Fターム[4H049VQ31]の内容
第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 第4族元素含有化合物上の結合又は基(目的化合物) (4,225) | O含有基(非環式) (940) | C=O結合 (311) | カルボン酸誘導体(←非環式カルボン酸無水物) (188) | エステル(C(=O)OR)(R=CorM) (173) | M*がアルコール側にあるもの(例;M*−Ph−O(O=)CR) (90) | M*−O(O=)C結合 (25)
Fターム[4H049VQ31]に分類される特許
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フラーレン誘導体及びその製造方法
【課題】C60等のフラーレン骨格に−OC(=X)−R1基が任意の付加数で直接付加したフラーレンエステル型誘導体であって、温和な条件で速やかに合成することができるフラーレン誘導体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(I)で示されるフラーレン誘導体。
((I)式中、FLNはフラーレン骨格。R1は、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子数1〜24の炭化水素基。Xは、酸素原子、又はイオウ原子。R2は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数1〜24の炭化水素基など、a及びbは、それぞれ独立に1以上3以下の整数。)
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加水分解性含ケイ素化合物の製造方法
【課題】オルガノオキシシラン等の加水分解性含ケイ素化合物を優れた収率にて、また、安全且つ安価に製造する手法を提供する。
【解決手段】(A)式:R1−O−R2(R1は炭素数4〜30の、置換又は非置換の、第3級アルキル基又はアラルキル基を表し、R2は炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基又はアシル基を表す)で表される化合物、及び、(B)式:R3mSiX4−m(R3は、水素原子、又は、炭素数1〜30の、置換若しくは非置換の、一価炭化水素基を表し、Xは、独立して、臭素又は塩素であり、mは0〜3の整数を表す)で表されるハロシランをルイス酸触媒存在下で反応させる。
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架橋剤
【課題】優れた印刷若しくは塗工適性と、良好な密着性および耐熱性とを有するインキ若しくは塗料組成物を得ることができる架橋剤を提供する。
【解決手段】式(I)で表される有機チタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む架橋剤。該架橋剤と、バインダーと、顔料と、溶剤とを含有する、インキ若しくは塗料組成物。
(式(I)中の、A1、A2、A3およびA4はそれぞれ独立にC1−20アルキル基または分岐構造を有するC1−20アシル基を示す。ただし、A1、A2、A3およびA4のうちの少なくとも1つは分岐構造を有するC1−20アシル基である。)
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化学気相堆積用前駆体としての低不純物有機ケイ素生成物
【課題】他の有機ケイ素前駆体材料との混合などで塩化物塩を沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物を提供すること。
【解決手段】ジエトキシメチルシラン、ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に、好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないある濃度の溶解残留塩化物およびある濃度の溶解残留塩化物捕集剤を含む有機ケイ素組成物を提供する。
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難燃剤としてのリン含有シルセスキオキサン誘導体
リン含有シルセスキオキサンは、式[R13SiO1/2]m[R2SiO3/2]n[R3SiO3/2]p[(R4O)2PO(CH2)xSiO3/2]q(式中、R1、R2、R3、及びR4はそれぞれ、独立してヒドロカルビル基を表し;xは、1〜8の整数を表し;mは、1.5未満の正の数であり;n及びqは、0超かつ1未満の正の数であり;pは、0以上かつ1未満の数である)により表される。更に、(n+p)/qは、0.5〜99の範囲であり、(n+p+q)=1である。リン含有シルセスキオキサンを含む硬化性及び硬化した組成物を開示する。 (もっと読む)
非対称光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法
【課題】低い光損失と共に高い屈折率値を有する改善されたゾル−ゲル組成物およびその調製法を提供すること。
【手段】本明細書では、光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法が記載される。ゾル−ゲル前駆体は、熱的に安定であり、高い屈折率および低い光損失値を有する組成物を形成する。該前駆体を使用して、通信波長の領域の光導波路用途に理想的に適したゾル−ゲル組成物を形成することができる。
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嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル(メタ)アクリレート化合物及びその製造方法
【解決手段】一般式(1)
[R1、R2は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数3〜10の1価の分岐状炭化水素基又は炭素数3〜10の1価の環状炭化水素基、R3、R4、R5は同一又は異なる炭素数1〜20の置換又は非置換炭化水素基、又は一般式(2)
(R7、R8、R9は同一又は異なる炭素数1〜20の置換又は非置換炭化水素基である。)
で示されるシロキシ基であり、R6は水素原子又はメチル基である。]
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル(メタ)アクリレート化合物。
【効果】本発明により提供される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル(メタ)アクリレート化合物は加水分解速度が遅く、またアルキルメタクリレートと共重合させたポリマーは殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で表面への水中生物の付着抑制を図ることができるため、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。
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(メタ)アクリルシランの製造方法
本発明は、一般式(1)のシランを、一般式(2)のアルキルハロゲン化シラン(S1)及び一般式(3)の不飽和有機カルボン酸の塩(S2)から製造する方法に関し、この方法は、アルキルハロゲン化シラン(S1)の沸点を下回る沸点を有する1種又はそれ以上の成分(L)を、成分(S1)及び(S2)の反応前又は反応中に蒸留によって、反応混合物、部分混合物又は個々の反応成分から少なくとも部分的に除去することを特徴する。 (もっと読む)
官能性シラン又は官能性シロキサンを基質と架橋するための新規触媒
本発明は有機官能性カルボキシ化合物の、シラン加水分解用の触媒としての、及び/又はシラノール縮合用の触媒としての使用に関する。カルボキシ化合物という用語は、本発明によれば4〜46個の炭素原子を有する有機酸、有利には有機カルボン酸、例えば脂肪酸、又はケイ素含有の有機酸前駆体化合物、α−カルボキシシラン[(R3-(CO)O)4-z-xSiR2x(A)z、α−Si−オキシカルボニル−R3]、又は有機酸のケイ素不含前駆体化合物を意味すると解釈される。有機酸の前駆体化合物という用語は、有機カチオンのエステル、ラクトン、無水物、塩であると解釈される。更に、本発明は基質を表面変性するための少なくとも1つの有機官能性カルボキシ化合物の使用、これで変性された基質ならびに基質を製造する際に使用するキットに関する。 (もっと読む)
アルカリ可溶性シルセスキオキサン及び感光性組成物
【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】(A)間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式(1):RSiX3(式中、Rは、C1〜C5の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、C2〜C5のアルケニル基、又はアリール基を表し、Xは塩素、臭素又は沃素を表す。)で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)が2000以下のシルセスキオキサンを製造し、(B)得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。
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磁性を有する薬剤、薬剤の誘導システム、並びに磁気検出装置
【課題】従来の技術的問題を解決でき、実用化が容易なドラッグ・デリバリシステムを実現する。
【解決手段】下記式(I)で示される酸化鉄微粒子を含む、磁性を有する薬剤。鉄サレン錯体自体に磁性をもたせることができるため、これを薬剤として用いれば、従来のように磁性体からなる担体を用いることなく、薬剤自体が有する磁性を利用して体内の患部まで薬剤を誘導することができる。
(式(I)中、Mは四酸化三鉄又は三酸化二鉄であり、R1は炭化水素基であり、Xは核酸又は医薬化合物である)
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スズ化合物を用いた歯科用接着剤
【課題】 歯科の分野における金属材料と樹脂材料間の接着において、長期接着耐久性と接着操作の簡易性に優れた歯科用接着剤を提供する。
【解決手段】 (a)重合性単量体、(b)カルボキシル基含有重合性単量体、(c)光重合開始剤及び(d)一般式(1)(R1)nSn(XR2)m〔nおよびmは1、2または3の整数で、n+m=4を表す〕、一般式(2)([R3]3Sn)2Xまたは一般式(3)−([R4]2SnXR5X)p−〔pは平均値が2〜4の大きさの数値を表す〕〔上記式中、;R1、R3およびR4はそれぞれ炭素原子数1〜18個の直鎖状または分岐状のアルキル、アルケニルまたはアリール基、R5は同様のアルキレンまたはアルケニレン基であり、XはOまたはS原子を表す〕で表される特定の錫化合物、を含んでなる歯科用接着剤。
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有機金属化合物を主成分とする光潜伏性触媒
本発明は、特にブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート成分をポリオールまたはポリチオールで架橋してポリウレタン(PU)を形成するための、ルイス酸型触媒によって触媒される重付加または重縮合反応における触媒として好適である有機金属潜伏性触媒化合物を提供する。 (もっと読む)
ナノ粒子及びナノ粒子複合体
【課題】ホスト分子としての機能を有しゲスト分子の分散性や表面配向性を改善し得るナノ粒子、及びこれにゲスト分子を包接させたナノ粒子複合体を提供すること。
【解決手段】ナノ粒子は、親水基と両末端のフルオロアルキル基を有する鎖状オリゴマー部位と、3次元シリカネットワーク部位と、フッ素又はケイ素を有する有機鎖とから成る。
【化1】
(式中のR’はそれぞれ独立してH又はアルキル基、Xは親水基であってそれぞれ独立してOH基、NCO基、NH2基等、RFは炭素数2〜10個で分子量119〜1000のフルオロアルキル基、3D‐SNは3次元シリカネットワーク部位、Bはそれぞれ独立してO、O=C−O等、EはO、O=C−O、NH−C=O等、Gは[(CH2O)l−[Si(CH3)2O]k−(CH2O)l]等を示す)で表される構造を有する。
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可溶性末端変性アミド酸シリルエステルオリゴマーおよびワニス並びにそれらの硬化物
【課題】アミド系溶媒以外の低沸点有機溶媒に対する溶解性および低溶融粘度等の成形性に優れ、硬化物の耐熱性および弾性率、引張強度および伸び等の機械的特性の高い新規な末端変性アミド酸シリルエステルオリゴマーおよびワニス並びに末端変性イミドオリゴマーおよびそれらの硬化物を提供する。
【解決手段】本発明の可溶性末端変性アミド酸シリルエステルオリゴマーは、一般式(1)で表される。
(式中、R1は2価の芳香族ジアミン残基を、R2は4価の芳香族テトラカルボン酸類残基を、R3は1価の有機ケイ素基を表し、nは1≦n≦20の関係を満たす。)
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(フルオロスルホニル)ジフルオロ酢酸トリアルキルシリルの製造方法
フッ化(フルオロスルホニル)ジフルオロアセチルをシロキサンと接触させることによる(フルオロスルホニル)ジフルオロ酢酸トリアルキルシリルの製造方法。(フルオロスルホニル)ジフルオロ酢酸トリアルキルシリル中の(フルオロスルホニル)ジフルオロ酢酸副生物の量は、前記混合物をトリアルキルシリルハライドと接触させることによって低減される。 (もっと読む)
ポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体
【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式(I):
[式中、R1、R2、R3、R4、R5は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、R7は、水素、アルキル基または−COOR9(ここで、R9はアルキル基を表す)を表し、R8は、水素、アルキル基または−CH2−CO2−(SiR4R5O)n−SiR1R2R3を表し、そしてnは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数3から20を表す]で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。
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ポリ(シリルエステル)を製造する方法およびそれらの使用
【化1】
本発明は、式(I)で表される構造単位を含んで成るポリ(シリルエステル)を製造する方法を提供し、この方法は、式(II)で表されるポリ酸と式(III)で表されるポリアシルオキシシリル誘導体を反応させながら生じた式(IV)、(V)および(VI):R7Z(O)OH (IV)、R9Z(O)OH (V)、R8Z(O)OH (VI)で表される酸基1種または2種以上をその系から除去する段階を含んで成る。
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重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造方法
【課題】 経済的かつ高収率で目的物であるトリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを製造する。
【解決手段】 不飽和カルボン酸とトリオルガノシランを反応させて、重合性トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートを製造する際に、亜鉛、マグネシウム、クロム、モリブデン、亜鉛化合物、マグネシウム化合物、クロム化合物およびモリブデン化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を触媒として用いる。
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遷移金属化合物の精製方法。
【課題】 遷移金属化合物の精製方法を提供すること。
【解決手段】 反応させて得られた下記式(1)で示される遷移金属化合物を含む反応溶液の溶媒の一部を貧溶媒で置換して溶媒組成を調整した後、不溶物を濾別して得られた濾液を濃縮し、次いで貧溶媒を加え溶媒組成を調整して得られた溶液から該遷移金属化合物を析出させる式(1)で示される遷移金属化合物の精製方法。
式(1)
[式中、M1は第4族遷移金属を表し、Aは第16族元素を表し、Bは第14族元素を表し、nは0又は1を表し、Cpは置換されていてもよいシクロペンタジエン骨格を有する基を表し、R5、R6、R7、R8、R9及びR10は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基等を表し、X1及びX2は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表す。]で示される遷移金属化合物。
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