【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー９１と、基板搬送機から基板６を受取るための基板受けピン６６と、基板ホルダー昇降機構６８と、基板ホルダー９１の端部に設けられ、基板クランプ６１とクランプ支持金具６２とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板６を基板クランプ６１から解放するためのクランプ開閉ピン６７とを備え、クランプ支持金具６２は縦方向に回転し第１の腕６２ａ
と第２の腕６２ｃを有し、第１の腕６２ａの端には基板クランプ６１の一端が固定され、第２の腕６２ｃの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ６１が基板６を基板ホルダー９１に押圧するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】コンパクトで使い勝手が良く、イニシャルコストもランニングコストも安い真空成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ（２）内に、ワークホルダ（１０）と、マグネトロン電極（１５）とを設ける。マグネトロン電極（１５）には、第１のターゲット材料（１６）を設け、これに重ね合わせるように第２のターゲット材料（１７）を設ける。第２のターゲット材料（１７、１７）は第１のターゲット材料（１６）をカバーする位置と、開放する位置の２位置を採ることができるようにする。ワークホルダ（１０）と、第１、２のターゲット材料（１６、１７）との間には、直流電圧と高周波電圧とが選択可能に印加されるようにする。 （もっと読む）

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するバリアーフィルムとその製造方法及びそのバリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上にガスバリアー層２を備えたバリアーフィルム１０を製造する場合、基材１上にポリシラザンを含有した塗布液を塗布して成膜した塗膜に、真空紫外光を照射する処理を施した後に、１００℃以上２５０℃以下の加熱処理を施すことによって、水分透過率の低下を図ったガスバリアー層２を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】大型の基板に蒸着を行うための防着板の取付け／取外しが容易で、メンテナンス作業の向上が可能となる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられて蒸着材料を蒸発して供給する蒸着源と、真空チャンバ内に導入された基板を直立した状態でマスクの所定の位置に位置合わせするための機構と、位置合わせ機構により、直立した状態で前記マスクに対して位置合わせされた基板の蒸着表面に沿って、蒸着源を移動させる手段と、マスクと前記蒸着源との間に配置されたベースプレートとを備えた真空成膜装置において、真空チャンバ内において、蒸着源から供給されてマスクを介して前記基板の蒸着表面に蒸着されると共にその周囲にも飛散する蒸発した蒸着材料が付着する壁面に、薄膜状の防着膜１００を着脱可能に取り付けるための手段を備える。 （もっと読む）

【課題】重合性モノマーを用いて被処理フィルムを表面処理する際に、ロール電極に付着した重合性モノマーの凝縮物又は重合物等からなる付着物を除去し、上記付着物に起因する歩留まりの低下を防止する。
【解決手段】被処理フィルム９を、フィルム表面処理装置１のロール電極１１の外周面の軸方向の端部分１１ｅより内側かつ周方向の一部分１１ａに巻き付ける。ロール電極１１を軸線回りに回転させながら、重合性モノマーを含有する反応流体を被処理フィルム９に接触させ、かつロール電極１１と対向電極１１との間の放電空間１５において被処理フィルム９にプラズマを照射する。第１洗浄ロール３０を、ロール電極１１の端部分１１ｅと内側の部分１１ｂとに跨るようにして上記フィルム巻付部分１１ａから周方向にずれた部分に接触させる。第１洗浄ロール３０の少なくとも外周部３２を絶縁性にし、かつ外周部３２の最外周部分３４を粘着性材料にて構成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板９上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜１を被着したフィルム２に薄膜パターン形成領域１１に対応して薄膜パターン１２と同形状の貫通する開口パターン３を形成し、磁性体膜１側を第１の磁気チャック６の平坦面に吸着して保持されたマスク４の開口パターン３を、第２の磁気チャック１０上に載置された基板９の薄膜パターン形成領域１１に位置合わせするステップと、第２の磁気チャックにより磁性体膜１を吸着してマスク４を第１の磁気チャック６から基板９上に移すステップと、マスク４の開口パターン３を介して基板９上の薄膜パターン形成領域１１に成膜し、薄膜パターン１２を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、電子素子を安定的、かつ、低コストで形成可能な積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材および上記金属基材表面に形成された耐アルカリ保護層を有する耐アルカリ基材と、上記耐アルカリ基材上にパターン状に形成され、ポリイミド樹脂を含有する絶縁層と、上記絶縁層上に形成された導体層と、を有し、上記金属基材が、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合金からなるものであり、上記耐アルカリ保護層が、無機材料を主成分とする耐アルカリ材料からなるものであり、上記耐アルカリ基材の厚みが７０μｍ以上であることを特徴とする積層体を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】内部気圧の変動によるチャンバの変形によってもロボットハンドの位置変動がなく、かつ、比較的安価に実現可能な構造の基板搬送装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、搬入された基板を保持して所望の位置に搬送するための搬送ロボットを備えた基板搬送装置であって、前記搬送ロボットは、当該基板搬送装置を設置する床面に固定されると共に、その一部を、Ｏリングを介して、前記真空チャンバを構成する壁の一部に、当該真空チャンバ内を気密に保持可能で、かつ、相互に移動可能して、取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料を均一に加熱し、不均一な熱負荷による有機材料の劣化を抑制して純度の高い有機蒸着膜を得る。
【解決手段】蒸着装置において、材料蒸発皿１０として、供給される有機材料の安息角αに従った斜面を有する凸部１２を材料受面１０ａに備えたものを用い、材料蒸発皿１０を、有機材料の落下供給位置に凸部１２が位置するように配置する。 （もっと読む）

【課題】材料容器の中心付近に対して周縁付近を高く加熱することができ、しかも、材料容器に収納した蒸着材料の中心付近と周縁付近との温度差を容易に制御し得て、蒸着材料の気化量変化の応答性を高くすることができる蒸着材料加熱装置とすることができ、よって、基板に付着する被膜の膜厚の均一化に貢献することができる蒸着装置及び蒸着方法とし得て、均一な膜厚の被膜を有する基板を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸着材料１３を収納した材料容器１４と、材料容器１４の底面側に配置されて蒸着材料１３を加熱する加熱部１５と、加熱部１５による蒸着材料１３の加熱温度を材料容器１４の中心から外周に向かう加熱領域に応じて制御する温度制御部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】共蒸着を行う場合、蒸着材料を収納する容器を取り囲むヒータまでも傾けることになるため、容器同士の間隔が大きくなってしまい、蒸着材料を均一に混合することが困難になることに鑑み、間隔を狭め、均一に混合しながら蒸着可能な容器を提供する。
【解決手段】蒸着装置の蒸着源に置される蒸着材料を収納する容器であって、前記容器は、開口部８１０と、ガイド部と、を有することを特徴とする容器を用いる。このような容器を用いることにより、前記第１のガイド部によって、前記第１の開口から前記第１の蒸着材料の飛び出す角度が調節され、均一に混合しながら共蒸着を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬなどの成膜をおこなう成膜室に設置された防着板の取付け、取外し作業の時間を短縮し、かつ交換時の安全性を確保した成膜装置を提供する。
【解決手段】基板上に材料を成膜するための成膜室と、成膜する材料を前記基板に供給する成膜材料供給源と、少なくともその一部が、前記成膜室の筐体と前記成膜材料供給源の間に設けられ、該成膜材料供給源から供給される成膜材料が該筐体に付着するのを防止する防着板１と、を備えた成膜装置において、前記防着板は、少なくとも上下方向で複数部材に分割されており、かつ、上方の防着板を下方に移動させる防着板搬送機構を備える。また、前記防着板搬送機構は、前記筐体に係合する枠と、該枠に沿って移動する第一の搬送ブロックと、前記成膜室の開口部と直交する方向に敷説されたレールと、前記レールに沿って移動する第二の搬送ブロックとを備える。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板１上に一定形状の薄膜パターンを形成する薄膜パターン形成方法であって、前記基板１上に可視光を透過する樹脂製のフィルム４を設置する第１ステップと、前記基板１上の予め定められた部分に対応する前記フィルム４の部分を一定速度で加工して一定深さの穴部５を形成した後、該穴部５の底部を前記速度よりも遅い速度で加工して前記穴部５を貫通させ、一定形状の開口６を有するマスク７を形成する第２ステップと、前記基板１上の前記予め定められた部分に前記マスク７の前記開口６を介して成膜する第３ステップと、前記マスク７を剥離する第４ステップと、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】溶媒性ハードコーティングにおける設備、クリーンルーム環境等の不利点を克服する。
【解決手段】ハードコートフィルムであって、透明なポリマーフィルム基板２と、前記フィルム基板の表面上に形成される有機接着層４であって、約0.025μmから約20.0μmの範囲の厚さを有する接着層と、前記接着層の表面上に形成される有機ハードコート層６であって、約0.025μmから約20.0μmの範囲の厚さを有する有機ハードコート層と、を備えるハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】測定時のＳ／Ｎ比（シグナル／ノイズ比）の低下を抑制し、短時間の測定で精密な測定を行い、リアルタイム性の向上が図られるような光学的検知装置を提供する。
【解決手段】測定用の光が通過する測定光路と、前記測定光路に測定用の光を照射する光源と、前記測定光路を通過した光を受光し、吸収スペクトルの検出を行う検出器と、を有し、前記測定光路と前記光源とを連結させる第１の連結路と、前記測定光路と前記検出器とを所定の間隔でもって連結させる第２の連結路と、が設けられ、前記第１の連結路は前記測定光路と前記光源との間の空間を密閉可能な構成であり、前記第２の連結路は前記測定光路と前記検出器との間の空間を密閉可能な構成であり、前記第１の連結路及び前記第２の連結路の内部を排気する排気機構と、前記第１の連結路及び前記第２の連結路の内部に不活性ガスを供給する不活性ガス供給機構と、を備えた光学的検知装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】改良された有機材料の気化方法を提供する。
【解決手段】有機材料を気化させて表面に膜を形成する方法であって、所定量の流動化した粉末形態の有機材料を供給し；その粉末化した有機材料を計量し、流動化した粉末流として第1の部材の上に誘導し；その第1の部材を加熱して流動化した上記粉末流を気化させ；気化した有機材料をマニホールド６０内に回収し；そのマニホールドに通じている少なくとも1つの開口部９０が形成された第2の部材５０を用意し、気化した有機材料をその第2の部材によって上記表面に誘導して膜を形成する操作を含む方法。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板に小さなマスクで蒸着すると時間がかかる。
【解決手段】 基板上に行列をなして配置された複数の区画の各々に形成されるＥＬ発光装置の製造方法であって、
列方向の全ての区画の蒸着パタンを開口として有するマスクを前記基板に対向して保持し、前記マスクを通して前記基板に蒸着物質を蒸着する工程を有し、
前記基板を前記区画の行方向に１列ずつ移動し、前記工程を繰り返すことを特徴とするＥＬ発光装置の製造方法。 （もっと読む）