【課題】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなるＰＤＰ用蒸着材の耐湿性を改善し、電子ビーム蒸着法を使用して基板上に保護膜を成膜するためのターゲット材として使用する焼結体であって、得られた保護膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させることが可能な焼結体及びその製造方法、並びにこの焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】周期表第２Ａ族に属する元素の酸化物からなる相対密度が９０％以上の焼結体で、平均粒子径が１００μｍ以上であるＰＤＰ保護膜用蒸着材であり、また、それらの酸化物単体および、それらの２つ以上の組合せによる混合物あるいは固溶体からなるＰＤＰ保護膜用蒸着材で、更に、有機シリケートで表面処理したことを特徴とするＰＤＰ保護膜用蒸着材である。 （もっと読む）

【課題】高純度化したＥＬ材料を用いてＥＬ層を形成することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明における成膜装置および成膜方法は、成膜直前に純粋なＥＬ材料の昇華温度を利用してＥＬ材料の昇華精製を行い、ＥＬ材料に含まれる酸素、水およびその他の不純物を除去すると共に、昇華精製により得られたＥＬ材料（高純度ＥＬ材料）をそのまま蒸発源として用いて成膜を行うことができるという機能を有する成膜装置およびそれを用いた成膜方法であり、これまで以上に高純度なＥＬ層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】筒状の基材の内周面に蒸着源を均一に蒸着させる。
【解決手段】真空蒸着装置１０は、真空チャンバーを備え、真空チャンバー内部に円筒形の基材２０を配置する。基材２０の内周側にはさらに真空ボート１１を配置する。真空ボート１１の上面１２には凹陥部１３を設ける。凹陥部１３内部には蒸着源１４を充填する。基材２０は軸Ｘを中心に回転すると共に、真空ボート１１は軸Ｘ方向に沿って往復移動する。この状態で、蒸着ボート１１を加熱し蒸着源１４を気化させ、基材２０の内周面２１に蒸着源１４を蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ保護膜の耐久性を損うことなく、しかもこのＭｇＯ保護膜を用いたＦＰＤの放電応答特性及び発光効率を向上する。
【解決手段】ＦＰＤ用のＭｇＯ保護膜１３の表面に窪み１３ａを形成するとともに粒子１３ｂを付着させる表面処理用蒸着材１１は、ＭｇＯを主成分とし平均粒径が０．５μｍ〜１ｍｍである。この表面処理用蒸着材１１をＭｇＯ保護膜１３の表面にスプラッシュさせることにより、平均穴径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの窪み１３ａが形成され、かつ平均粒径５０ｎｍ〜１００００ｎｍの粒子１３ｂが付着される。 （もっと読む）

第１および第２の別個に蒸発した材料を混合して基板表面に堆積させて層を形成する方法である。この方法では、第１の材料が金属を含み、第２の材料は非金属であり、蒸発した材料が基板表面上に供給可能になるように配設された混合マニホールドを提供すること；第１および第２の材料を別個に蒸発させる第１および第２の加熱素子を提供し、蒸発した材料が混合マニホールド内に供給可能になるように加熱素子を配設すること；および、第１および第２の材料を制御された速度で計量して第１および第２の加熱素子にそれぞれ供給し、金属を含んだ蒸発した材料を混合マニホールドに供給し、ここで第１および第２の材料を混合した後、基板表面に堆積させて、金属を含んだ層を形成することを含む。
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【課題】スプラッシュを防止し、複雑な機構を用いることなく安定した蒸着を連続して行うことができる蒸着膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板３上に蒸着膜を形成する蒸着膜の製造方法であって、坩堝７に蒸着材料６を供給する第１の工程と、坩堝７に供給された蒸着材料６に、溶解用の第１の電子ビームを直線状に照射することにより蒸着材料を溶解する第２の工程と、加熱溶解した蒸着材料６に、蒸発用の第２の電子ビームを直線状に照射することにより蒸着材料６を蒸発する第３の工程と、蒸発した蒸着材料６を基板３上に供給する第４の工程と、を含み、第１の電子ビームの照射領域１１ａと第２の電子ビームの照射領域１１ｂとが互いに略並行であること、を特徴とする。これにより、急激な温度変化によるスプラッシュの発生を防止し、複雑な機構を用いることなく安定した蒸着を連続して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】配向膜とその製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】配向膜は酸化シリコン（ＳｉＯｘ）薄膜からなる。酸化シリコン薄膜は、ｘが１．０と１．５の間の値であるとき、酸化シリコン薄膜上で液晶が水平に配列され、ｘが１．５と２．０の間の値であるとき、酸化シリコン薄膜上で液晶を垂直方向に配列する。これにより、配向膜は、化学気相蒸着法や気化蒸着法を用いて広い面積の基板に容易に形成できる。配向膜は、熱的や物理的に安定してこのような配向膜が使用された液晶表示装置は動作特性が向上する。また、配向膜は５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の適正の厚さを有するため、上記の配向膜を用いた液晶表示装置は光に対する透過率が向上する。 （もっと読む）

【課題】層状堆積物と柱状堆積物の技術的利点、すなわち、低熱伝導性、良好な寿命、良好な耐腐食性、および高い収率と堆積速度という利点を併せ持つ堆積物を得ることを可能にする。
【解決手段】本発明は基板上に材料を堆積する方法の分野に関する。それは、基板上に熱障壁として働き、堆積前に粉体の状態である材料を堆積する方法に関する。粉体は第１プラズマトーチ（１０）のプラズマジェット（１２）および少なくとも１個の第２プラズマトーチ（２０）のプラズマジェット（２２）中に導入され、第１プラズマトーチ（１０）および少なくとも１個の第２プラズマトーチ（２０）は容器（２）中に配設され、そのプラズマジェット（１２、２２）が交差して粉体を気化する合成プラズマジェット（３０）を生成するように配列され、基板（４０）は合成プラズマジェット（３０）の軸上に配置される。 （もっと読む）

安定で管理された蒸着によってマグネシウムの蒸着物を形成する。マグネシウムの含有量が４３．３４質量％以下であるマグネシウム−銅組成物を用いてマグネシウム蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】分子線セル坩堝にパイロリティックカーボンを被覆することにより、耐久性等に優れた珪素用分子線セル坩堝を提供する。
【解決手段】珪素用分子線セル坩堝は、グラファイト製の外管１と、パイロリティックカーボン４が被覆されたグラファイト製の内管とから構成された二重管である。前記内管は、開口管の上部３と、片閉口管の下部２とから構成され、この下部２は、下部２の深さｄと内径Ｄ４の比が１以下であり、熱化学気相蒸着法によりパイロリティックカーボン４が被覆されている。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置に用いる原料供給装置であって、蒸着装置の成膜速度の安定性が良好となる原料供給装置、および当該原料供給装置を有する蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置の処理容器に、原料を蒸発あるいは昇華させて供給する原料供給装置であって、内部に前記原料を保持する原料容器と、前記原料容器の内部にキャリアガスを供給するガス導入口と、前記キャリアガスと共に蒸発あるいは昇華した前記原料を、前記処理容器に供給するために排出するガス排出口と、を有し、前記原料容器の内部に前記キャリアガスの流れを制御するガス流制御部を設けたことを特徴とする原料供給装置。 （もっと読む）

【課題】 複雑な蒸着パターンを形成可能で、蒸着パターンの精度を向上できる蒸着パターン形成方法及び蒸着パターン形成装置を実現する。
【解決手段】 蒸着パターン形成装置１０は、蒸着源基板１４の上面に収容部材１１を取り付けて構成される。蒸着源基板１４は、収容部材１１を加熱するためのヒータ１２を支持基板１３の上面に取り付けて構成される。収容部材１１の上面１１ｂには、半導体基板に形成する所定の蒸着パターンと対応した形状に開口した開口面１１ｄが形成されている。半導体基板３１の基板面３１ａを、収容部１１ａに金属ナノ粒子２１が収容された収容部材１１の開口面１１ｄに対向させて配置し、収容部材１１をヒータ１２により加熱すると、金属ナノ粒子２１は収容部１１ａの内部で蒸発し、開口面１１ｄを通じて基板面３１ａに蒸着され、所定の蒸着パターン３２が形成される。 （もっと読む）

【課題】 粉末の詰まりを低減する粉末加熱装置を提供する。
【解決手段】 粉末供給装置１、分散器２、直流プラズマ発生装置のトーチ４及び、分散器２からの配管Ｔ２に繋がる孔２２が設けられた第１柱状部２１Ａと、この孔に繋がる開口部の径がこの孔の径より大きく、徐々にその径が小さくなる分岐孔２５ｂ，２５ｃが設けられた第２の柱状部２１Ｂと、各分岐孔に繋がる開口部の径が各分岐孔の径より大きい孔２６ａ，２６ｂが設けられた第３柱状部２１Ｃから成るマニフォールド体の本体２１を備えている。 （もっと読む）

粒子状材料を気化させて表面に堆積させることによって層を形成する方法は、シールされたインターフェイスフィッティングを有する補充容器の中に粒子状材料を供給するステップと；その補充容器を、少なくとも1つの供給用開口部を画定する供給ホッパーに取り付け、インターフェイスフィッティングの位置でシールを破るステップと；補充容器から供給ホッパーに粒子状材料を移動させるステップと；供給用開口部を通過したその粒子状材料を供給路に沿って気化ゾーンまで移動させ、その気化ゾーンにおいてその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させた後、表面に供給して層を形成するステップを含んでいる。
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【課題】３個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。
【解決手段】長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明の1つの目的は、気化させる粒子状材料を再装填する効率的な方法を提供することである。この目的は、気化ゾーンを有する蒸着チェンバーの中に材料を供給してその材料を気化させて層を形成する方法によって達成される。改善点として、材料の汚染を防ぐために制御された環境下で材料を受け取るキャビティを規定するカートリッジを用意するステップと、そのキャビティからの材料を受け取り、受け取ったその材料を供給路に沿って気化ゾーンまで移動させるステップと、カートリッジを蒸着チェンバーに取外し可能に固定するステップを含んでいる。
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【課題】大面積の基板に対しても、シャドーマスクを用いることなく、選択的に薄膜の形成を行うことのできる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸発源１００は筒状セル１２８と、それを加熱する下側ヒータ１３４、上側ヒータ１３６を備えている。加熱板１３０は、その内側に設けたヒータ１３８により温度制御が可能となっている。加熱板１３０は、連結する材料供給部１０２から筒状セル１２８内に供給される蒸着材料を加熱し、蒸発若しくは昇華によって気化させる。加熱板１３０を筒状セル１２８内で回転させる回転機構１３２を設け温度の均一化を図っても良い。材料供給部１０２を加熱するヒータ１４０を設けて、筒状セル１２８内に供給する蒸着材料の温度を上げるようにしても良い。このような蒸発源１００により、大面積の基板に対しても均一性良く、連続して成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】従来のポンプのケーシングにおいては寸法のばらつきにより密閉に不具合が生じた場合、ケーシングの接合部から水漏れが発生していた。
【解決手段】羽根車１を、モータ２に回転可能に軸支して、第１ケーシング３内に装填する。第１ケーシング３には水や湯を取り込む吸水口４と、水や湯を吐き出す吐水口５が設けられており、モータ２は第２ケーシング６に螺合されている。第１ケーシングと第２ケーシングとの接合面７にはゴムパッキン（図示せず）が固定されている。上記のように構成されたポンプ用ケーシング８に真空蒸着を施すと、蒸着に使用されるアルミ粉がケーシング全体をコーティングすることになるので、上記接合面もコーティングされ、ゴムパッキンだけでは不十分な防水効果を補うことができる。 （もっと読む）

【課題】 均質性の高い酸化マグネシウム膜を安定して効率よく成膜できる蒸着材を効率よく、しかも低コストで製造するための材料および方法の提供、および前記酸化マグネシウム蒸着材の製造原料となる酸化マグネシウム粉末を提供すること。
【解決手段】 ＢＥＴ法による比表面積が３〜５ｍ^２／ｇの範囲にある多結晶酸化マグネシウム粉末を蒸着材の材料とすることにより、蒸着材成型物の生産効率の向上と蒸着時のスプラッシュ防止を図る。 （もっと読む）

【課題】 蒸着源に収容された有機材料の熱劣化を防ぐことができ、生産性が向上すると共に、蒸着レートを長時間安定して制御することができる有機材料の真空蒸着方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 有機材料２を収容し一方が開口する容器１を備えた蒸着源２０からの蒸発物質５を対向する基板７に成膜する真空蒸着法であって、蒸着源は、容器に固定せずに容器の開口を閉塞するとともに容器中の有機材料の表面に接触する加熱体３を有し、加熱体のみを加熱して有機材料を蒸発させ、加熱体に形成された少なくとも１つの孔６又は少なくとも１つのスリットから蒸発物質を放出させる。 （もっと読む）