【課題】高精細度を実現することが困難であるメタルマスクも高価なレーザースキャン装置も使用することなしに、高精細なパターンを有する蒸着膜の製造方法の提供。
【解決手段】基板と、複数の発熱体と、複数の発熱体の上の蒸着材料層とを含み、蒸着材料層が最表面をなす蒸着パネルを準備する工程と；蒸着パネルとデバイス基板とを、蒸着材料層がデバイス基板と対向するように配置する工程と；複数の発熱体の少なくとも一部を発熱させ、発熱した発熱体の上に位置する蒸着材料層を選択的に蒸発させ、デバイス基板の表面に蒸着させて蒸着膜を得る工程とを含むことを特徴とするパターン状蒸着膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンエンジン用のタービン動翼又は静翼等の物品を修復又は再生するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】該システムは、堆積チャンバ１０２内で動作可能に位置決めされた第一の陰極１０４及び第二の陰極１０６を含む。第一の陰極１０４は、残存基板の材料と実質的に同じ組成の第一の堆積材料を含む。第二の陰極１０６は、修復／再生した部品上に環境皮膜を形成し得る第二の堆積材料を含む。第一及び第二の陰極は、堆積チャンバ内の真空条件を遮ることなく、連続的に動作させ得る。物品を修復又は再生する方法は、残存基板上に第一の堆積材料の層を堆積させるために第一の陰極１０４を利用する段階と、その後、環境皮膜を付与するために第二の陰極を利用する段階と含む。両堆積では、堆積間に真空条件を中断させることなく、共通の堆積チャンバ１０２を利用する。 （もっと読む）

【課題】ガラス転移点（Ｔｇ）が低い通常の多成分系ガラスであっても、高い被覆率でダイヤモンド薄膜を合成するダイヤモンド薄膜の合成方法及びガラス基板にダイヤモンドの薄膜が積層してなる複合体を提供する。
【解決手段】多成分系ガラスからなるガラス基板にダイヤモンドの薄膜が積層してなる複合体であって、ガラス基板が多成分系ガラスであり、かつダイヤモンドの被覆率が５０％以上である複合体であって、上記ダイヤモンド薄膜の合成方法は、（Ａ）内部に加熱手段を有する密閉されたチャンバ内に水素及びダイヤモンド薄膜の炭素源としての液体炭素源を導入する工程、（Ｂ）前記加熱手段にて加熱し、液体炭素源から炭素を蒸発させてガラス基板上にダイヤモンドとして析出させる工程を有する。 （もっと読む）

【課題】
蒸着開始時の低速度から定常速度までの間の蒸着膜厚を均一にすることにより、ロスを減少し生産性を向上することのできるウエッブ状被蒸着材の蒸着膜厚制御方法を提供する。
【解決手段】
減圧下で連続したウエッブ状被蒸着材の少なくとも一方の表面に蒸着材料を加熱蒸発させる加熱手段を用いて蒸着する真空蒸着装置において、前記ウエッブ状被蒸着材の表面上の蒸着膜厚を検出する蒸着膜厚検出手段と前記蒸着膜厚検出手段による検出値に基づいて蒸着膜厚を制御するに際し、前記ウエッブ状被蒸着材の走行速度が蒸着開始時から定常蒸着時の走行速度に達するまでの加速中の間は、蒸着材料を加熱蒸発させるための導入電力量を予め設定したプログラムにより段階的に上昇させながら、蒸着膜厚検出手段の検出値と目標膜厚の偏差から前記ウエッブ状被蒸着材の走行速度を制御することを特徴とするウエッブ状被蒸着材の蒸着膜厚制御方法。
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コーティング中に進行方向Ｘで可動な帯状の基材をコーティングするための装置であって、複数の蒸着用ボートを備えて、該蒸着用ボートが蒸着用ベンチを形成し、蒸着用ボートの電気的な加熱のための装置を備え、且つ蒸着したいワイヤを蒸着用ボートに供給するための装置を備え、複数の蒸着用ボートは、集合Ａ及び集合Ｂの蒸着用ボートから形成され、集合Ａの蒸着用ボートは、Ｌ０−δＡとＬ０＋δＡとの間の範囲の長さＬＡを有しており、集合Ｂの蒸着用ボートは、Ｌ０−δＢとＬ０＋δＢとの間の範囲の長さＬＢを有しており、複数の蒸着用ボートが方向Ｙに対して平行に延びている領域の内側で、Ｘ方向において最高で２Ｌ０＋δＡ＋δＢの幅を持って配置されている、帯状の基材をコーティングするための装置において、集合Ａ及び集合Ｂの蒸着用ボートが交番的に相並んで配置されており、集合Ａの蒸着用ボートが各々、方向Ｘに対して相対的に−１〜−８９°の範囲において所定の角度αを成して配置されており、集合Ｂの蒸着用ボートが各々、進行方向Ｘに対して相対的に１〜８９°の間の所定の角度βを成して配置されている。更に本発明は、帯状の基材をコーティングする装置を敷設するための方法に関する。
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【課題】成膜終了後に蒸着材料の蒸発を素早く停止し、かつ蓋や坩堝内壁への材料付着を抑えて、装置稼動率やメンテナンス性を向上させる。
【解決手段】坩堝１１、蓋１３と、坩堝１１および蓋１３を加熱するためのヒーター１２と、輻射熱を遮断するためのリフレクター２０とからなる真空蒸着源１０において、リフレクター２０を上下に移動させるための可動機構２１を設ける。成膜終了時にはヒーター１２の加熱を停止するとともに、可動機構２１によってリフレクター２０を上昇させて坩堝１１内の蒸着材料Ｍの蒸発を素早く停止させる。この間、蓋１３と坩堝１１の上部のみをリフレクター２０によって保温し、材料付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】長期間メンテナンスを行うことなく成膜を行うことが可能な成膜装置およびそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ上に堆積させる被膜材料５Ｍを供給する被膜材料供給手段５と、被膜材料供給手段５に対して所定位置に基板Ｗを保持する基板ホルダ４と、被膜材料供給手段５と基板ホルダ４との間に配置され、被膜材料５Ｍを透過させるスリット６Ｋが所定位置に形成されたマスク部材６と、マスク部材６のスリット６Ｋの近傍に、被膜材料５Ｍと反応して揮発性物質を生成する反応ガスＧを供給して、スリット６Ｋの近傍に付着した被膜材料５Ｍを除去するクリーニング手段と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 基板を回転させずに、均一な厚さの薄膜を面積が大きい基板に形成でき、かつ蒸発される物質の使用効率が高いエバポレータを提供する。
【解決手段】 本発明は、真空熱蒸着用のエバポレータに関し、特に、広範囲に均一な薄膜を形成し、かつ、蒸着される物質の使用効率を改善することができる、円錐状の多層スリットノズルを有するエバポレータに関する。エバポレータは、開放頂面を有する円筒るつぼ１１０と、るつぼ１１０の頂面に組立てられる円筒本体部分１２１を有するノズルユニット１２０とを含み、本体部分１２１は、本体部分を貫いて掘られ、本体部分１２１の上部の周囲部分に形成された円錐状の多層スリット１２２と、スリット１２２に接続され本体部分１２１の下面を貫く蒸発管１２３とを備える。円錐状の多層スリットノズルは、蒸着された薄膜の厚みの均一性を増し、かつ蒸着される物質の使用効率を改善し得る、蒸着される物質の噴出分布をもたらす。 （もっと読む）

【課題】１つの成膜室で短い蒸着時間で被蒸着部材に複数層の膜を形成する。
【解決手段】成膜室４に、基板Ｂに対向して配置された材料放出部１１に、材料を放出する放出口を有する第１〜第３分散容器１２Ａ〜１２Ｃを設け、材料を蒸発させる第１，第３蒸発セル３２Ａ，３２Ｃと第１，第３分散容器１２Ａ，１２Ｃとを第１，第３開閉弁３４Ａ〜３４Ｃを介して接続するとともに、材料の蒸発温度と熱分解温度の間の温度範囲が共通する材料を蒸発する複数の第２−１〜第２−３蒸発セル３２Ｂａ〜３２Ｂｃと、第２分散容器１２Ｂとをそれぞれ第２−１〜第２−３開閉弁３４Ｂａ〜３４Ｂｃを介して接続し、第１〜第３分散容器１２Ａ〜１２Ｃに、放出する材料の蒸発温度と熱分解温度の間の所定温度に加熱する容器加熱装置１７Ａ〜１７Ｃをそれぞれ設け、第１〜第３放出口を選択的に開閉するシャッター装置２０を設けた。 （もっと読む）

【課題】ラビング処理することなく、所望の品質を有する配向膜を形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、配向膜を形成するための有機材料の固体物の表面の第１領域と対向する保持面を有し、固体物を保持する第１保持部材と、固体物の表面の第２領域と接触可能な処理面を有する処理部材と、処理面の温度を調整可能な第１温度調整装置と、第２領域と処理面とが接触した接触領域に対して基板を所定の位置関係で保持する第２保持部材とを備える。成膜装置は、第１温度調整装置によって加熱された処理面と第２領域とを接触させることによって固体物から発生した材料を基板に供給して、基板上に有機材料からなる配向膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】蒸着原料を無駄無く使うことができると共に、蒸発量の制御を容易に行うことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置１は、減圧可能に構成されたチャンバー２と、チャンバー２内に被蒸着体Ｋを保持するホルダ３と、蒸着原料Ｍを加熱蒸発させる加熱手段４１と、蒸着原料Ｍを加熱手段４１に供給する原料供給手段７とを備え、蒸着原料Ｍを減圧下で加熱蒸発させ、蒸着原料Ｍによる蒸着膜を被蒸着体Ｋの被蒸着面Ｋ１に形成する蒸着装置１において、原料供給手段７は、蒸着原料Ｍを１マイクロリットル以下の体積で加熱手段４１に供給するように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

伝導性の低い、特に絶縁性を有する皮膜を、少なくとも１つの加工物に真空めっきによって製造するための方法であって、反応性ガスを含む雰囲気下において、アークソースの少なくとも１つの陽極と１つの陰極との間でアーク放電が行われ、電子によって陰極と接続されたターゲットの表面には、蒸発プロセスを支援するための磁界は全く形成されないか、あるいは蒸発プロセスを支援するための小さい、ターゲットの表面に対して概ね垂直な外部磁界のみが形成されるが、このとき表面が他のコーティングソースによって再コーティングされる率は１０％よりも小さいか、もしくは軸方向に分極した、ターゲットの外周面に似たジオメトリを有する少なくとも１つのコイルを含むマグネットシステムによって、磁界が形成される。 （もっと読む）

【課題】マスクでカバーすべき部分への蒸着材料の回り込みを防止して、ガラス基板上に所定パターンの成膜を正確に行うことのできる基板トレイ及び成膜装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して薄膜材料源と対向配置される基板トレイであって、基板を保持し、薄膜材料源から出て基板に堆積される薄膜材料粒子が通過する開口が設けられた保持部材と、保持部材と基板との間に配置され、開口を通過した薄膜材料粒子が基板上に堆積することを遮ることにより基板上の薄膜を所定形状とするための第１マスクと、保持部材と第１マスクとの間に配置され、第１マスクへの薄膜材料粒子の堆積を遮るように、第１マスクの少なくとも一部を覆う第２マスクと、を備えることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を解除することなく、蒸着材料の取替え作業が可能な補助真空チャンバを備える有機発光素子の蒸着装置及び蒸着材料の充填方法を提供する。
【解決手段】基板の一領域に蒸着材料を蒸着する工程を行う第１チャンバと、前記第１チャンバと接続され前記蒸着材料を充填する工程を行う第２チャンバと、前記第１チャンバ内に位置する第１ガイドレールと、前記第２チャンバ内に位置する第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールと前記第２ガイドレールに沿って移動する移動装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】大きいイオン出力電流を有する改良されたフィルタ付きプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ及びマクロ粒子を備える材料を放射する形態とされた蒸発可能な面１０２を有するカソード１０１と、プラズマを向け得る出力開口と、偏向電極１０６、１０７を有して、マクロ粒子の一部の透過を防止しつつ、プラズマの一部を出力開口まで伝達する形態とされたフィルタとを備える、プラズマ発生装置であって、カソード１０１と偏向電極１０６、１０７との間にて第一の極性を有する第一の磁界成分を発生させる第一の要素１１９と、第一の極性と反対の第二の極性をカソード１０１の蒸発可能な面１０２に有し、蒸発可能な面１０２と偏向電極１０６、１０７との間に低磁界領域が形成されるようにする第二の磁界成分を発生させる第二の要素１４１、１４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料及びトリガ電極間の短絡を防止して安定したアーク放電を行うことができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを用いた蒸着装置を提供する。
【解決手段】筒状のアノード電極６と、中心軸線をアノード電極６の中心軸線と略一致させアノード電極６部に配置された柱状蒸着材料７と、蒸着材料７の周囲に配置された筒状絶縁部材８と、絶縁部材８の周囲に配置された筒状のトリガ電極９を有する。トリガ電極９と蒸着材料７の間のトリガ放電によりアノード電極６と蒸着材料７の間にアーク放電を誘起させ蒸着材料７から放出された粒子をアノード開放口６０から放出させる。蒸着材料７のアノード開放口６０側の端面７ａが絶縁部材８のアノード開放口６０側の端面８ａに対し第１の凹み基準値だけ凹み、トリガ電極９のアノード開放口６０側の端面９ａが、絶縁部材８のアノード開放口６０側の端面８ａに対し第２の凹み基準値だけ凹むように配置される。 （もっと読む）

【課題】配向膜とその製造方法及びこれを有する液晶表示装置を提供する。
【解決手段】配向膜は酸化シリコン（ＳｉＯｘ）薄膜からなる。酸化シリコン薄膜は、ｘが１．０と１．５の間の値であるとき、酸化シリコン薄膜上で液晶が水平に配列され、ｘが１．５と２．０の間の値であるとき、酸化シリコン薄膜上で液晶を垂直方向に配列する。これにより、配向膜は、化学気相蒸着法や気化蒸着法を用いて広い面積の基板に容易に形成できる。配向膜は、熱的や物理的に安定してこのような配向膜が使用された液晶表示装置は動作特性が向上する。また、配向膜は５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の適正の厚さを有するため、上記の配向膜を用いた液晶表示装置は光に対する透過率が向上する。 （もっと読む）

【課題】
光吸収のなく密着性の良好なフッ素化合物薄膜を基材上に真空蒸着法により高速で、且つ安定した成膜速度で形成するフッ素化合物薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
フィルム基材上にフッ素化合物薄膜を形成するフッ素化合物薄膜の製造方法において、
該フッ素化合物薄膜が、ＭｇＦ₂を含む材料などのフッ素化合物を含む材料を蒸着材料として用い、プラズマ加熱蒸着方法により形成することを特徴とするフッ素化合物薄膜の製造方法を提供する。例えば、ＹＡＧレーザーランプによりターゲット材料を照射して加熱をアシストする。特に、ターゲット材料６の温度を所定の範囲に保ち、成膜速度を一定にするのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 成膜方法及び成膜装置に関し、表面粗度が低く且つ硬度が高い炭素系保護膜の形成を可能にし、例えば、ヘッドクラッシュに高い耐性を示すと共に記録密度及び信頼性を向上した磁気ディスクを実現できるように、そして、放電不良確率を低減したＦＣＡ成膜装置を実現できるようにする。
【解決手段】 アーク放電により、カソードターゲット１からターゲット材料であるカーボンを蒸発させ、基板６上に堆積させる場合、アーク放電中にターゲット１上の放電点１Ａを電磁石７の作用に依って強制移動させる。 （もっと読む）

【課題】巨大粒子を含まないナノ粒子を提供する。
【解決手段】同軸型アーク蒸着源１３に蒸発材料１３５を配置し、アーク放電によってアノード電極１３１内に蒸発材料の蒸気を放出させる。電子はアーク電流によって形成された磁界からローレンツ力を受け、真空槽１０内に放出される。正電荷を有する微小な蒸気は電子に引き付けられ、真空槽１０内に放出され、捕集板２０表面に付着し、蒸発材料のナノ粒子が形成される。巨大な液滴はアノード電極１３１の壁面に衝突し、真空槽１０内に放出されない。 （もっと読む）