【課題】透明性、均質性、及び導電性を有する高品質な酸化亜鉛系膜を３００℃以下の低温で成膜することが可能な酸化亜鉛系膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】必須成分として、下記一般式（１）（一般式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は、相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す）で表される亜鉛化合物を含有する酸化亜鉛系膜形成用組成物。
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【課題】機械強度が十分であり、低誘電性に優れ、シリコンウエハー及びＰ−ＴＥＯＳ等のＳｉＯ_２膜の両方への接着性に優れたシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】実質的にＯＨ基の含有量が大幅に減少されてなる高い緻密性を備えた微細孔を有するシリカ系被膜。（ａ）一般式（１）で表せられる化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、(化１)Ｒ１ｎＳｉＸ４−ｎ（１）（式中、Ｒ１は、Ｈ若しくはＦ又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉを含む基又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは、加水分解性基を示すし、ｎは０又は１の整数である）（ｂ）下記一般式（２）で表せられるイオン性化合物並びに(化２)（Ｒ２４Ｎ＋）ｎＹｎ−（２）（式中、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｙは、陰イオンを示し、ｎは陰イオンの価数である）（ｃ）前記（ａ）成分及び（ｂ）成分を溶解可能な溶媒を含むシリカ系被膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、有機半導体素子の製造プロセス適応性に優れる膜形成用組成物および該組成物を用いた薄膜トランジスタを提供することである。
【解決手段】上記課題は、必須成分として、（ａ）式（Ｉ）で表される構造を０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上含有する有機化合物と、（ｂ）有機溶剤とを含有する膜形成用組成物および該組成物を有機半導体素子の絶縁膜等に用いる薄膜トランジスタにより達成される。該薄膜トランジスタは、閾値電圧が高く、ＯＮ/ＯＦＦ電流比も高い特性の良好なトランジスタとなる。
【化１】
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【課題】部分放電開始電圧を有し、高い耐熱軟化性を有する絶縁被膜を得ることができる絶縁塗料およびそれを用いて形成された絶縁被膜を有する絶縁電線を提供する。
【解決手段】絶縁被膜を形成するための絶縁塗料であって、前記絶縁塗料は、ジアミン成分と酸成分とを共沸溶媒の存在下で合成反応させて得られる樹脂成分に対して、イソシアネート成分を合成反応させて得られるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料であり、前記ジアミン成分は、該ジアミン成分100モル％中で、カルド構造を有する芳香族ジアミン成分が20モル％以上100モル％未満で含有されていることを特徴とする。また、絶縁電線１０は、該絶縁塗料による絶縁被膜２が導体１の外周に形成されている。 （もっと読む）

【課題】印刷特性に優れた受容層を形成するためのアクリレート系共重合体を提供する。
【解決手段】アクリレート系共重合体は、式（１）のモノマー単位を１〜３０ｍｏｌ％と、式（２）または式（３）のいずれか一方もしくは両方のモノマー単位を５〜４０ｍｏｌ％とを含み、式（１）中のＸは、Ｎ（ＣＨ₃）₂またはＮ⁺（ＣＨ₃）₃Ｃｌ^-であり、式（１）および式（３）中のＲは、ＨまたはＣＨ₃である。
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【課題】エポキシ樹脂が本来有する優れた性能に加え、高いガスバリア性及び耐食性を有するエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化剤を含むガスバリア性エポキシ樹脂組成物であって、該エポキシ樹脂中のハロゲン含有量が０．６質量％以下であり、前記エポキシ樹脂及び／又はエポキシ樹脂硬化剤が下記一般式（１）で表される骨格構造を分子内に有し、かつ該樹脂組成物中の下記一般式（１）で表される骨格構造の含有量が３０質量％以上である、ガスバリア性エポキシ樹脂組成物。
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【課題】部分放電開始電圧の高い絶縁皮膜が得られるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を提供する。
【手段】ジアミン成分と、芳香族トリカルボン酸無水物成分（Ａ）および芳香族テトラカルボン酸二無水物成分（Ｂ）を含む酸成分と、を合成反応させて得られる組成物に、芳香族ジイソシアネート成分を反応させてなるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料において、芳香族テトラカルボン酸二無水物成分（Ｂ）は、４つ以上の芳香環を有する芳香族テトラカルボン酸二無水物成分（Ｂ−１）が含有されているポリアミドイミド樹脂絶縁塗料である。 （もっと読む）

【課題】 厚肉成形製品、例えば注型組成物のための型、注型成形組成物、シーラント、補綴成形製品または型取、現場成形ガスケット、または厚肉被覆、例えばコンフォーマル被覆を提供する。
【解決手段】 ａ）３〜９９重量％の少なくとも１種のアルケニル基含有ポリシロキサン、ただしポリスチレンを標準とするＧＰＣによる数平均Ｍｎとして測定される該ポリオルガノシロキサンａ）の平均重合度Ｐｎは少なくとも２００である、
ｂ）０.２〜６０重量％の少なくとも１種のＳｉＨ官能性ポリシロキサン、
ｃ）０.１〜６０重量％の、ＢＥＴ表面積が５０〜４００ｍ²／ｇの酸化物充填剤から選ばれる、少なくとも１種の充填剤、
ｄ）金属含有量１〜５００ｐｐｍに相当する少なくとも１種の光活性化可能な触媒、および
ｅ）０〜３０重量％の１種もしくはそれ以上の助剤、
をいずれも成分ａ）〜ｃ）の合計量に対して含んでなる光活性化性で硬化性のシロキサン組成物、を使用する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、従来のアルコキシ基を残存させたシルセスキオキサンおよびこれを含有する硬化性組成物の安定性が非常に悪いという欠点を解消した紫外線硬化が可能な実質的にシラノール基を含まないシルセスキオキサン化合物を含有する硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）：Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃（１）（式中、Ｒ¹は少なくとも１つのエポキシ基を有する炭素数１〜８の炭化水素基、または少なくとも１つのエポキシ基を有する芳香族炭化水素基を表し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す）で示されるエポキシ基含有アルコキシシラン類（ａ１）およびエポキシ基を有しない金属アルコキシド類（ａ２）を｛（ａ２）のモル数｝／｛（ａ１）のモル数と（ａ２）のモル数との合計｝（モル比）が０．８以下となるように含有する混合物を、固体触媒を用いて加水分解、縮合させることによって得られる実質的にシラノール基を含まないエポキシ基含有シルセスキオキサン（Ａ）ならびにエポキシ樹脂用硬化剤（Ｂ）を必須成分として含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁性無機粒子を樹脂中で分散させ、硬化後に絶縁性磁性体材料として優れた性能を示す磁性体無機粒子をコアとするコア−シェル構造粒子ならびにそれを用いたペースト組成物を提供すること。
【解決手段】磁性体無機粒子をコアとするコア−シェル構造粒子であって、前記シェルがグリシジルアミン型エポキシ化合物を付加重合させて得られる樹脂を含むことを特徴とするコア−シェル構造粒子。 （もっと読む）

【課題】廃棄物の処分方法は、焼却処分となるため環境への負荷が懸念される。また、建築用部材の補強用として外壁材、間仕切り材、鉄骨の補強材として使用されたアスベストは健康被害や衛生上有害と認識され現在では使用及び製造の禁止となった。アスベストの機能を有しながら衛生上の問題を起こさない代替となる塗装材が求められている。
【解決手段】本発明の接着性組成物塗装材は、アスベストの特性と同等の性質をもつ塗装材として用いることを可能とする同等の機能特性を特徴とし、汎用性があり、用途の有効活用ができる。 （もっと読む）

【課題】滑り性に優れた塗膜を形成する帯電防止樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ａ）、ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）、及び４級アンモニウム塩基含有ポリマー（Ｃ）を含有する帯電防止樹脂組成物。ポリテトラメチレングリコール骨格を有する（メタ）アクリレート化合物（Ｂ）の含有量が（Ａ）〜（Ｃ）の合計中０．５〜４０重量％である。 （もっと読む）

【課題】防汚性を有する粉体塗料、該粉体塗料を用いた塗装物の形成方法、及び該粉体塗料を用いた電子機器の製造方法の提供。
【解決手段】シリコーンオイルを内包し、該シリコーンオイルを加熱により漏出するマイクロカプセルと、塗装用粒子とを含有し、前記マイクロカプセルの表面の帯電量が、前記塗装用粒子の帯電量の１／１０倍〜１／２倍であり、前記マイクロカプセルの体積平均粒子径が、前記塗装用粒子の体積平均粒子径の１．５倍〜５倍であり、前記マイクロカプセルの含有量が、１質量％〜２０質量％である粉体塗料である。 （もっと読む）

【課題】ガラスや金属等の物質からなる基材に、半永久的な指紋付着低減機能を与えるコート液、その製造方法および指紋付着低減コート液を塗布した物品を提供する。
【解決手段】指紋付着低減コート液と、それの製造方法と、それが基材に塗布されている物品において、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、又はシクロヘキサノンを主成分とする有機化合物と、ウレタンアクリレートを主成分とする有機窒素化合物とが、それらの混合溶液に対して、それぞれ固形分で１０重量％〜４０重量％ずつ混合されて混合溶液が作られている。その混合溶液に混合溶液の固形分に対して０．１重量％〜２０．０重量％防汚性添加剤が添加されて組成物となっている。ＵＶ照射及び高温による硬化処理後の表面付近に厚さ０．０１μｍ〜０．１０μｍの層に撥水撥油機能が高い成分を過密な状態から安定した状態に高密度に配列されている。 （もっと読む）

【課題】親水性、反射防止性、鉛筆硬度に優れ、厚膜時の耐クラック性が良好な機能性塗膜を提供する。
【解決手段】機能性塗膜の製造方法は、（Ａ）重合体粒子及び（Ｂ）加水分解性珪素含有化合物を含み、ｐＨが７以下であるコーティング組成物を基材上に塗布した後、塩基性雰囲気下で縮合及び養生する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】電子写真印刷装置において使用される加圧部材の寿命を向上させ、且つ製造コストを削減するために、従来の加圧部材の剥離特性及び機械的頑健性を改善する。
【解決手段】加圧部材は、基材と、弾性材料によってそれぞれ囲まれているフッ素重合体及びカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含むコーティングされた最外層を含む。 （もっと読む）

【課題】常温で従来と同等以上の部分放電開始電圧を有すると共に高湿度環境下でも部分放電開始電圧が低下しにくい絶縁皮膜が得られるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料を提供する。
【解決手段】芳香族トリカルボン酸無水物（Ａ）及び芳香族テトラカルボン酸二無水物（Ｂ）からなる酸成分と、ジアミン成分（Ｃ）と、を反応させて得られるプレポリマーに、イソシアネート成分（Ｄ）を混合してなり、芳香族トリカルボン酸無水物（Ａ）と芳香族テトラカルボン酸二無水物（Ｂ）との配合比率がモル比率で（Ａ）／（Ｂ）＝５０／５０〜１０／９０であるポリアミドイミド樹脂絶縁塗料である。 （もっと読む）

【課題】親水性、反射防止性、鉛筆硬度に優れ、厚膜時の耐クラック性が良好な機能性塗膜を提供する。
【解決手段】機能性塗膜の製造方法は、（Ａ）水溶性樹脂及び（Ｂ）加水分解性珪素含有化合物を含むコーティング組成物を基材上に塗布した後、塩基性雰囲気下で縮合及び養生する工程を含む。また、機能性塗膜は、前記製造方法によって得られる。 （もっと読む）

【課題】 引裂強度及び引張弾性率に優れた塗膜及びシ-ムレス管状体を形成しうるポリアミドイミド樹脂を提供する。
【解決手段】（ａ）酸無水物基及びカルボキシル基を有する３価以上のポリカルボン酸無水物を必須とするポリカルボン酸成分、
（ｂ）３，４´-ジフェニルエーテル構造を有するイミドジカルボン酸
【化１】


及び
（ｃ）芳香族ポリイソシアネ-ト
を塩基性極性溶媒中で反応させて得られることを特徴とするポリアミドイミド樹脂。 （もっと読む）

【課題】可とう性に優れた電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用いた可とう性に優れたエナメル線を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸無水物基及びカルボキシル基を有する３価以上のポリカルボン酸無水物を必須とするポリカルボン酸成分、（Ｂ）一般式（１）
【化１】


・・・（１）
で表される（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）構造を有するイミドジカルボン酸及び（Ｃ）芳香族ポリイソシアネートを塩基性極性溶媒中で反応させて得られるポリアミドイミド樹脂を含む電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用いたエナメル線。 （もっと読む）