エピクロロヒドリンの製造方法は、（１）触媒の存在下でエタンを１，２−ジクロロエチレン（シス／トランス混合物）に転化させ；（２）（ａ）触媒、一酸化炭素及び水素の存在下で１，２−ジクロロエチレンをヒドロホルミル化し、（ｂ）ＭｅＯＨを１，２−ジクロロエチレンに添加し、又は（ｃ）１，２−ジクロロエチレンを還元的ヒドロホルミル化触媒の存在下で直接還元的ヒドロホルミル化に供することによって、２，３−ジクロロプロパナールを生成させ；そして（３）２，３−ＤＣＨを塩基でエポキシ化して、エピクロロヒドリンを生成させることを含む。 （もっと読む）

環状パラフィンの開環するための触媒、及びその触媒を使用するための方法ついて説明する。上記触媒は、VIII族金属成分、モレキュラーシーブ、耐火性無機酸化物成分及び必要に応じて改質剤成分から構成される。上記モレキュラーシーブの例は、ＭＡＰＳＯｓ、ＳＡＰＯｓ、ＵＺＭ−８及びＵＺＭ−１５である。好適なVIII族金属としては、白金、パラジウム及びロジウムが挙げられる。一方アルミナは好適な無機酸化物である。最後に、必要に応じて使用する改質剤の例は、ニオブ、チタン及びイッテルビウムなどの希土類元素である。 （もっと読む）

本発明は接触管束の接触管を構造的に充填する方法に関し、その際、充填部分を製造するために、均一に予め配分された触媒成形体の組成物を使用する。 （もっと読む）

本発明は、以下の連続的な工程、すなわち、ペーストが、軸（ｘ）に沿って流れる速度Ｖ_Ｓを有する支持体材料（Ｓ）から同時共押出により形成され、ここで、ペースト（Ｐ＜ＳＢ＞Ｍ＜／ＳＢ＞が、軸（ｘ）に沿って流れる速度Ｖ_Ｍを有する活性材料（Ｍ）から形成され、ここで、Ｖ_Ｓ＝Ｖ＜ＳＢ＞Ｍ＜／ＳＢ＞であるところの工程（ａ）、前記工程（ａ）において形成された共押出物を乾燥する工程（ｂ）、前記工程（ｂ）において乾燥させた共押出物からバインダ除去する工程（ｃ）、および前記工程（ｃ）で得られる２つの同軸の層の生成物の熱処理を含む共焼結工程（ｄ）を含むことを特徴とする、軸（ｘ）に対して同軸の２つの層、すなわち第１の支持体材料層（Ｓ）と第２の活性材料層（Ｍ）から成る支持されたチューブ状のセラミック膜の調製に関する。本発明は、また、前記工程（ａ）を行うためのデバイスに関する。
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流動接触分解（ＦＣＣ）中におけるような、炭化水素を反応させるのに適する触媒組成物は少なくとも３０％の中程度の孔径のゼオライト、カオリン、リン化合物及び高密度の非反応性成分を有する摩耗抵抗性粒状物を含んでなる。非反応性成分の例はアルファ−アルミナである。該触媒はまた高表面積の反応性アルミナを含有することができる。 （もっと読む）

本発明は、触媒の存在下で、Ｎ_２Ｏを含有するガス中のＮ_２Ｏを触媒により分解する方法であって、触媒は、ルテニウム、ロジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金及び金からなる貴金属の群から選択される第１の金属、並びに、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル及び銅からなる遷移金属の群から選択される第２の金属を担持したゼオライトを含み、ゼオライトへの金属の担持は、最初に貴金属を、次に遷移金属をゼオライトに担持させることによって得られる方法、並びにこの方法のための触媒及びこの触媒の調製方法に関する。 （もっと読む）

式（Ｉ）又は（Ｉ'）：［式中、Ｒ₁は、水素原子又はＣ₁−Ｃ₄−アルキルであり、かつＲ'₁は、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキルであり；Ｘ₁及びＸ₂は、それぞれ相互に独立に、第２級ホスフィン基であり；Ｒ₂は、水素、Ｒ₀₁Ｒ₀₂Ｒ₀₃Ｓｉ−、Ｃ₁−Ｃ₁₈−アシル（ハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ₁−Ｃ₈−アルコキシ又はＲ₀₄Ｒ₀₅Ｎ−により置換されている）、又はＲ₀₆−Ｘ₀₁−Ｃ（Ｏ）−であり；Ｒ₀₁、Ｒ₀₂及びＲ₀₃は、それぞれ相互に独立に、Ｃ₁−Ｃ₁₂−アルキル、非置換又はＣ₁−Ｃ₄−アルキル−若しくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換のＣ₆−Ｃ₁₀−アリール又はＣ₇−Ｃ₁₂−アラルキルであり；Ｒ₀₄及びＲ₀₅は、それぞれ相互に独立に、水素、Ｃ₁−Ｃ₁₂−アルキル、Ｃ₃−Ｃ₈−シクロアルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀−アリール又はＣ₇−Ｃ₁₂−アラルキルであるか、あるいはＲ₀₄及びＲ₀₅は、一緒になってトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサペンチレンであり；Ｒ₀₆は、Ｃ₁−Ｃ₁₈−アルキル、非置換又はＣ₁−Ｃ₄−アルキル−若しくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換のＣ₃−Ｃ₈−シクロアルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀−アリール又はＣ₇−Ｃ₁₂−アラルキルであり；Ｘ₀₁は、−Ｏ−又は−ＮＨ−であり；Ｔは、Ｃ₆−Ｃ₂₀−アリーレンであり；ｖは、０又は１〜４の整数であり；Ｘ₁は、Ｔ−Ｃ^*結合に対してオルト位に結合しており；そして^*は、ラセミ体の若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーの混合物、又は純粋なラセミ体の若しくはエナンチオマーとして純粋なジアステレオマーを意味する］で示される化合物は、プロキラルな有機不飽和化合物のエナンチオ選択的水素化のための金属錯体における優れたキラル配位子である。
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本発明は、炭素で変性された二酸化チタン（ｖｌｐ−ＴｉＯ₂）を基礎とする、昼光で活性な高効率の光触媒およびその製造方法に関する。ｖｌｐ−ＴｉＯ₂は微細粒のチタン化合物（ＢＥＴ≧５０ｍ²／ｇ）と炭素含有物質とを混合し、続いて４００℃までの温度で熱処理することによって製造される。炭素含有量は０．０５〜４質量％、有利には０．４〜０．８質量％である。生成物は約２．００３のｇにおける１．９７〜２．０５のｇ値の範囲においてだけ有意なＥＳＲ信号を示すことを特徴とする。本発明による光触媒は、液体および気体における汚染物質および有害物質の無機化（酸化）に適している。 （もっと読む）

コバルト触媒の製造法が記載されている。該方法は、コバルトアンミン錯体の水溶液を形成し、前記溶液を、酸化溶液中のＣｏ（III）の濃度が非酸化溶液中のＣｏ（III）の濃度より大きくなるように酸化し、次いでコバルトアンミン錯体を、不溶性コバルト化合物を溶液から析出させるのに足る時間、該溶液を８０〜１１０℃の温度に加熱することによって分解するステップを含む。コバルト化合物を含む触媒中間体も記載されている。前記コバルト化合物は、Ｃｏ（II）／ＣＯ（III）ハイドロタルサイト相及びＣｏ_３Ｏ_４コバルト・スピネル相を含み、コバルト・ハイドロタルサイト相：コバルト・スピネル相の比率は０．６未満：１で、前記コバルト・ハイドロタルサイト相及び前記コバルト・スピネル相はＸ線回折によって測定される。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種のＣ₃−炭化水素前駆化合物を不均一系触媒により部分酸化することによってアクリル酸を製造する方法において、前記方法において形成された副成分量が≦１．５モル％である方法に関する。
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固定床水素化処理システム、さらに、既存の仮定床水素化処理システムをアップグレードする方法は、コロイドまたは分子触媒を使用して１つまたは複数のスラリ相反応炉内の重油原料を予備的にアップグレードし、多孔質担持触媒を使用して１つまたは複数の固定床反応炉内のアップグレードされた原料をさらに水素化処理することを伴う。コロイドまたは分子触媒は、触媒前駆体組成物を重油原料の中に入れて緊密に混合し、原料の温度をコロイドまたは分子触媒をその場に形成するための前駆体組成物の分解温度よりも高くすることにより形成される。他の方法では大きすぎて固定床触媒の孔の中に拡散できないアスファルテンまたは他の炭化水素分子は、コロイドまたは分子触媒によりアップグレードすることができる。１つまたは複数のスラリ相反応炉を構築し、既存の固定床システムの１つまたは複数の固定床反応炉から上流に配置し、および／または１つまたは複数の既存の固定床反応炉から転換することができる。
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６価クロム酸化物系触媒と、クロム種に対して過剰モルの固体還元剤とを攪拌状態下で接触させ、３０〜１０００℃の範囲の温度に得られた混合物を付すこととを含む６価クロム酸化物系触媒の還元法。この方法は簡単であり、低コストであり、毒性のリスク無しに廃棄しうる永久還元クロム触媒を得ることができる。 （もっと読む）

水素の存在下で酸素による、対応する部分的に酸化された炭化水素、好ましくはＣ₃〜Ｃ₈オレフィンオキシド、好ましくはプロピレンオキシドへの、炭化水素、好ましくはＣ₃〜Ｃ₈オレフィン、例えばプロピレンのヒドロ酸化のための方法及びヒドロ酸化触媒。この触媒は、チタノシリケート、好ましくはＴＳ−１上に堆積された、金、銀、１種若しくはそれ以上の白金族金属、１種若しくはそれ以上のランタニド希土類金属又はこれらの混合物からなり、チタノシリケートがマイクロ波加熱によって製造されることを特徴とする。
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本発明は二酸化チタン（ＴｉＯ_２）をベースとし、そしてＵＶ範囲、特に長波長ＵＶＡ範囲の光子を吸収可能である光触媒特性及び汚れ防止特性を有する層の改質に関係し、可視スペクトルの光子も吸収する特性を提供するために、前記ＴｉＯ_２系の層は基材に直接的に適用されるかまたは少なくとも一の機能副層の挿入を伴って適用される。本発明は、望ましい可視光の光子吸収特性を得るために、ＴｉＯ_２系の層は窒素又は少なくとも一の還元ガスと窒素を含む雰囲気中で十分な時間熱処理にさらされることを特徴としており、前記基材及び必要であれば前記副層はこの熱処理に耐える能力のために選択されている。 （もっと読む）

100〜450℃の範囲の沸点を有する留出物の改質方法であって、これらの留出物中に含まれるナフテン化合物を開環して、殆どの部分において出発ナフテンと同じ炭素原子数を有する枝分れパラフィン類に富むパラフィン化合物を得ること含む方法を開示する。該方法は、Pt、Pd、Ir、Ru、RhおよびReから選ばれた１種以上の金属と、微細メソ多孔質シリコアルミナおよびMTW群に属するゼオライトから選ばれた酸性を有するシリコアルミネートとを含む二官能性触媒系の存在下に実施する。
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本発明は、機械的な耐性のある長持ちするコーティングを備え、且つ使用者が取り扱うのに適した基材に関する。この基材は、コーティングが、価電子帯の上位準位と伝導帯の下位準位との間に可視範囲における波長に相当するバンドギャップを有する第２化合物と均質に組み合わされた第１の光触媒性化合物を含むことを特徴とする。本発明はまた、該基材を含むガラス、本発明の基材の利用、及びその製造方法にも関する。 （もっと読む）

本発明は、炭化水素供給原料のハイドロプロセッシングに適する硫黄含有触媒組成物であって、モリブデン、タングステン、及びそれらの混合物から選択されたVIB族金属成分、バナジウム、ニオブ、タンタル、及びそれらの混合物から選択されたV族金属成分、及びニッケル、コバルト、鉄、及びそれらの混合物から選択されたVIII族金属成分を含み、(酸化物として計算された)金属成分が、触媒の少なくとも50重量％を構成し、金属成分間のモル比が、以下の式：(VIB族+V族)：(VIII族)＝0.5〜2：1を満足する触媒に関する。この触媒は、良好な芳香族除去性とともに、硫黄除去において高い活性を示すことが見出された。 （もっと読む）

スズ酸化物およびパラジウムがＸ線写真的に非晶質の形態またはナノ粒子の形態で担体酸化物上に存在し、担体酸化物がナノ粒子の形態で存在するか、またはスズ酸化物およびパラジウムと担体酸化物がの両方がナノ粒子の形態で存在することを特徴とするスズ酸化物、パラジウムおよび担体酸化物を含有する触媒。前記触媒は酸素リッチな排ガスから一酸化炭素および炭化水素を同時に除去する機能を有する。 （もっと読む）

接触分解工程、好適には流動式接触分解工程中に発生するＮＯ_ｘを減少させる組成物を開示する。この組成物は流動式接触分解用触媒組成物、好適には孔径が約３から約７．２オングストロームの範囲でＡｌ_２Ｏ_３に対するＳｉＯ_２のモル比が約５００未満のゼオライト粒子を含有する粒状のＮＯ_ｘ減少用組成物とＹ型ゼオライトを含有する流動式接触分解用触媒組成物を含んで成る。前記ＮＯ_ｘ減少用組成物に含有させるＮＯ_ｘ減少用ゼオライト粒子を好適には無機結合剤と結合させておく。別法として、前記ＮＯ_ｘ減少用ゼオライト粒子を分解用触媒の中に前記触媒の一体化成分として取り込ませる。本発明に従う組成物はＦＣＣ工程条件下で稼働している流動式接触分解装置の再生装置から排出されるＮＯ_ｘ排気を転化率も分解生成物収率も実質的に変えることなく減少させるに非常に有効である。また、本組成物の使用方法も開示する。
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本発明は、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム並びに随意としての別の希土類の酸化物をベースとする組成物であって、酸化スズを酸化物の重量として２５％までの割合で含有することを特徴とする、前記組成物に関する。該組成物は、ジルコニウム化合物、セリウム化合物及びスズ化合物並びに随意としての別の希土類の化合物を含む混合物を形成させ；この混合物を塩基性化合物と接触させて沈殿を得て；この沈殿を水性媒体中で加熱し且つ焼成することから成る方法によって得られる。前記組成物は、触媒として、特に自動車排気ガスの処理用の触媒として、用いることができる。 （もっと読む）