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Fターム[4K029BA62]の内容

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Fターム[4K029BA62]に分類される特許

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【課題】成膜時の熱による変形を抑制できる成膜マスク及び成膜装置並びに薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
複数の開口23が形成され、成膜物質が開口23を通過する通過部21と、成膜物質を遮蔽する遮蔽部22とを有している。通過部21と遮蔽部22とは長手方向を有し、遮蔽部22の長手方向の長さは、通過部21の長手方向の長さ以上にされ、遮蔽部22の幅の長さは、通過部21の幅の長さと同じに形成されている。通過部21と遮蔽部22とは、成膜マスク20a表面と平行な一の移動方向5に沿って長手方向を密着して並んで配置され、成膜マスク20aが一の移動方向5の通過部21側に通過部21の幅の距離移動すると、開口23が位置していた場所が、遮蔽部22によって塞がれるように構成されている。遮蔽部22には内部に伝熱媒体が流れる流路部材が密着して設けられている。 (もっと読む)


【課題】原料ガスの供給量の変動を防止し、原料ガスの重合反応により成膜されるポリイミド膜を連続して安定に成膜できる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板にポリイミド膜を成膜する成膜装置において、第1の原料ガスを基板に供給するための第1の気化器21と、第2の原料ガスを基板に供給するための第2の気化器41と、第1の気化器の内部の圧力を測定するための第1の圧力計側部M1と、第2の気化器の内部の圧力を測定するための第2の圧力計側部M11と、第1の圧力計側部M1により測定した第1のデータに基づいて第1の原料ガスの供給量を算出し、第2の圧力計側部M11により測定した第2のデータに基づいて第2の原料ガスの供給量を算出し、算出した第1の原料ガスの供給量と算出した第2の原料ガスの供給量とがそれぞれ一定になるように、第1の気化器21及び第2の気化器41を制御する制御部60とを有する。 (もっと読む)


【課題】蒸着源及び有機膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程に容易に適用でき、蒸着工程中にノズルの閉塞現象を防止して、歩留まり及び蒸着効率を高める蒸着源及びこれを利用した有機膜蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】基板の表面における酸二無水物及びジアミンのそれぞれのガスの供給量の変動を防止し、酸二無水物とジアミンとの重合反応により成膜されるポリイミド膜を連続して安定に成膜できる成膜装置を提供する。
【解決手段】内部の圧力が圧力調整可能に設けられており、固体状態の第1の原料を気化させ、気化した第1の原料ガスを基板に供給するための第1の気化器21と、内部の圧力が圧力調整可能に設けられており、液体状態の第2の原料を気化させ、気化した第2の原料ガスを基板に供給するための第2の気化器41と、第1の気化器21の内部の圧力と第2の気化器41の内部の圧力とを調整することによって、第1の原料ガスの供給量と第2の原料ガスの供給量との比が一定になるように、第1の気化器21及び第2の気化器41を制御する制御部60とを有する。 (もっと読む)


【課題】有機ELディスプレイの生産性を高めるため、高い成膜速度で長時間安定に成膜作業を実施し、かつ均一な膜厚分布を達成する。
【解決手段】成膜室内で、昇華又は蒸発した成膜材料を基板Wに成膜する成膜装置において、加熱機構11を備えた複数の材料収容部10と、成膜材料を基板Wに向けて放出させる放出口13との間に、連結空間14を配置する。複数の材料収容部10を用いることで高い成膜速度を得るとともに、各材料収容部10から昇華又は蒸発した成膜材料を連結空間14において混合し、均一な膜厚分布を実現する蒸気として複数の放出口13から基板Wに向かって放出する。 (もっと読む)


【課題】互いに真空度の異なる複数の成膜室間での基板の連続搬送・連続成膜処理を可能にしながら有機EL素子などの半導体素子の生産性を大幅に向上させることを低コストで実現可能とする真空一貫成膜装置を提供する。
【解決手段】互いに真空度の異なる複数の成膜室1,2と、前記各成膜室の間を圧力差を維持しながら連通させる圧力調整室3とを備えた真空一貫成膜装置であって、前記圧力調整室には、前記圧力調整室が連通させている各成膜室の間を基板が挿通可能なスリットの部分を除いて遮蔽する遮蔽部材が備えられている。また、前記遮蔽部材を冷却する冷却部が備えられている。また、前記遮蔽部材の表面には活性炭またはゼオライトなどの吸着剤が付着されている。さらに、前記遮蔽部材は、その一部に基板が挿通可能なスリットが形成された遮蔽板である。 (もっと読む)


【課題】蒸着重合において、ポリイミド被膜の密着力が低くなることを防止しつつ成膜速度を大きくすることができる成膜基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜基材の製造方法は、第1工程と第2工程とを備える。第1工程では、成膜室20内で、室内温度Tを予め設定される基材10の酸化基準温度(250度)より低い第1温度(220度)に設定し、室内圧力Pを第1温度で原料モノマー31,41が気化する第1圧力(15Pa)に設定して、基材10の表面にポリイミドの酸化防止用被膜11aを形成する。第2工程では、成膜室20内で、原料モノマー31,41の分子数を増加して室内圧力Pを第1圧力より大きい第2圧力(90Pa)に設定し、室内温度Tを酸化基準温度より高く且つ第2圧力で各原料モノマー31,41が気化する第2温度(300度)に設定して、酸化防止用被膜11aの表面にポリイミドの厚膜用被膜11bを形成する。 (もっと読む)


【課題】高アスペクト比を有しながら内径が均一なパターンを形成することが可能なプラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るプラズマエッチング方法は、表面にマスクパターンが形成された基板Wを真空槽21内に配置し、真空槽21内に導入したガスのプラズマを発生させ、基板Wに高周波電場を印加しながらプラズマを用いて基板Wをエッチングし、基板Wに対するエッチングの進行に応じて高周波電場の周波数を変化させる。これにより、エッチングの指向性(等方的か異方的か)を変化させることが可能となる。エッチングが等方的となる周波数とエッチングが異方的となる周波数を切り替えることにより、パターンの拡張と縮小を抑え、内径が均一なパターンを形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】発光色の変動が抑制され、高品質な有機EL素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源のノズルから気化された有機層形成材料を吐出させて、前記基材の電極層側に有機層を形成する蒸着工程を含む有機EL素子の製造方法であって、前記基材の移動方向に対し前記ノズルよりも上流側において前記キャンロールに支持された前記基材までの第1の距離を測定可能な距離測定手段と、前記蒸着源のノズルと前記基材の表面との間の第2の距離を調整可能な位置調整手段と、を用い、前記距離測定手段による前記第1の距離の測定結果に基づいて、前記位置調整手段により前記第2の距離が一定となるように制御しつつ前記蒸着工程を行なうことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)



【課題】第4世代以上の大型基板にも対応可能な極めて実用性に秀れた成膜装置の提供。
【解決手段】直立状態に保持された基板2にマスク3を介して成膜材料を付着せしめて成膜を行う成膜室1を備えた成膜装置であって、成膜室1に、マスク3が基板2に対して適正位置となるようにマスク3と基板2との位置合わせを行うアライメント駆動機構と、基板2若しくはマスク3の搬送方向に沿って移動可能な蒸発源100と、蒸発源100と対向する複数の成膜位置に基板2及びマスク3を夫々直立状態で搬送するマスク搬送機構及び基板搬送機構とを設け、一の成膜位置において蒸発源100により成膜を行いながら他の成膜位置においてアライメント駆動機構によりマスク3と基板2との位置合わせを行えるように構成する。 (もっと読む)


【課題】蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法を提供する。
【解決手段】有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板であって、本発明による蒸着マスク引張用整列基板10は透明基板11と、前記透明基板11の一面にコーティングされて光を反射させる反射膜パターン13を含み、前記反射膜パターン13は前記開口部と対応する位置にのみ形成される。 (もっと読む)


【課題】発光色の変動が抑制された、高品質な有機EL素子を製造し得る有機EL素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】電極層の形成された帯状の基材を供給し、該基材の非電極層側を回転駆動するキャンロール表面に当接させて該基材を移動させつつ、前記キャンロールと対向するように配された蒸着源のノズルから気化された有機層形成材料を吐出させて、前記基材の電極層側に有機層を形成する蒸着工程を含む有機EL素子の製造方法であって、前記蒸着源として、前記キャンロール側に突設され、先端部が前記キャンロールの軸方向両端部に当接する突出部材が備えられたものを用い、弾性体を介して前記突出部材が前記キャンロールに当接する方向に前記蒸着源を付勢しつつ、前記蒸着工程を実施することを特徴とする有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイスにおける層間絶縁膜の経時変化を抑制し、デバイスの信頼性を向上する。
【解決手段】成膜終了時にモノマー分解生成物が膜表面に付着することを防ぐために気体分子のチャンバー内滞在時間を短くする。また不活性ガスのプラズマにより表面を処理することで表面に付着したモノマー分解生成物を除去する。 (もっと読む)


【課題】マスクをフレームに引っ張り溶接するときに発生しうるシワを改善することが可能な、マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】フレームと、フレームに第1方向に引っ張られた状態で設けられるマスクと、を備え、マスクは、複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、蒸着領域より厚く形成され、蒸着領域の両側に前記第1方向に沿って延設されるエッジ部と、蒸着領域より厚く形成され、第1方向と垂直の第2方向に隣接した蒸着用パターン部の間に少なくとも2つ以上形成されるリブと、を備えるマスクフレーム組立体が提供される。 (もっと読む)


【課題】芳香族酸二無水物と芳香族ジアミンとの熱重合反応により成膜されるポリイミド膜の成膜速度を一定にすることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜容器60内で基板を保持する基板保持部44と、基板保持部44に保持されている基板を加熱する基板加熱部62と、成膜容器60内に設けられるとともに、第1の原料ガス及び第2の原料ガスを供給するための供給孔75が形成された、供給管73aを含み、供給孔75を介して成膜容器60内に第1の原料ガス及び第2の原料ガスを供給する供給機構70と、基板保持部44と基板加熱部62と供給機構70とを制御する制御部90とを有する。制御部90は、供給機構70により第1の原料ガス及び第2の原料ガスを供給するとともに、基板加熱部62により、基板保持部44に保持されている基板を、熱重合反応が生ずる温度範囲に加熱することによって、ポリイミド膜の成膜速度を制御する。 (もっと読む)


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