請求項９９から１２１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１２３】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルに隣接している、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２４】
前記発熱源および／または吸熱源は、前記プロセスマイクロチャネルと熱接触している、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２５】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含む、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１２６】
前記熱交換チャネルは、マイクロチャネルを含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２７】
前記熱交換チャネルは、最大約１０ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２８】
前記熱交換チャネルは、最大約２ｍｍの幅または高さからなる内部寸法を有する、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１２９】
前記熱交換チャネルは、鋼、モネル、インコネル、アルミニウム、チタン、ニッケル、銅、真ちゅう、任意の前記記載金属の合金、重合体、セラミック、ガラス、重合体とガラス繊維とを含むコンポジット、石英、ケイ素、またはそれらの２つ以上の組み合わせ含む材料で作られる、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３０】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体がある、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３１】
前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中で相変化する、請求項１３０に記載のプロセス。
【請求項１３２】
前記熱交換チャネルの中で吸熱プロセスが実行される、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３３】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して交差流である、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３４】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの中を第１の方向に流れ、前記熱交換チャネルの中を熱交換流体が第２の方向に流れ、前記第２の方向は、前記第１の方向に対して並流または向流である、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３５】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記第１の反応体、前記第２の反応体、前記生成物、またはそれらの２つ以上の混合物を含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３６】
前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、空気、水蒸気、液体の水、一酸化炭素、二酸化炭素、気体窒素、液体窒素、不活性気体、気体炭化水素、油および液体炭化水素の１つ以上を含む、請求項１２５に記載のプロセス。
【請求項１３７】
前記発熱源および／または吸熱源と前記プロセスマイクロチャネルとの間の前記熱の流束は、前記プロセスマイクロチャネルの表面積の平方センチメートルあたり約０．０１から約５００ワットの前記範囲にある、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１３８】
前記プロセスマイクロチャネルに入る前記第１の反応体の前記温度は、前記プロセスマイクロチャネルから出る前記生成物の前記温度から約２００℃の範囲内にある、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１３９】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記マイクロチャネル内の流れを変化させるための、１つ以上の内壁の中および／または上に形成された表面構成要素を含む、請求項９９から１３８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４０】
前記表面構成要素は、前記プロセスマイクロチャネル内壁の１つ以上の中のくぼみおよび／または前記プロセスマイクロチャネル内壁の１つ以上からの突起物の形であり、前記くぼみまたは突起物は、前記マイクロチャネルを通る流体の流れの前記方向に対して傾斜のある角度の配向を有する、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４１】
前記表面構成要素は、少なくとも２つの表面構成要素領域の形であり、前記第１の流体と第２の流体との混合が第１の表面構成要素領域の中で実行された後、第２の表面構成要素領域の中を流れ、前記第２の表面構成要素領域の中の前記流れのパターンは、前記第１の表面構成要素領域の中の前記流れのパターンと異なる、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４２】
前記表面構成要素は、互いの上に積層され、および／または３次元パターンで絡み合った２つ以上の層を含む、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４３】
前記表面構成要素は、円形、楕円形、正方形、長方形、格子模様、Ｖ字形、波形またはそれらの組み合わせの形である、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４４】
前記表面構成要素は、副構成要素を含み、前記表面構成要素の前記主壁は、きざみ目、波、ギザギザ、孔、バリ、格子、貝またはそれらの組み合わせの形のより小さな表面構成要素をさらに含む、請求項１３９に記載のプロセス。
【請求項１４５】
前記プロセスマイクロチャネルは、１つ以上の側壁と、前記側壁の１つ以上の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記開口区間は、内部部分と、前記開口区間の前記内部部分の上にある表面構成要素シートとを含み、前記表面構成要素シートの中および／または上に表面構成要素がある、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１４６】
前記触媒は活性部分を含み、前記活性部分は、前記式
ＣｏＭ１ａＭ２ｂＯｘ
式中、Ｍ１は、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓまたはそれらの混合物、Ｍ２は、Ｌｉ、Ｂ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ａｃ、Ｚｒ、Ｌａ、Ａｃ、Ｃｅ、Ｔｈまたはそれらの２つ以上の混合物、ａは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｂは、ゼロから約０．５の前記範囲の数、ｘは、存在する前記元素の前記原子価要件を満たすために必要な酸素の前記数、によって表される組成物を含む、請求項９９から１４５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４７】
前記触媒は、アルミナに担持したコバルトを含む、請求項９９から１４５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１４８】
前記触媒は、少なくとも約２５重量％のコバルト担持率レベルと、少なくとも約３％のコバルト分散度とを有する、請求項１４７に記載のプロセス。
【請求項１４９】
前記触媒は、傾斜触媒である、請求項９９から１４８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５０】
前記触媒は、固体粒子を含む、請求項９９から１４９のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５１】
前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの少なくとも１つの内壁上にある、請求項９９から１５０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５２】
前記触媒は、担体に担持されている、請求項９９から１５１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１５３】
前記担体は、シリカゲル、発泡銅、焼結ステンレス鋼繊維、スチールウール、アルミナ、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリスルホン酸エステル、ポリ（テトラフルオロエチレン）、鉄、ニッケルスポンジ、ナイロン、ポリ二フッ化ビニリデン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンエチルケトン、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン、ポリブチレンまたはそれらの２つ以上の組み合わせを含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５４】
前記担体は、熱伝導性材料を含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５５】
前記担体は、Ｎｉ、ＣｒおよびＦｅを含む合金かまたはＦｅ、Ｃｒ、ＡｌおよびＹを含む合金を含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５６】
前記担体は、側流構成、貫流構成、ハニカム構造または蛇行構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５７】
前記担体は、発泡体、フェルト、詰め物、フィンまたはそれらの２つ以上の組み合わせの前記構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５８】
前記担体は、隣接するギャップを有する側流構成、隣接するギャップを有する発泡体構成、ギャップを有するフィン構造体、または流れのためのギャップを有するガーゼ構成を有する、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１５９】
前記担体は、少なくとも１つのフィンを含むフィンアセンブリを含む、請求項１５２に記載のプロセス。
【請求項１６０】
前記フィンアセンブリは、複数の平行な離間したフィンを含む、請求項１５９に記載のプロセス。
【請求項１６１】
前記触媒は、担体に担持され、前記担体は、マイクログルーブ型担体ストリップを含み、前記マイクログルーブ型担体ストリップは、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、第１の表面、第１の側端、第２の側端、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在する前端、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在する後端、前記第１の表面にあって前記中心軸に対してある角度で前記第１の側端と前記第２の側端との間に延在する、複数の平行なマイクログルーブを有する、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６２】
前記担体ストリップは、熱伝導性材料で作られている、請求項１６１に記載のプロセス。
【請求項１６３】
前記触媒は、前記マイクログルーブの中に配置された固体粒子を含む、請求項１６１に記載のプロセス。
【請求項１６４】
前記触媒は複合担持構造体に担持されており、
前記複合担持構造体は、
第１の表面、第２の表面、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、前端、後端、第１の側端、第２の側端を含む少なくとも１つの第１の担体ストリップであって、前記前端と前記後端とは、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記前端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記第１の側端から前記後端へ延在する第１の担体ストリップと、
第１の表面、第２の表面、長さおよび前記長さの方向に延在する中心軸、前端、後端、第１の側端、第２の側端を含む少なくとも１つの第２の担体ストリップであって、前記前端と前記後端とは、前記第１の側端から前記第２の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記前端から前記第１の側端へ延在し、前記第１の表面の中の複数の平行なマイクログルーブが前記第２の側端から前記後端へ延在する第２の担体ストリップとを含んでおり、
前記第１の担体ストリップは、前記第２の担体ストリップに隣接し、前記第１の担体ストリップの前記第２の表面は、前記第２の担体ストリップの前記第１の表面と接触し、
前記担体ストリップのそれぞれの前記前端および後端は開放され、前記前端および後端を通って流体が流れることが可能であり、
前記担体ストリップのそれぞれの前記側端は閉ざされ、前記側端を通って流体が流れることはできず、
前記マイクログルーブのそれぞれは、流体が前記担体ストリップを通って１つの担体ストリップから別の担体ストリップへ流れることが十分に可能であるように、前記担体ストリップの中に進入し、
前記第１の担体ストリップの前記第１の表面の前記マイクログルーブは、前記第１の担体ストリップの前記前端および前記第１の側端の方へ配向し、前記中心軸と第１の角度を形成し、
前記第２の担体ストリップの前記第１の表面の前記マイクログルーブは、前記第２の担体ストリップの前記前端および前記第１の側端の方へ配向し、前記中心軸と第２の角度を形成し、前記第１の角度は、前記第２の角度と異なり、前記第１の担体ストリップの前記マイクログルーブと前記第２の担体ストリップの前記マイクログルーブとの交差を提供する、
請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６５】
前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中にあり、前記反応区域は、前記プロセスマイクロチャネルの断面積の約５％から約９５％を含むバルク流路を有する、請求項９９に記載のプロセス。
【請求項１６６】
前記プロセスマイクロチャネル内の前記温度は、約１５０℃から約２７０℃の前記範囲にある、請求項９９から１６５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６７】
前記プロセスマイクロチャネル内の前記圧力は、少なくとも約５気圧である、請求項９９から１６６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６８】
前記プロセスマイクロチャネルの中の流体の前記流れの前記空間速度は、少なくとも約１０００ｈｒ−１である、請求項９９から１６７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１６９】
前記プロセスマイクロチャネルの中の流体の前記流れの前記圧力降下は、前記プロセスマイクロチャネルの長さのメートルあたり最大約１５気圧である、請求項９９から１６８のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７０】
前記発熱源および／または吸熱源は、少なくとも１つの熱交換チャネルを含み、前記熱交換チャネルの中に熱交換流体があり、前記熱交換流体は、前記熱交換チャネルの中を流れ、前記熱交換チャネルの中を流れる前記熱交換流体の前記圧力降下は、前記熱交換チャネルの長さのメートルあたり最大約１０気圧である、請求項１１２に記載のプロセス。
【請求項１７１】
ＣＯの前記反応率は、サイクルあたり少なくとも約５０％である、請求項９９から１７０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７２】
メタンへのモル基準の前記選択率は、サイクルあたり約２５％以下である、請求項９９から１７１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７３】
モル基準の生成物の前記収率は、サイクルあたり少なくとも約２５％である、請求項９９から１７２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７４】
前記生成物は、前記プロセスマイクロチャネルから取り出され、前記プロセスは、前記プロセスマイクロチャネルを通して再生用流体を流し、前記触媒と接触させる工程をさらに含む、請求項９９から１７３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７５】
ＣＯに対するＨ２の前記モル比は、約０．８から約２．７の前記範囲にある、請求項９９から１７４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７６】
前記生成物は、大気圧で約３５０℃以下の温度で沸騰する炭化水素を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７７】
前記生成物は、大気圧で約３５０℃以上の温度で沸騰する炭化水素を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７８】
前記生成物は、中間留分の前記沸点範囲を有する炭化水素混合物を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１７９】
前記生成物は、少なくとも１つのオレフィンを含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８０】
前記生成物は、ノルマルパラフィン、イソパラフィン、またはそれらの混合物を含む、請求項９９から１７５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８１】
前記生成物は、水素化分解、水素化異性化または脱ロウを用いてさらにプロセス処理される、請求項９９から１８０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８２】
前記生成物は、さらにプロセス処理され、潤滑剤基油またはディーゼル燃料を形成する、請求項９９から１８１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８３】
前記反応は、連鎖成長反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８４】
前記反応は、オリゴマー化反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８５】
前記反応は、重合反応である、請求項９９から１８２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１８６】
少なくとも１つのフィッシャー‐トロプシュ合成触媒を含むプロセスマイクロチャネルの中でフィッシャー‐トロプシュ合成を行うためのプロセスであって、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、前記触媒は、前記プロセスマイクロチャネルの中の反応区域の中に配置され、前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の上流にある第１の開放断面積を有する少なくとも１つの第１のプロセス処理区域と、前記反応区域の中および／または前記反応区域と前記第１のプロセス処理区域との間にある第２の開放断面積を有する少なくとも１つの第２のプロセス処理区域とを含み、前記第２の開放断面積は、前記第１の開放断面積より小さく、
前記第１のプロセス処理区域と、続いて前記第２のプロセス処理区域とを通して前記プロセスマイクロチャネルの中にＨ２とＣＯとを含む反応体を流す工程であって、前記反応体の前記局所速度は、前記反応体が前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域へ流れ、これを通って流れるとき増加する工程、
前記フィッシャー‐トロプシュ合成触媒を前記反応体と接触させる工程、
前記触媒の上に液膜層を形成させる工程、
および前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程、
を含むプロセス。
【請求項１８７】
前記反応体は、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、１から約４の炭素原子の炭化水素、またはそれらの２つ以上の混合物をさらに含む、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１８８】
前記第１のプロセス処理区域の中に気相があり、前記第１のプロセス処理区域の中の気体の前記局所速度は、約０．１から約２５０ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１８９】
前記第２のプロセス処理区域の中に液相があり、前記第２のプロセス処理区域の中の液体の前記局所速度は、約０．０１から約２００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１９０】
前記第２のプロセス処理区域の中に気相があり、前記第２のプロセス処理区域の中の気体の前記局所速度は、約０．１から約５００ｍ／ｓの前記範囲にある、請求項１８６に記載のプロセス。
【請求項１９１】
前記第２の開放断面積に対する前記第１の開放断面積の前記比は、約１．２から約２５の前記範囲にある、請求項１８６から１９０のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９２】
前記触媒上の前記液膜層は、約１０ｎｍから約１００ミクロンの前記範囲の厚さを有する、請求項１８６から１９１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９３】
前記反応体は、約０．００１から約０．１センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１８６から１９２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９４】
前記生成物は、約０．０１から約１０００センチポイズの前記範囲の粘度を有する、請求項１８６から１９２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９５】
前記第２のプロセス処理区域は、前記反応区域の上流にある、請求項１８６から１９４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９６】
前記反応区域は、前記第２のプロセス処理区域を含む、請求項１８６から１９４のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９７】
前記プロセスマイクロチャネルは、２つ以上の側壁を含み、前記２つ以上の側壁は、前記第１のプロセス処理区域から前記第２のプロセス処理区域にかけて互いに接近し、前記第１のプロセス処理区域の中の開放断面積より小さな前記第２のプロセス処理区域の中の開放断面積を提供する、請求項１８６から１９６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９８】
前記第２のプロセス処理区域は、前記第１のプロセス処理区域の開放断面積より小さな開放断面積を有する前記第２のプロセス処理区域を提供する１つ以上の内部障害物を含む、請求項１８６から１９７のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項１９９】
前記内部障害物は、球状物体および／または表面構成要素を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２００】
前記内部障害物は、前記触媒を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２０１】
前記内部障害物は、前記触媒のための１つ以上の担体を含む、請求項１９８に記載のプロセス。
【請求項２０２】
前記プロセスマイクロチャネルは、約１５ｃｍから約１５ｍの前記範囲の長さを有する、請求項１８６から２０１のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０３】
前記プロセスマイクロチャネルは、前記反応区域の下流にある少なくとも１つの追加の区域をさらに含み、前記少なくとも１つの追加の区域は、前記反応区域の前記断面積より大きな断面積を有する、請求項１８６から２０２のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０４】
前記プロセスマイクロチャネルの中に液体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記液体の前記動的圧力は、約０．１から約１００Ｐａの前記範囲にある、請求項１８６から２０３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０５】
前記プロセスマイクロチャネルの中に気体があり、前記プロセスマイクロチャネルの中の前記気体の前記動的圧力は、約０．５から約２００Ｐａの前記範囲にある、請求項１８６から２０３のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０６】
前記プロセスマイクロチャネルと発熱源および／または吸熱源との間で熱が交換される、請求項１８６から２０５のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０７】
前記反応体は、前記プロセスマイクロチャネルの上流および／または前記プロセスマイクロチャネルの中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０８】
前記プロセスマイクロチャネルは、マイクロチャネル反応器の中にあり、前記マイクロチャネル反応器は、原料流ヘッダを含み、前記反応体は、前記原料流ヘッダの中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２０９】
前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの側壁と、前記側壁の中にある少なくとも１つの開口区間とを有し、前記反応体の１つは、前記開口区間を通って前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１０】
前記１つの反応体は、前記開口区間を通って第２の反応体流チャネルから前記プロセスマイクロチャネルに流入する、請求項２０９に記載のプロセス。
【請求項２１１】
前記反応体は、前記反応区域の中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１２】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体は、前記混合区域の中で混合される、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１３】
前記プロセスマイクロチャネルの中に混合区域があり、前記混合区域は、前記反応区域の上流にあり、前記反応体の前記一方の一部は、前記混合区域の中で前記他方の反応体と混合され、前記一方の反応体の一部は、前記反応区域の中で前記他方の反応体と接触する、請求項１８６から２０６のいずれか１項に記載のプロセス。
【請求項２１４】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、
反応体を前記プロセスマイクロチャネルの中に流す工程であって、前記反応体は、液体と気体との反応体または反応して液体生成物を生成する気体反応体を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、２つ以上の炭化水素の混合物を含む工程、
を含むプロセス。
【請求項２１５】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒かまたは固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、反応して液体生成物を生成する液体および気体または気体状反応体を含み、前記反応体の１つはＨ２を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、２つ以上の炭化水素の混合物を含む工程、
を含むプロセス。
【請求項２１６】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、液体と、反応して液体生成物を生成する気体または気体反応体とを含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、炭化水素混合物を含み、前記混合物の少なくとも約１０重量％は、大気圧で約２５℃から約３５０℃の前記範囲の温度で沸騰し、前記混合物の約５重量％は、大気圧で約３５０℃より高い温度で沸騰する工程、
を含むプロセス。
【請求項２１７】
プロセスマイクロチャネルの中で化学反応を行うためのプロセスであって、前記プロセスマイクロチャネルは、少なくとも１つの触媒を含み、前記触媒は、固相触媒または固体上に固定化された均一系触媒を含み、
前記プロセスマイクロチャネルの中に反応体を流す工程であって、前記反応体は、液体と気体との反応体または反応して液体生成物を生成する気体反応体を含み、前記気体反応体の前記入り口空塔速度は、少なくとも約０．１ｍ／ｓである工程、
前記少なくとも１つの触媒を前記反応体と接触させる工程、および
前記反応体を前記触媒の存在下で反応させて少なくとも１つの生成物を生成させる工程であって、前記生成物は、炭化水素混合物を含み、前記炭化水素混合物の少なくとも約５重量％は、少なくとも約５００の数平均分子量を有する炭化水素を含む工程、
を含むプロセス。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図３６】
【図３７】
【図３８】
【図３９】
【図４０】
【図４１】
【図４２】
【図４３】
【図４４】
【図４５】
【図４６】
【図４７】
【図４８】
【図４９】
【図５０】
【図５１】
【図５２】
【図５３】
【図５４】
【図５５】
【図５６】
【図５７】
【公表番号】特表２００９−５００１６５（Ｐ２００９−５００１６５Ａ）
【公表日】平成２１年１月８日（２００９．１．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５２０３４２（Ｐ２００８−５２０３４２）
【出願日】平成１８年６月３０日（２００６．６．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０２６０２８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／００８４９５
【国際公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【出願人】（５０５０５６６９４）ヴェロシス，インク． (20)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年１月８日（２００９．１．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年６月３０日（２００６．６．３０）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００６／０２６０２８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／００８４９５
【国際公開日】平成１９年１月１８日（２００７．１．１８）
【出願人】（５０５０５６６９４）ヴェロシス，インク． (20)
【Ｆターム（参考）】
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