硬質コーティング（２）および切削工具上で使用可能な窒化チタンアルミニウムを含む硬質コーティング（２）を作製する方法が開示される。コーティング（２）は約０重量パーセントと約１５重量パーセントの間の六方晶相およびｘが約０．５３〜約０．５８モルの範囲内である（Ａｌ_ｘＴｉ_１−ｘ）Ｎの組成を有する少なくとも１つの窒化チタンアルミニウム層（６）を含む。
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【課題】耐摩耗性と靭性とを両立させたとともに、基材との密着性にも優れた被膜を備えた表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを備え、該被膜は、第１被膜層を含み、該第１被膜層は、微細組織領域と粗大組織領域とを含み、該微細組織領域は、それを構成する化合物の平均結晶粒径が１０〜２００ｎｍであり、かつ該第１被膜層の表面側から該第１被膜層の全体の厚みに対して５０％以上の厚みとなる範囲を占めて存在し、かつ−４ＧＰａ以上−２ＧＰａ以下の範囲の応力である平均圧縮応力を有し、該第１被膜層は、その厚み方向に応力分布を有しており、その応力分布において２つ以上の極大値または極小値を持ち、それらの極大値または極小値は厚み方向表面側に位置するものほど高い圧縮応力を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】密着性の向上および厚膜化が可能であり、耐摩耗性に優れる硬質膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】中間層３と表面層４とからなる硬質膜１の成膜方法であって、基材２上に金属系材料を主体とする中間層３を形成する中間層形成工程と、中間層３の上にＤＬＣを主体とする表面層４を形成する表面層形成工程とを有し、中間層３および表面層４は、スパッタリングガスとしてＡｒガスを用いたＵＢＭＳ装置を使用し、上記表面層形成工程は、炭素供給源として黒鉛ターゲットと炭化水素系ガスとを併用し、アルゴンガスの導入量１００に対する炭化水素系ガスの導入量の割合が１〜５、装置内真空度が０．２〜０．８Ｐａ、基材２に印加するバイアス電圧が７０〜１５０Ｖの条件下で、炭素供給源から生じる炭素原子を、中間層３上に堆積させてＤＬＣを主体とする表面層４を形成する工程である。 （もっと読む）

一方が他方の上に配置されたいくつかの層を含む、切削工具のための被覆材（１０）であって、金属アルミニウム又はアルミニウム合金の第１層（３）と、第１層の上に配置された酸化アルミニウム又はアルミニウムと少なくとも１種の他の金属とを含有している混合酸化物の第２層（２）とを有することを特徴とする被覆材（１０）。
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【課題】単一のスパッタリングチャンバを用いて基板に形成された開口部内へのＡｌ材料の埋め込みを適切に行えるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１００は、スパッタリングチャンバ３０と、カソードユニット４１およびアノードＡ間の放電によりプラズマを形成可能なプラズマガン４０と、プラズマガン４０から放出されたプラズマ２２を磁界の作用によりシート状に変形可能な磁界発生手段２４Ａ、２４Ｂと、を備える。シートプラズマ２７は、スパッタリングチャンバ３０内の基板３４ＢとＡｌターゲット３５Ｂとの間を通過するように誘導され、シートプラズマ２７中の荷電粒子によってＡｌターゲット３５ＢからスパッタリングされたＡｌ材料が基板３４Ｂの開口部に堆積する際に、Ａｌ堆積膜２００のカバレッジ性が、プラズマ放電電流ＩＤ、ターゲットバイアス電圧ＶＢ、および、ターゲット−基板間距離Ｌに基づいて調整される。 （もっと読む）

本発明は、コーティング及び基材を含み、該基材上にＰＶＤ堆積法を用いてコーティングが堆積された被覆物体の製造方法に関する。コーティングは、周期律表の第ＩＶｂ族、第Ｖｂ族、第ＶＩｂ族、ならびに、Ａｌ、Ｙ及びＳｉから選ばれる１種以上の元素の窒化物、炭化物、酸化物、ホウ素化物又はそれらの混合物を含む。堆積方法は、活性ターゲットを維持しながら、基材バイアス電圧を変化させる少なくとも１つのシーケンスを含み、ここで、基材バイアス電圧を変化させるシーケンスはサブシーケンスＳ_i；−第一の基材バイアス電圧Ｂ_iにて１０秒間〜６０分間の堆積時間Ｔ_iの間堆積させ、その後、１０秒間〜４０分間の傾斜時間Ｒ_iの間堆積させながら、基材バイアス電圧を徐々に第二の基材バイアス電圧Ｂ_i+1（│Ｂ_i−Ｂ_i+1│≧１０Ｖ）に変化させることを含み、ここで、サブシーケンスＳ_iをｉ＝ｎとなるまで繰り返し、ここで、ｉ＝０，１，２，．．．ｎであり、ｎ≧２であり、各新規のサブシーケンスは前のサブシーケンスが終わるときに使用されていたのと同一の基材バイアス電圧で堆積を開始する。
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【課題】アルミナを原料に用いながらも少なくとも塑性硬さが30GPa以上得られる硬質保護膜及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 何れも結晶粒径が20nm以下であるAlN微結晶とAl_1-xO_xN_y微結晶との複合体からなる硬質保護膜。Al₂O₃ターゲットを用いて高周波電源によってAr及びN₂の混合ガス中で放電させる高周波反応スパッタ法を用い、その際に印加するバイアス電圧と金属母材の温度との関係を調整することによって、硬質保護膜を30GPa以上の塑性変形硬さに形成する。 （もっと読む）

【課題】 製膜速度が速く、バリア性に優れたバリア性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有し、前記有機層は、炭素環状骨格を有する樹脂を含み、前記無機層はプラズマアシスト蒸着法によって形成されることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】溶接ラインや溶接作業を止めることなく、長時間連続して溶接することができる耐スパッタ特性に優れたガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズルを提供する。
【解決手段】ソリッドワイヤーが挿通され、ソリッドワイヤーに電流を供給するコンタクトチップを包容するように配設された筒状のガスシールドアーク溶接トーチのシールドノズル５であって、シールドノズル母材５ａ表面に、密着性セラミック被膜の母材表上被膜層５ｂを形成し、母材表上被膜層５ｂの上層に、硬質セラミック被膜の表面被膜層５ｄを形成する。なお、母材表上被膜層５ｂと表面被膜層５ｄの間に、密着性セラミックと硬質セラミックの混合物からなる中間被膜層５ｃを形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】燃料電池のセパレータの表面を被覆して低い接触抵抗を長期間維持する効果を付与する耐食皮膜として、Ｔｉ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａから選択される１種以上の金属元素を炭素の２／３倍以下の含有率（ａｔ％）で含有する炭素膜を、チタン基材の表面に形成する生産性に優れた方法を提供する。
【解決手段】−５０〜−３００Ｖのバイアス電圧を基材Ｗに印加し、希ガスおよびその１／３〜２の流量比の炭素含有ガスを主成分とする雰囲気ガス中でアーク放電を行って、前記金属元素からなる蒸発源２を蒸発させ、雰囲気ガスと金属元素のプラズマを生成し、磁界形成手段３で、蒸発源２の蒸発面にほぼ直交して発散ないし平行に進行して基材Ｗ近傍まで到達する磁力線を形成させることにより、前記プラズマを基材Ｗ表面に供給することを特徴とする。基材Ｗ近傍のプラズマ密度を高くすることで、金属の成膜速度を抑えて炭素を主体とする金属含有炭素膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の湿式断続切削加工で、すぐれた潤滑性、耐チッピング性、耐熱塑性変形性を示し、長期の使用に亘ってすぐれた仕上げ面精度を維持し得る表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料からなる工具基体の表面に、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の少なくとも一層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記硬質被覆層の最表面に、必要に応じ、１００〜３００ｎｍの膜厚の結晶質窒化珪素膜からなる中間膜を介して、１００〜５００ｎｍの膜厚の非晶質窒化珪素膜からなる潤滑膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダへの電圧印加効率の向上を図り、長期に渡って安定的に使用できる電圧印加装置を提供する。
【解決手段】電圧印加装置は、真空処理チャンバーと、真空処理チャンバ内に設けられた基板ホルダー２０と基板ホルダに電圧を印加するための給電部材１３と、給電部材の先端部に設けられた、ダイヤフラム式給電部２２と、真空処理チャンバーの外部に設けられ、かつ給電部材を可動して、ダイヤフラム式給電部を基板ホルダに接触又は非接触させる可動機構１８と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐酸化性と潤滑性を備えることにより、耐チッピング性、仕上げ面精度の向上を図った表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料からなる工具基体の表面に、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の少なくとも一層からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記硬質被覆層の最表面に、１００〜５００ｎｍの膜厚の非晶質二酸化珪素膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】単一のスパッタリングチャンバを用いて基板に形成された開口部内へのＡｌ材料のコンタクト埋め込みを適切に行えるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１００は、Ａｌからなるターゲット３５Ｂおよび開口部が形成された基板３４Ｂを格納可能なスパッタリングチャンバ３０と、カソードユニット４１およびアノードＡ間の放電によりプラズマを形成可能なプラズマガン４０と、プラズマガン４０から放出されたプラズマを磁界の作用によりシート状に変形可能な磁界発生手段２４Ａ、２４Ｂと、を備える。シートプラズマ２７は、スパッタリングチャンバ３０内の基板３４Ｂとターゲット３５Ｂとの間を通過するように誘導され、シートプラズマ２７中の荷電粒子によってターゲット３５ＢからスパッタリングされたＡｌ材料が基板３４Ｂの開口部に堆積する際に、Ａｌ材料からなる堆積膜のカバレッジ性が、プラズマ放電電流ＩＤおよび基板バイアス電圧ＶＡに基づいて調整されている。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ合金等の軟質被削材の切削加工において、すぐれた化学的安定性と潤滑性を発揮する表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金製工具基体表面に、 下部層として、平均層厚０．５〜３μmを有するＣｒとＡｌの複合窒化物（組成式：（Ｃｒ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎで表した場合、好ましくは、０．４≦Ｘ（原子比）≦０．７）層、上部層として、平均層厚０．５〜２μmを有するＦｅとＴｉの複合酸化物（組成式：Ｆｅ_２Ｔｉ_ＹＯ_２＋２Ｙで表した場合、好ましくは、０．８≦Ｙ（原子比）≦１．２）層からなる硬質被覆層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】ＲＦ電源を用いて基板ホルダにＲＦ電力を印加するとともに、単純な構造のＤＣ電源を用いて基板ホルダにＤＣパルスを印加することができる給電機構を提供する。
【解決手段】給電機構１１０は、基板ホルダ１２に電気的に接続された回転軸１１と、高周波電源３１の高周波電力が印加される第１送電ブラシ２１と、直流電源３３の直流電圧が印加される第２送電ブラシ２２と、を備える。そして、回転軸１１の回転によって、第１送電ブラシ２１と回転軸１１との間の摺動による回転軸１１への高周波電力の印加、および、第２送電ブラシ２２と回転軸１１との間の断続的な摺動による回転軸１１への直流電圧の印加が行われる。 （もっと読む）

【課題】モリブデンを含む潤滑油中において低摩擦係数を示す低摩擦摺動部材を提供する。
【解決手段】潤滑油を用いた湿式条件で使用され、基材と該基材の表面に形成され相手材と摺接する非晶質硬質炭素膜とを備える低摩擦摺動部材であって、前記潤滑油は、モリブデン（Ｍｏ）を１００ｐｐｍ以上含み、硫黄（Ｓ）およびリン（Ｐ）のうちの少なくとも一種ならびに亜鉛（Ｚｎ）、カルシウム（Ｃａ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ナトリウム（Ｎａ）、バリウム（Ｂａ）および銅（Ｃｕ）のうちの少なくとも一種を合計で５００ｐｐｍを超えて含み、前記非晶質硬質炭素膜は、炭素（Ｃ）を主成分とし、該非晶質炭素膜全体を１００原子％としたときに、水素（Ｈ）を５原子％以上２５原子％以下含み、硼素（Ｂ）を４原子％以上２５原子％以下含むことを特徴とする低摩擦摺動部材。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置および光学素子成形型の製造方法において、プラズマ放出方向を均等化しつつ、ドロップレットや飛散粒子を容易に除去することができ、表面処理の品質を向上することができるようにする。
【解決手段】ターゲット６とアノード電極とを有し、アーク放電によるプラズマ８を放出するプラズマ放出部１０と、プラズマ８を偏向させて光学素子成形用型母材１１の表面に輸送する偏向部１３と、ターゲット６の表面から光学素子成形用型母材１１に向けて直進する経路を遮蔽する遮蔽板２０とを備え、アノード電極は、複数の円弧状導電体が、ターゲット６の軸方向回りに周回するように配置され、ターゲット６を挟んで光学素子成形用型母材１１と反対側に円弧状導電体の各開口が配置された周回電極部と、周回電極部に電流を供給する配線部と、を備えるプラズマ処理装置１を用いる。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＳｉＮよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜、およびこの様な硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}，Ａｌ_ａ，Ｃｒ_ｂ，Ｓｉ_ｃ，Ｂ_ｄ）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜であって、Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｉ，Ｂのそれぞれの原子比ａ，ｂ，ｃ，ｄが、０．５≦ａ≦０．８、０．０６≦ｂ、０≦ｃ≦０．１、０≦ｄ≦０．１、０．０１≦ｃ＋ｄ≦０．１およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜１を満たすようにし、かつＮの原子比ｅが０．５≦ｅ≦１を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】水流中でも安定した摺動特性を得ることができ、安価に製作することが可能な摺動構造を提供する。
【解決手段】互いに対向する各々の表面上に摺動面を有する第１の部材１と第２の部材とで構成される摺動構造において、前記第１の部材１はその表面上に複数の凹部ＰＨが形成された摺動面を有し、前記第１の部材１の摺動面もしくは前記第２の部材の摺動面のうち少なくとも何れか一方に水潤滑性を有する被膜Ｍがコーティングされている摺動構造。 （もっと読む）