【課題】
実施形態は、再生利用可能な触媒とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
実施形態の触媒は、アルミニウム、マグネシウム、クロムとマンガンからなる群から選ばれる一種類以上の金属である第一金属の酸化物の焼結組織と第一金属の酸化物の焼結組織の表面に分散したニッケル、鉄、コバルトと銅からなる群から選ばれる一種類以上の金属である第二金属の粒子とを有する第一の部分と、前記第一金属と前記第二金属との複合酸化物を含む焼結組織を有する第二の部分とを有することセラミックス焼結体の成形体であり、第一の部分は成形体の表層部に存在することを特徴とする （もっと読む）

【課題】塩化水素を酸素で酸化して塩素を製造するために用いられる固定床反応器の安全な停止方法を提供する。
【解決手段】触媒を含む触媒層が充填された反応管と、反応管の周囲を覆うように配置され、熱媒体を循環させて反応管内の温度を調整する反応器シェルとを備える固定床反応器における反応工程の停止方法であって、反応管内への原料ガスの供給を停止する原料ガス停止操作（Ｓ１０）と、反応管内に不活性ガスを通気して、反応管内を不活性ガスで置換する置換操作（Ｓ２０）と、反応管内を冷却する冷却操作（Ｓ３０）と、を順に行ない、原料ガス停止操作（Ｓ１０）および置換操作（Ｓ２０）は、反応器シェルに温度２７０℃以上の熱媒体を循環させて行なう。 （もっと読む）

【課題】担持酸化ルテニウムを長期間にわたって安定的にかつ安価に製造する方法、および、塩素の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともルテニウム化合物に接触する箇所がニッケル合金からなり、ニッケル合金の化学組成が、Ｃ：０を越え、０．０１５質量％以下、Ｓｉ：０を越え、０．０８質量％以下、Ｍｎ：０を越え、０．５質量％以下、Ｐ：０を越え、０．０２５質量％以下、Ｓ：０を越え、０．０２０質量％以下、Ｃｒ：２０．０質量％以上、２２．５質量％以下、Ｍｏ：１２．５質量％以上、１４．５質量％以下、Ｗ：２．５質量％以上、３．５質量％以下、Ｃｏ：０を越え、２．５質量％以下、Ｆｅ：２．０質量％以上、６．０質量％以下、Ｖ：０を越え、０．３５質量％以下（残りはＮｉであり、Ｎｉを含めた化学組成が１００質量％となる）である一つの製造装置を用いて、担体にルテニウム化合物を担持させる担持工程、乾燥工程、および焼成工程を行う。 （もっと読む）

【課題】担持酸化ルテニウムを長期間にわたって安定的にかつ安価に製造することができる方法、および、当該担持酸化ルテニウムを用いた塩素の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともルテニウム化合物に接触する箇所がステンレス鋼からなり、当該ステンレス鋼の化学組成が、炭素：０を越え、０．０８質量％以下、シリコン：０を越え、１．００質量％以下、マンガン：０を越え、２．００質量％以下、リン：０を越え、０．０４５質量％以下、硫黄：０を越え、０．０３０質量％以下、ニッケル：１０．００質量％以上、１４．００質量％以下、クロム：１６．００質量％以上、１８．００質量％以下、モリブデン：２．００質量％以上、３．００質量％以下（残りは鉄であり、鉄を含めた化学組成が１００質量％となる）である製造装置を用いて、担体にルテニウム化合物を含む溶液を担持させて乾燥させた担持担体を焼成する焼成工程を行う。 （もっと読む）

【課題】固定床触媒反応によって塩化水素を酸素で酸化する塩素の製造方法であって、触媒層の過度のホットスポットを抑制し、暴走反応を防止することができ、触媒活性が安定維持され、塩素を安定して高収率で得ることができる塩素の製造方法を提供する。
【解決手段】塩化水素、酸素および水を含有し、塩化水素に対する水のモル比が０．０１〜０．２である原料ガスを多管式固定床反応器に供給することにより、塩化水素を酸素で酸化して塩素を製造する方法である。多管式固定床反応器は、触媒層が充填された複数の反応管と、該複数の反応管の周囲を覆い、その内部が原料ガスの通過方向に沿って複数の領域に分割された、熱媒体を循環させるための反応器シェルとを備え、かつ、分割された領域ごとに熱媒体の温度を独立して制御可能なものであり、分割された領域ごとに温度制御された熱媒体を循環させることにより反応熱の除去を行なう。 （もっと読む）

【課題】反応器の損傷を防止し、かつ、触媒活性の低下が起こらずに反応を開始することができる塩素の製造方法を提供する。
【解決手段】塩化水素、酸素、水分を含有するガスを原料として触媒の存在下に固定床反応器で原料ガス中の塩化水素を酸素で酸化する塩素の製造方法であって、加熱ガスの通気により反応器を暖機する工程（第１工程）、不活性ガスの通気により反応器内を不活性ガス雰囲気にする工程（第２工程）、反応器の温度を２００〜４００℃の範囲内の温度にする工程（第３工程）、酸素、水蒸気、塩化水素の順でガス供給を開始する工程（第４工程）を順番に行うことにより反応を開始することを特徴とする塩素の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板上において垂直に近い状態で配向し、かつ高密度なカーボンナノチューブを極力低い温度で形成する方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの形成方法は、触媒金属層に温度Ｔ_１で酸素プラズマを作用させ、表面が酸化された触媒金属微粒子を形成する工程（ＳＴＥＰ１）と、触媒金属微粒子に温度Ｔ_１より高い温度Ｔ_２で水素プラズマを作用させ、触媒金属微粒子の表面を還元して活性化する工程（ＳＴＥＰ２）と、活性化された触媒金属微粒子の上に温度Ｔ_３でプラズマＣＶＤ法によりカーボンナノチューブを成長させる工程（ＳＴＥＰ３）と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】寸法、形状、構造、純度の安定性が高い高機能のグラファイトカーボンナノファイバーを提供することである。
【解決手段】内部を還元雰囲気に保持しうる反応容器１と、この反応容器内に配置した触媒としての金属基板２と、この金属基板を加熱するヒータ６と、反応容器内に炭化水素を供給する炭化水素供給手段５と、金属基板上に生成される炭素繊維を掻き取る掻き取り手段４と、掻き取った炭素繊維を回収する回収容器７と、反応容器内のガスを排気する排気手段８を具備した装置を用いて得られるグラファイトナノカーボンファイバーであり、前記炭素繊維は、グラフェンが長手方向に多層に重なり合って形成される直径８０〜４７０ｎｍの線状の微細炭素繊維であることを特徴とするグラファイトナノカーボンファイバー。 （もっと読む）

【課題】単層カーボンナノチューブを合成するための方法を提供する。
【解決手段】担体上の少なくとも一つの触媒を用意し、この触媒の粒径を決定し、決定した前記粒径に基づく温度で不活性ガスを含む炭素前駆体ガスをこの触媒と接触させて、ＳＷＮＴの直径の平均値の２５％内の直径を有するＳＷＮＴを形成させる。前記温度は、相図に基づく前記触媒の金属−炭素相が炭素誘発液化によって液化する最低温度よりも５℃から１５０℃高くする。前記炭素前駆体ガスは、メタンであり、前記触媒は、鉄、モリブデン又はこれらの組み合わせであり、担体は、粉末状酸化物であり、粉末状酸化物は、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ及びゼオライトからなるグループから選択され、触媒は、１ｎｍから１０ｎｍの間の粒径を有する。 （もっと読む）

【課題】触媒層上に秀麗な配向ＣＮＴを合成でき、ＣＮＴを分離回収した後、基板層の再利用を実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のＣＮＴ製造用の四層型触媒基体１は、基板層２の上に耐熱性樹脂層４を形成し、前記耐熱性樹脂層４の上にＡｌ層６を形成し、前記Ａｌ層６の上にＣＮＴ合成用の触媒層８を形成している。また、前記基板層２がベルト状に形成された基板ベルトであり、前記基板ベルトの上に前記耐熱性樹脂層４、前記Ａｌ層６及び前記触媒層８を積層して四層型触媒基体ベルトも提供できる。４００℃以上、好適には５００℃以上の耐熱温度を有した耐熱性樹脂層４を形成して、ＣＮＴ合成時に耐熱性樹脂層４が基板層２と樹脂層８との反応を防ぎ、触媒層８上に配向ＣＮＴを合成でき、ＣＮＴを分離回収しても基板層２の表面は合成前の状態であり、基板ベルトを含む基板層２の再利用を実現できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液体のアンモニアとして水素を固定し、この輸送・貯蔵に有利な固定された水素を用いて化学品を製造するものである。
【解決手段】本発明は、触媒を用いてアンモニアを改質することによって製造した水素を用いて、無機化合物および／または有機化合物を還元して化学品を製造することができる。改質の際には熱交換型あるいはＡＴＲ方式の反応器を用い、反応器出口ガスは熱交換により入口ガスの予熱に用いて効率よく化学品を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】単位質量当たりに導入可能な官能基の量に優れたナノカーボンを提供すること。
【解決手段】触媒支援化学的気相成長法において、マグネシウム、カルシウム及びアルミニウムからなる第１の金属群から選ばれる少なくとも１種以上の金属の酸化物と、ニッケル、鉄及びコバルトからなる第２の金属群から選ばれる少なくとも１種以上の金属の酸化物とを、特定の割合で含有する多孔質複合金属酸化物を触媒として用いる。 （もっと読む）

【課題】回収ヘリウムガスを低コストで高純度に精製できる実用的な方法と装置を提供する。
【解決手段】不純物として水素、一酸化炭素、空気由来の窒素と酸素を含有し、酸素含有量は水素及び一酸化炭素の含有量より多いヘリウムガスに水素を添加し、水素含有量が酸素含有量より多く、酸素モル濃度が水素モル濃度と一酸化炭素モル濃度の和の１／２を超える値にする。その酸素をルテニウム又はパラジウムを触媒として水素及び一酸化炭素と反応させ、酸素を残留させて二酸化炭素と水を生成する。次に、ヘリウムガスの水分含有率を脱水装置を用い低減する。次に、一酸化炭素を添加して一酸化炭素モル濃度が酸素モル濃度の２倍を超える値にし、酸素をルテニウム又はパラジウムを含む触媒を用いて一酸化炭素と反応させ、一酸化炭素を残留させて二酸化炭素を生成する。次に、一酸化炭素、二酸化炭素、水を圧力スイング吸着法により吸着剤に吸着する。 （もっと読む）

【課題】熱安定性や触媒寿命に優れた担持酸化ルテニウムの製造方法を提供することにある。また、この方法により得られた担持酸化ルテニウムを用いて、長時間にわたり安定して塩素を製造する方法を提供することにある。
【解決手段】担持酸化ルテニウム触媒の製造方法であって、チタニア担体をケイ酸のアルカリ金属塩を含む水溶液と接触処理した後、酸化性ガス雰囲気下で第１の焼成を行い、次いでルテニウム化合物を含む水溶液と接触処理した後、酸化性ガス雰囲気下で第２の焼成を行うことを特徴とする。かかる製造方法により製造された担持酸化ルテニウムを触媒として用い、この触媒の存在下に塩化水素を酸素で酸化することにより、塩素を製造する。 （もっと読む）

【課題】機械強度に優れた微細パターンを有するナノインプリント用スタンパ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態のナノインプリント用スタンパは，金属および筒状炭素分子を含む突起部を有し，前記金属を含む基体である。ナノインプリント用スタンパの製造方法では，基板上への金属から成る触媒層の形成工程，及び触媒層をエッチングして凹凸パターンを形成する工程を経て，ナノインプリント用スタンパが製造される。 （もっと読む）

【課題】気液流の反応における反応率を改善することができるマイクロリアクターを提供する。
【解決手段】マイクロリアクター１０は、流路１５と、流路内に配置されたアルミニウム板２０であって陽極酸化処理によって微細孔を有する皮膜を形成されたアルミウム板２０と、アルミニウム板の微細孔に担持された触媒と、を備える。アルミニウム板２０は、板状のベース部２５と、ベース部から立ち上がった複数の突出片３０と、を含む。ベース部２５との接続箇所をなす各突出片の基端部３１に隣接して、ベース部２５に貫通孔２６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】アンモニアガスを効率よく分解するための新規なアンモニア分解触媒、アンモニアの分解方法およびアンモニア分解反応装置を提供する。
【解決手段】Ｌａ、Ｎｉ、Ｃｏ、及びＦｅを含有する複合酸化物粒子の表面にナトリウム金属もしくはカリウム金属、またはナトリウム化合物もしくはカリウム化合物が存在することを特徴とするアンモニア分解触媒。 （もっと読む）

【課題】装置を小型に維持しながら、ユースポイントでの水素需要量が大きく変動する場合でも脱水素単通転化率を安定的に高く保ち、ＤＳＳ等の運転オン・オフを含む非定常運転を行なう場合の水素供給が安定的に開始又は停止される水素ガス生成装置を提供する。
【解決手段】炭素繊維担持Ｐｔ−Ｗ修飾Ｎｉ-Ｒｕバイメタリック触媒（高活性複合触媒）が配設された高活性反応器１０と、炭素繊維担持Ｐｔ−Ｒｅ修飾Ｎｉ-Ｒｕバイメタリック触媒（高転化複合触媒）が配設された高転化反応器２０と、高活性反応器１０及び高転化反応器２０で脱水素生成された水素含有ガスが供給され、一時的に水素含有ガスの状態で水素を貯留する水素貯留タンク３０と、水素貯留タンク３０から供給された水素含有ガスから水素ガス、メチルシクロヘキサンを含む液相混合物、及び液相のトルエンを分離し、前記液相混合物を高転化反応器２０に供給する分離器４０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】還元されたルテニウムの触媒活性低下を抑制する方法を提供する。
【解決手段】活性炭にルテニウムを担持してなる触媒の還元において、反応管内にてアンモニアガスまたはアンモニア含有ガスで還元処理を行った後、引き続き同反応管にアンモニアガスまたはアンモニア含有ガスを流通し、還元されたルテニウムにアンモニアを吸着させ、還元されたルテニウムの酸化活性を抑制する。 （もっと読む）

【課題】本発明では、被表面処理部材の材質および形状を問わず、所望の位置に微細構造体を形成することができる、被表面処理部材の表面処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被表面処理部材に対する表面処理方法であって、（ａ）被表面処理部材を準備するステップと、（ｂ）シリコン系高分子を含む表面処理剤を調製するステップと、（ｃ）前記被表面処理部材の少なくとも一部に、前記表面処理剤を設置するステップと、（ｄ）触媒を含み、ガス流が存在する環境下において、前記表面処理剤が設置された被表面処理部材を８００℃以上の温度で焼成することにより、ケイ化物の繊維状構造体を形成するステップであって、前記ガス流は、前記被表面処理部材の表面積５０ｍ^２あたり０．０１Ｌ／ｍｉｎ以上の流量で供給されるステップと、を有する表面処理方法。 （もっと読む）