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Fターム[4K024CB01]の内容

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Fターム[4K024CB01]に分類される特許

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【課題】 半田付けしたときの強度を保持し、かつ、半田付けするときの融点を低温化できる金属ボールを提供する。
【解決手段】 金属ボール10は、コアボール1と、反応抑制層2と、めっき層3とを備える。コアボール1は、直径が50μm〜1000μmの範囲である銅(Cu)からなる。反応抑制層2は、ニッケル(Ni)からなり、0.1〜5μmの範囲の膜厚を有する。めっき層3は、錫ビスマス(Sn−Bi合金)からなり、0.1μm〜100μmの範囲の膜厚を有する。そして、めっき層3は、錫(Sn)が最内周から最外周へ向かって減少し、ビスマス(Bi)が最内周から最外周へ向かって増加するように電気めっきにより作製される。 (もっと読む)


【課題】水素分離膜への一酸化炭素等の吸着を減少させ、効率的に水素ガスを分離精製することができる水素分離体、水素製造装置、水素分離体の製造方法及び水素分離体の製造装置を提供する。
【解決手段】水素分離体100には、基体管101の内側表面に、超臨界CO2を用いためっきにより形成した水素透過層102が積層される。この基体管101は、触媒担持セラミックス層101aと細孔セラミックス層101bとから構成される。この触媒担持セラミックス層101aの多孔管内に、一酸化炭素ガスのシフト反応や部分酸化反応を行なう触媒金属を担持させる。また、細孔セラミックス層101bは、水素ガスを優先的に水素透過層102側へ供給する。Ni充填層103で生成された改質ガスに含まれる一酸化炭素ガス等は基体管101で低減される。 (もっと読む)


【課題】 めっき液の汚染の抑制が図られると共に、形成されるめっき被膜の膜厚の均一化が図られたバレルめっき方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るバレルめっき方法は、被処理物22と、被処理物22に金属をめっきするためのめっき液24と、めっき液24によって被処理物22にめっきされる金属と同じ金属によって構成されたダミーボール10とを準備する工程と、ダミーボール10及び被処理物22をバレル26の中に投入する工程と、バレル26をめっき液24に浸漬させて通電し、被処理物22に金属をめっきする工程とを備えることを特徴とする。このバレルめっき方法においては、ダミーボール10が溶け出しても、溶け出した金属と被処理物にめっきされる金属とが同じNiであるため、めっき液24の汚染が抑制される。ダミーメディア10がセラミックのコアを含んでいないため、被処理物22に形成されるめっき被膜の膜厚の均一化も図られている。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン化銀感光材料の金属銀部に形成されるメッキ被膜のメッキむら、金属銀部の焦げ、ハロゲン化銀感光材料の傷等の発生を抑制する。
【解決手段】導電面を有するフィルムFを電解メッキ処理槽50内で搬送しながら、電解メッキ処理によるメッキ被膜を導電面に形成する電解メッキ処理装置において、ジェット穴60を、少なくともメッキ処理液7の液面から1.0mm〜100.0mmの深さに配置して、このジェット穴60からメッキ処理液7の液面に沿ってフィルムFの導電面へメッキ処理液を噴射させる。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン化銀感光材料に発生するメッキむらや傷を抑制する。
【解決手段】導電面を有するフィルムFを複数の電解メッキ処理槽50内を通過させて、電解メッキ処理によるメッキ被膜を導電面に形成する電解メッキ処理装置において、各電解メッキ処理槽50に充填されたメッキ処理液7の濃度を、搬送方向上流側から下流側へかけて徐々に低下させる。 (もっと読む)


【課題】 ハロゲン化銀感光材料に発生するメッキステインや汚れを抑制する。
【解決手段】導電面を有するフィルムFを電解メッキ処理槽50内で搬送しながら、電解メッキ処理によるメッキ被膜を導電面に形成する電解メッキ処理装置において、電解メッキ処理槽50でメッキ被膜を形成されたフィルムFを空気に接触させることなく水洗槽52へ搬送して水洗し、水洗槽52で水洗されたフィルムFを乾燥槽54へ搬送して乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】導電性が低く、表面の機械的損傷に対して敏感なストリップ状の処理素材を一巻き一巻き電解処理する、小さいライン長で高い生産能力を示す連続ライン、それも、ストリップの表面を全面電解処理する方法に適した連続ラインを提供する。
【解決手段】ストリップの一巻き一巻きの電解処理に関し、電気接触はストリップのどちらかの面が金属製の接触ローラ2、3を使って行われ、他方の面が弾性対向ローラ4、5の各々を使って行われる。連続ラインに沿って接触エリア1がより長い電解エリア11と交互に位置する。電解エリアの場所ごとに電流密度を個別に調整するために、このエリアは、個別の電解セルを形作る個別の整流器を備えた個別の陽極を含む。これにより、ほとんど導電性のないストリップにおける電圧降下は、電解エリアの場所ごとに陽極のもとで所定の電流密度が有効になるように補償される。 (もっと読む)


【課題】耐食性のためにピンホールなどの発生を抑制し、効率的に燃料電池を製造することができる燃料電池用セパレータ、燃料電池、燃料電池用セパレータの製造方法及び燃料電池用セパレータのめっき装置を提供する。
【解決手段】燃料側セパレータ及び空気側セパレータに対峙させて陽極板を挿入しためっきユニット20を構成する。そして、めっきユニット20において、燃料、熱流体や空気を流す流路に対して、めっき液と、これの拡散力を高める超臨界CO2とを混合分散させためっき分散体を供給する。更に、このめっきユニット20の陽極板と、セパレータとの間で通電を行ない、電解めっきを行なう。これにより、流路板の凸部にめっきを膜が形成される。更に、陽極板を外しMEAと差し替えて、合体することにより燃料電池スタックを製造することができる。 (もっと読む)


【課題】電子部品において部分的に異なるめっき組成やめっき皮膜厚などが形成される電子部品と、部分的に異なるめっき組成やめっき皮膜厚などでめっき皮膜を形成可能なめっき方法とを提供する。
【解決手段】電気素子が搭載されたベース1と、ベース1に設けられた外部接続用の絶縁リード4とを備え、ベース1及びリード4の表面にめっき皮膜が形成された電子部品であって、ベース1に形成されためっき皮膜と、リード4に形成されためっき皮膜とが、互いにめっき層が異なるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】 チップ部品等の微小なめっき対象物に衝撃を与えず破損を防止できると共に、めっき工程中に多数のめっき対象物とカソード側電極とを導通させられ、いずれの対象物においても確実なめっき状態が得られる微小物の電解めっき装置及び当該装置を用いる電解めっき方法を提供する。
【解決手段】 チップ部品等の微小なめっき対象物40をめっき液50と共に収容する中空容器20を回転させ、めっき対象物40を常に容器下部の溝内に位置させつつ容器内面との接触状況を変化させ、各めっき対象物40と電極30との導通の機会をまんべんなく生じさせることにより、めっき対象物40に衝撃等を与えることなくめっき状態を大きく改善することができ、適切な電解めっきが行える。 (もっと読む)


【課題】 水平型電気錫めっきラインを用いた錫めっき鋼帯の製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の水平型のめっきセルを有する水平型電気錫めっきラインを用いて、鋼帯に電気錫めっき処理を施すに当たり、複数のめっきセルのうち、少なくとも錫めっき付着量に応じて決定される必要セル数のめっきセルには、めっき液を供給し、かつめっき液を供給しないめっきセルを1つ以上設けてめっき処理を行う。必要セル数は、I/Q={K×(m×W×LS)/η}/Q(ここで、I:片面当たりのめっき全電流(A)=K×(m×W×LS)/η、なお、K:係数、m:目標の片面当たりの錫めっき付着量(g/m2 )、W:鋼帯幅(mm)、LS:鋼帯搬送速度(m/min)、η:陰極電流効率、Q:1セル当たりの整流器容量(A))で決定されるI/Q値より大きい整数のうちの最小値とする。めっき液を供給しない残りのめっきセルでは、鋼帯に水またはめっき液を噴霧することが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 たとえば電子部品の外部電極などの被めっき物を、めっきするためのバレルめっき方法において、短時間のめっき処理で、平滑性の高いめっき膜厚を得るためのバレルめっき方法を提供すること。
【解決手段】 被めっき物をバレル内に入れ、前記バレルを回転させながら、電気めっきにより前記被めっき物の表面にめっきするバレルめっき方法であって、第1電流にて、所定のめっき膜厚を形成する第1工程と、その後、前記第1電流よりも電流密度の大きい第2電流に切り替えて、前記第2電流にて、所定のめっき膜厚を得る第2工程と、を有するバレルめっき方法。 (もっと読む)


【課題】連続した条材や条板に複合めっき皮膜を均一に形成して、連続的なプレスなどの加工に適した複合めっき材を製造することができる、複合めっき材の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 素材10を水平方向に搬送する間に、前処理工程と、固体粒子を含むめっき液を用いて固体粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する複合めっき工程と、後処理工程とを連続的に行う複合めっき材の製造装置において、処理工程を行う前処理槽と、この前処理槽の出口側に配置されて複合めっき工程を行う複合めっき槽20と、この複合めっき槽の出口側に配置されて後処理工程を行う後処理槽とを備え、複合めっき槽の出口に液切り用パッキング34を設け、この弾性部材に複合めっき槽から搬出される素材が当接して、後処理槽に導入されるめっき液の量を低減する。 (もっと読む)


【課題】めっき槽内のめっき液を完全にドレーン排出できるようにするとともに、ウエハの全面を有効利用する。又、常に新鮮なめっき液をウエハ表面に供給できるようにする。
【解決手段】めっき液Mを収納するめっき槽11と、該めっき槽の底部11bの貫通穴に装着された、環状の陰極補助電極ホルダ12と、該陰極補助電極ホルダに着脱自在に挿着され、その上面に被めっき物の載置部13cを有する被めっき物ホルダ13と、該被めっき物ホルダの上面側に設けられ、前記載置部上の被めっき物Wの下面に当接する陰極15と、該被めっき物ホルダの位置決め手段12d、13dと、ウエハ上を往復動するパドル23と、陰極と間隔をおいて対向する陽極とを備えている。ウエハの上面と陰極補助電極、陰極補助電極ホルダ、底部の各上面17c、12c、11cは同一平面を形成し、めっき終了後めっき槽底部からめっき液を排出すると、めっき液は完全にドレーン排出される。 (もっと読む)


【課題】 2層フレキシブル銅張積層板を形成する際に、高電流密度めっきを行っても応力がかからない、外観の優れた銅のめっき層を形成する。
【解決手段】 表面に導電性のシード層を有する有機高分子樹脂フィルムに銅を電解めっきすることにより、該フィルム上に銅箔を形成するフレキシブル銅張積層板を製造する方法において、導電性基体に白金族金属またはその酸化物を主成分とする電極活性物質を被覆した陽極を使用し、めっき用電解槽を陽イオン交換膜を用いて陽極室と陰極室に分離し、めっき浴温度が30 ℃以上および銅めっき電流密度が4〜12 A/dmでめっきを行う。 (もっと読む)


【課題】安定した生産を維持でき、異常突起粒状物や凹み状欠陥の少ないめっき被膜付きフィルムの製造を行うことができる陰極ローラおよびめっき被膜付きフィルムの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】導電面を有するフィルムを搬送しながらフィルム導電面を陰極ローラに接触させ、その前または/および後に配置されためっき浴にてフィルム導電面にめっき被膜を施すめっき被膜付きフィルムの製造に使用する陰極ローラであって、ローラ表面に粗面化処理および丸め処理を施してなる表面を有することを特徴とするめっき用陰極ローラおよびめっき被膜付きフィルムの製造装置および製造方法。 (もっと読む)


【課題】電解めっき層の膜厚を均一にできる電解めっき方法と、電解めっきラインを提供する
【解決手段】保持具に被めっき物を保持させる工程と、被めっき物をめっき液に浸漬する工程を行う。また、保持具を介して被めっき物に負電圧を印加し、めっき液内に配置された正電極に正電圧を印加するとともに、保持具を被めっき物とともに所定方向に回転しながら被めっき物の表面に電解めっき層を形成する工程を行う。回転しながら電解めっき処理を施すことにより、均一な膜厚でめっき層を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】 めっき液の特性の微小な変化に左右されないめっき成膜を可能とする半導体装置の製造装置及び製造方法を得る。
【解決手段】 被処理体にめっき処理を施すためのめっき液を収容するめっき浴槽と、この電解めっき浴槽内に配置されたアノードと、このアノードと対をなすカソードを有しかつ被処理体をカソードと導通可能に保持する移動及び回転可能な保持体とを含み、第1めっき条件で被処理体をめっき処理した後に、第2めっき条件に切り替えてめっき処理する半導体装置の製造装置において、被処理体の処理直前にめっき液の特性を測定する測定部と、測定部による測定結果に基づいて、被処理体ごとに、第1めっき条件によるめっき処理の時間を調整する制御部とを更に含む。 (もっと読む)


【課題】薄物シートの上端にクリップを取り付けるだけの簡単な作業によって、該薄物シートの表面を均一に処理することを課題とする。
【解決手段】処理液2が充填される処理槽本体3内に左右一対のノズル管4を複数段配設し、該ノズル管4には内側に向けて斜め下方に処理液2を噴射するノズル孔が複数個設けられ、被処理材である薄物シート5を該左右一対のノズル管4の間に通過させる処理槽1を提供する。この場合、該処理槽1に処理液2を充填し、該左右一対のノズル管4のノズル孔より左右等しい圧力および流速で処理液2を噴射し、クリップ6で支持した被処理材である薄物シート5を該処理槽1の一端より処理液2内に挿入し、該薄物シート5を該左右一対のノズル管4の中間で他端側に移動させ、その間に該処理液2によって該薄物シート5を処理し、他端において該薄物シート5を引き上げる。 (もっと読む)


【課題】長尺幅広で電気抵抗の高い被めっき素材へ、めっき膜厚の不均一やめっき表面粗度ムラ発生なく電解めっき可能な、電解めっき装置及び電解めっき方法を提供すること。および、この製造装置及び製造方法を利用して、細線状パターンの導電性金属部を有し、高い電磁波遮蔽性と高い透明性とを同時に有する光透過性電磁波遮蔽材料を提供すること。
【解決手段】長尺幅広の感光ウエブ18が連なって、第1の槽34内の電解質溶液34A及び第2の槽36内のめっき浴液36Aへ搬送・入液した状態で、感光ウエブ18の金属銀部へ、第1の槽34内で陰電極板46Aにより電解質溶液34Aを介して通電しつつ、第2の槽36内で第1陽電極板46Bによりめっき浴液36Aを介して通電し、電解めっき電流を流し、電解めっきを施す。この装置を用いて光透過性導電性である電磁波遮蔽材料を得る。 (もっと読む)


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