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Fターム[4K029CA13]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 基体にバイアス電位を設定をするもの (996)

Fターム[4K029CA13]に分類される特許

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【課題】湿った環境で安定で且つ高い誘電定数及び高い破壊強さを有するポリマー材料を含む構造体の提供。
【解決手段】フィルム40及びフィルム40を含む物品60であり、フィルム40は第1の層42、第2の層44及び第3の層46を含む。第1の層42はポリマー誘電材料を含む。第2の層44は第1の層42の少なくとも1つの表面48、50上に配置され、無機酸化物誘電材料を含む。第3の層46は第1の層42又は第2の層44上に配置され、窒化物又はオキシ窒化物材料を含む。 (もっと読む)


【課題】アーク蒸発ソースに基づいた製造システムに使用することができる経済的な問題を解決する。
【解決手段】本発明は、ターゲットとして実施され、アーク蒸発ソースの一部である第1の電極を有する真空処理システム内でワークピースを表面処理する方法であって、第1の電極によって、アーク電流を用いてアークを動作させ、ターゲットから、ワークピース上に少なくとも部分的に、かつ断続的に堆積させる材料を蒸発させ、ワークピースホルダとして実施され、ワークピースと共にバイアス電極を構成する第2の電極を有し、電圧供給部によって、バイアス電極にアーク電流と整合するようにバイアス電圧を印加し、したがって本質的に、表面上に材料が正味で蓄積されない方法に関する。 (もっと読む)


【課題】アークスポットが蒸発源の表面部以外に入り込む現象を防止して、安定した放電を行わせるとともに、表面平滑性を向上させ、残留応力の制御性が高い薄膜を形成可能なアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】蒸発源の端面から内方に所定幅の端部領域を除く内側領域表面の磁束密度が10〜15mTであり、端部領域表面の磁束密度が内側領域表面の磁束密度よりも3mT以上大きく、蒸発源の表面からワークまでの距離が120〜300mmであり、その距離の間の磁束密度の絶対値の積算値が260mT・mm以下であり、蒸発面における磁力線は、蒸発面の法線に対する角度θが0°<θ<20°であり、端部領域表面では内側領域に向けて傾いており、内側領域の磁束密度は、標準偏差が3以下である。 (もっと読む)


【課題】面内方向における膜厚分布・膜質分布を均一にすることができ、かつ、成膜材料を交換するために成膜を一時的に停止せずに成膜できる成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理対象を走行させる搬送手段と、被処理対象の走行方向に対して直交する方向に沿うように設けられたライン状の一以上の蒸着原料と、蒸着原料を溶融し、走行方向に対して直交する方向に列設される電子ビーム装置と、蒸着原料にイオンビームを照射し、走行方向に対して直交する方向に列設されるイオンソースとを備え、蒸着原料を支持する支持部材24と、蒸着原料を昇降させる昇降部材25とを備える。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性、耐欠損性、および密着性を兼ね備えた被覆膜を表面に有する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材とその上に形成された被覆膜とを備え、該被覆膜は、AlaTibcdeからなるA層と、AlfCrgMehdeからなるB層とが交互に各2層以上積層された積層体を含み、式中MおよびMeは、それぞれ独立してV、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、W、およびSiからなる群より選ばれる1種以上の元素を示し、被覆膜の表面から被覆膜の厚み方向に被覆膜全体の厚みの10%以上50%以下の領域が、酸素を含有する酸素含有領域となっており、該酸素含有領域において、A層およびB層は、e>0であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高速・湿式の深穴用ドリル加工条件においても硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性と切屑排出性を発揮する表面被覆ドリルを提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体、サーメットあるいは高速度鋼からなるドリル基体の上に、Tiの窒化物、炭化物または炭窒化物、あるいはTiとAlからなる複合窒化物のいずれかの組成の単層構造からなる硬質被覆層が形成された表面被覆ドリルにおいて、硬質被覆層の縦断面組織を観察した際に、ドリルのマージン部、先端切れ刃および逃げ面においては、硬質被覆層が、アスペクト比が10〜100、幅20〜100nmの柱状組織からなる単層構造を有し、かつ、ドリルのフルート溝部においては、粒状組織からなる単層構造を有し、加工長さL、直径DとしたときL/Dが3を超える深穴加工においてもマージン部の高い耐摩耗性と、フルート溝部の高い切屑排出性を長期に亘って実現する。 (もっと読む)


【課題】薄い基材上に厚いアルミニウムを被着させても基材が撓むことのない被着方法を提供する。
【解決手段】基材を静電チャック上に配置し、静電チャックにバイアスを印加しない状態でアルミニウムの第1層を被着させ、次に静電チャックにバイアスを印加して基材を支持体に密着し、そして第1層より厚いアルミニウムの第2層を22℃未満の基材温度で第1層に連続して被着させる。 (もっと読む)


【課題】高送り・乾式の深穴用ドリル加工条件においても硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性と切屑排出性を発揮する表面被覆ドリルを提供する。
【解決手段】ドリル先端部の逃げ面の皮膜断面の結晶粒形状を観察したとき、粒径制御層を構成する結晶粒が幅10〜100nm、高さ0.2〜6.0μmの柱状晶からなり、かつ、ドリルの切屑排出溝のうち、ドリル先端部からドリル基体の長さに沿ってドリル径の5倍の長さまでの領域において、粒径制御層を構成する切れ刃の皮膜断面の結晶粒形状を観察したとき、粒径制御層を構成する結晶粒の平均アスペクト比が、ドリル先端から後方に向けて、1〜100の範囲で漸次減少し、かつ、ドリル先端部から直径の0.01倍の位置における平均アスペクト比が直径の5倍の位置における平均アスペクト比の2倍以上である。 (もっと読む)


【課題】立方晶窒化アルミニウムチタンコーティングおよびその作製方法を提供する。
【解決手段】B1立方晶相の単層構造と組成(AlTi1−x)Nとを有し、xが約0.46〜約0.52モルの範囲である、少なくとも1つの窒化アルミニウムチタン層を含むハードコーティングを有する、コーティングされた切削工具を開示する。ハードコーティングはまた、XRD Sinψ法によって測定される場合約−0.4〜約−3GPaの範囲の残留応力と、X線回折による(111)ピーク強度に対する(200)ピーク強度の比が約1〜約14の範囲であることによって特徴付けられる結晶方位とを有する。好ましくは、窒化アルミニウムチタン層は、平均結晶子サイズが約15〜約50ナノメートルの範囲にある。このようなコーティングされた切削工具を作製する方法も開示する。 (もっと読む)


【課題】少ない処理室で効率よくバリア層及び埋込層を形成する小型の真空処理装置を提供する。
【解決手段】バリア層は、Ti製のターゲットと希ガスを導入してプラズマ雰囲気を形成し、ターゲットをスパッタリングして第1金属層を形成し、処理室内に酸素ガス及び窒素ガスを含むガスを導入して、第1金属層の表面およびターゲット表面を酸窒化処理する。更にターゲットをスパッタリングして酸窒化処理された表面に第2金属層を形成する。他方、埋込層は、Al含有の金属製のターゲットを用い、スパッタ粒子をプラズマ中の荷電粒子と衝突するように所定圧力に調節すると共に、当初投入したバイアス電力を、成膜中に停止し、処理室の圧力も低下させると共に、加熱手段により処理対象物Wを、処理対象物表面に付着、堆積した金属粒子が流動する温度に加熱する。 (もっと読む)


【課題】マクロ粒子のフィルタ処理を改良した改良型の陰極アーク蒸着システムを提供する。
【解決手段】アーク源フィルタが、真空アーク蒸着システム内のアーク陰極12と基板20の間に配置される。フィルタは、アーク源を囲む複数のダクトエレメント26,28,30,32を含む。ダクトエレメントは、粒子を遮断するのに十分な空間寸法を有する。さらに、ダクトエレメントは、フィルタを通してプラズマ透過を導く電気及び磁気特性を有する。フィルタを通過する際に、高度に電離したアークプラズマには基本的に粒子がなく、これによって高密度でほぼ欠点がない品質を特徴とする反応及び未反応コーティングの源プラズマとなる。この設計によって、フィルタ処理の程度、コーティングゾーンの長さ、並びにアーク源の選択に関して融通性を持たせることができる。 (もっと読む)


【課題】 基材と最表面層に被膜される炭化バナジウム(VC)膜との間に中間層としてバナジウム系金属とは異なる異種金属であるTiの窒化物膜又は炭窒化物膜を形成することにより、耐摩耗性に優れた硬度及び十分な密着性を得ることができる成膜方法及び耐摩耗性部材を提供する。
【解決手段】 VC膜をイオンプレーティング法によって基材に成膜するための成膜方法であって、前記基材の表面にTiN膜又はTiCN膜を中間層として成膜し、前記基材に前記中間層を介して前記VC膜を最表面層として成膜する。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性および潤滑性を高度に両立した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、2以上の層を含み、該2以上の層のうち少なくとも一層は、TaNからなる第1化合物層であり、該第1化合物層は、基材側から厚み方向に非晶質領域と結晶質領域とをこの順に有し、非晶質領域は、非晶質からなり、結晶質領域は、六方晶構造からなり、第1化合物層の直下の層は、M1-xTaxy(0.01≦x≦0.3、0.95≦y≦1.05)からなる第2化合物層であり、Mは、Si、Cr、Al、Ti、Hf、およびVからなる群より選ばれる1種以上の元素であり、第2化合物層は、立方晶構造を含む結晶構造からなり、かつ4200mgf/μm2以上の硬度を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材と被膜との密着性を良好に保ち、かつ被削材が凝着しにくい表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該基材は、硬質粒子と該硬質粒子を結合する結合相とを含み、被膜に接する硬質粒子は、被膜に接する側の表面に凹凸が形成されており、表面被覆切削工具のすくい面に対する法線を含む平面で表面被覆切削工具を切断したときの断面において、基材の逃げ面側の表面は、被膜に接する側の表面に位置する長さ50μmの逃げ面側基準線における面粗度Rz,nが1μm以上30μm以下であり、基材のすくい面側の表面は、被膜に接する側の表面に位置する長さ50μmのすくい面側基準線における面粗度Rz,sが0.5μm以上5μm以下であり、かつRz,nはRz,sよりも大きいことを特徴の一つとする。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性および潤滑性を高度に両立した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、2以上の層を含み、該2以上の層のうち少なくとも一層は、MoNからなる第1化合物層であり、該第1化合物層は、基材側から厚み方向に非晶質領域と結晶質領域とをこの順に有し、非晶質領域は、非晶質からなり、結晶質領域は、六方晶構造からなり、第1化合物層の直下の層は、M1-xMoxy(0.01≦x≦0.3、0.95≦y≦1.05)からなる第2化合物層であり、Mは、Si、Cr、Al、Ti、Ta、Hf、およびVからなる群より選ばれる1種以上の元素であり、第2化合物層は、立方晶構造を含む結晶構造からなり、かつ4200mgf/μm2以上の硬度を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性および潤滑性を高度に両立した表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、2以上の層を含み、該2以上の層のうち少なくとも一層は、NbNからなる第1化合物層であり、該第1化合物層は、基材側から厚み方向に非晶質領域と結晶質領域とをこの順に有し、非晶質領域は、非晶質からなり、結晶質領域は、六方晶構造からなり、第1化合物層の直下の層は、M1-xNbxy(0.01≦x≦0.3、0.95≦y≦1.05)からなる第2化合物層であり、Mは、Si、Cr、Al、Ti、Ta、Hf、およびVからなる群より選ばれる1種以上の元素であり、第2化合物層は、立方晶構造を含む結晶構造からなり、かつ4200mgf/μm2以上の硬度を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基材と被膜との密着性を良好に保つとともに、加工面品位に優れた表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該基材は、硬質粒子と該硬質粒子を結合する結合相とを含み、被膜に接する硬質粒子は、被膜に接する側の表面に凹凸が形成されており、表面被覆切削工具のすくい面に対する法線を含む平面で表面被覆切削工具を切断したときの断面において、基材のすくい面側の表面は、被膜に接する側の表面に位置する長さ50μmのすくい面側基準線における面粗度Rz,sが1μm以上30μm以下であり、基材の逃げ面側の表面は、被膜に接する側の表面に位置する長さ50μmの逃げ面側基準線における面粗度Rz,nが0.5μm以上5μm以下であり、かつRz,sはRz,nよりも大きいことを特徴の一つとする。 (もっと読む)


【課題】配線形成時に配線形成用溝の間口を閉塞させないで配線形成用溝内に連続したCu膜を形成できる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】配線形成用溝形成工程では、層間絶縁膜10に配線形成用溝31を形成する。バリアメタル膜形成工程では、配線形成用溝31が形成された層間絶縁膜10上の全面にバリアメタル膜14を形成する。Cu膜形成工程では、配線形成用溝31間の層間絶縁膜10上の膜厚に比して配線形成用溝31内の底部の方が厚くなるように、バリアメタル膜14上にCu膜15を形成する。リフロー工程では、バリアメタル膜14上のCu膜15をリフローさせ、配線形成用溝31内に埋め込む。そして、除去工程では、少なくとも配線形成用溝31間の層間絶縁膜10上のバリアメタル膜14をCMP法によって除去する。 (もっと読む)


【課題】ダクタイル鋳鉄などのフェライト相が多く析出した被削材の高速連続切削加工および断続切削加工で、すぐれた耐摩耗性、耐欠損性、耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】cBN基超高圧焼結材料製工具基体の表面に、平均層厚0.1〜0.3μmの非晶質BNからなる下部層、平均層厚0.1〜0.3μmのTiBNからなる中間層、平均層厚1.0〜2.0μmのTiAlNからなる上部層を順次蒸着形成し、すくい面とホーニング面の上部層を除去することによって、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】 苛酷な使用環境下で使用される切削工具や金型等の工具において、耐摩耗性と摺動特性に優れる被覆工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 工具の基材表面に中間皮膜を介して硬質皮膜を被覆した被覆工具であって、該硬質皮膜は、原子比でSiよりもCが多く、組織に六方晶の結晶構造相を含むSiC膜であり、該中間皮膜は、AlxMyからなる窒化物又は炭窒化物(但し、x、yは原子比を示し、x+y=100、かつ、40≦x≦95、かつ、5≦y≦60、MはTi、Cr、V、Nbから選択される1種以上)であり、該基材側が立方晶の結晶構造、該硬質皮膜側が六方晶の結晶構造である耐摩耗性と摺動特性に優れる被覆工具である。 (もっと読む)


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