【課題】有機材料を変質させることなく、少量ずつ蒸発させられる技術を提供する。
【解決手段】タンク室６０内部に配置された粉体の有機材料６３を蒸発室２０ａの内部に移動させ、蒸発室２０ａの内部で有機材料蒸気を発生させる際に、有機材料６３が通過する接続管４０内に加熱したシールドガスを導入し、有機材料をシールドガスと共に蒸発室２０ａ内に移動させる。接続管４０と蒸発室２０ａの間の接続部分を小孔４２に形成しておき、小孔４２からシールドガスを噴出させると蒸発室２０ａ内で発生した有機材料蒸気が接続管４０の内部に侵入することがない。 （もっと読む）

【課題】多層膜を一括で形成可能な蒸着方法を提供する。
【解決手段】２次元的に配列された蒸着源１１０が層構成の数に対応して蒸着材料毎に３つのグループ１１１、１１２、１１３に分かれており、各グループの蒸着源は発熱体１２０（１２１、１２２、１２３）によって、それぞれ独立して加熱・制御可能である。各蒸着源１１０は、充填された材料の９５％以上を、各層の成膜においてグループ毎に順次蒸発させる。蒸着源の交換を行うことなく複数の有機材料層からなる多層膜を一括で形成することができる。 （もっと読む）

【課題】カソード電極を構成する蒸着材料が溶融した際に生じる金属物によってカソード電極とトリガ電極間が短絡し、使用不可に至るという課題を解消し、もってメンテナンスのない状態での使用期間をより長期間とすることのできる、真空アーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料からなるカソード電極１と、該カソード電極１の外周を包囲する絶縁ガイシ４と、該絶縁ガイシ４の外周に設けられたトリガ電極２と、が一つのユニット体を形成し、該ユニット体が筒状のアノード電極６内に収容され、該アノード電極６が真空管８内に収容されてできるアーク蒸着源１０を具備する真空アーク蒸着装置１００であり、カソード電極１の一端１’は絶縁ガイシ４の端部４’から突出しており、該突出したカソード電極１の側面１”とトリガ電極２の一端２’との間で沿面放電がなされるものであり、トリガ電極２の一端２’に絶縁部材３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の殆どをアークプラズマ放電に有効に利用することのできる真空アーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着材料からなるカソード電極１と、該カソード電極１の外周を包囲する絶縁ガイシ４と、該絶縁ガイシ４の外周に設けられたトリガ電極２と、が一つのユニット体を形成し、該ユニット体がアノード電極６内に収容され、該アノード電極６が真空管８内に収容されたアーク蒸着源１０を具備する真空アーク蒸着装置１００であり、カソード電極１はその内部に溝孔１ａが形成され、その他端１ｃが閉塞された筒状を呈しており、該他端１ｃとホルダ部材５とが締結手段７を介して一体とされた姿勢で絶縁ガイシ４内に収容されており、カソード電極１を構成する蒸着材料の消耗に応じて該カソード電極１を絶縁ガイシ４に対して相対移動させ、カソード電極１を絶縁ガイシ４の端部４ａから突出させる移動調整手段９Ａを具備している。 （もっと読む）

金属酸化物膜を、前記膜のための支持体の表面上に堆積させるための方法であって、堆積チャンバーを準備する工程と、電子およびプラズマからなるパルスビームを前記堆積チャンバー中に与える工程と、支持体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記支持体は堆積表面を有する工程と、金属酸化物を含んだ材料で作られたターゲット体を前記堆積チャンバー中に与える工程であって、前記ターゲット体はターゲット表面を有する工程と、前記電子およびプラズマからなるパルスビームを前記ターゲット表面に衝突させることによって前記ターゲット表面からアブレーションされた金属酸化物のプルームを形成する工程と、前記プルームを前記堆積表面に接触させることによって前記堆積表面上に金属酸化物膜を堆積させる工程とを含む方法。
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【課題】鋼およびステンレス鋼の機械加工性能を高めた被膜付き工具を提供する。
【解決手段】超硬合金基材と被膜とを有し、特に鋼またはステンレス鋼を湿式または乾式で機械加工するのに有用な切削工具インサートにおいて、
上記被膜が、
総厚さ０．５〜５μｍ、望ましくは１〜４μｍで、柱状粒のＴｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮの層であって、０．２５≦ｘ≦０．７、望ましくはｘ＞０．４である第１層すなわち最内層と、
厚さ１〜５μｍ、望ましくは１．５〜４．５μｍ、最も望ましくは２〜４μｍで、柱状粒の（Ａｌ_１−ｙＣｒ_ｙ）_２Ｏ_３層であって、０．１≦ｙ≦０．６、望ましくはｙ＝０．５である層と
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。また、上記蒸着用基板を用いた発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された開口部を有する反射層と、基板および反射層上に形成された透光性を有する断熱層と、断熱層上に形成された光吸収層と、光吸収層上に形成された材料層とを有する。この様な構造の蒸着用基板を形成することにより、光照射によって反射層の開口部と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を被成膜基板に精度良く蒸着させることができる。 （もっと読む）

【課題】所望の形状を有する膜を、生産性良く形成する成膜方法を提供することを目的とする。また、高精細な発光装置を、生産性良く作製することができる発光装置の作製方法を提供する。特に、大型の基板を用いた場合であっても、高精細な発光装置を作製する方法を提供する。
【解決手段】被成膜基板と、被成膜基板よりも小さい面積のシャドーマスクを用い、被成膜基板とシャドーマスクとの位置合わせを行い、被成膜基板の少なくとも一部に蒸着材料を成膜する工程を複数回行う。蒸着源としては、光吸収層と蒸着材料を有する支持基板を用いることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、基材が次々と少なくとも１つのプラズマ処理ゾーンを通り搬送される、１つ又は複数の鋼製品を含む連続基材のプラズマ処理用の方法及びシステムであって、処理ゾーン内でプラズマを発生させるための電力が、基材がこのゾーンを通過しているときこの処理ゾーン内に存在する基材の面積に応じて変化することを特徴とする方法及びシステムに関する。
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【課題】成膜処理の際に、有機ＥＬ素子へのダメージ及びそれに起因する有機ＥＬ素子の素子特性の劣化を良好に抑制する有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する
【解決手段】有機ＥＬ表示装置１０の製造方法は、成膜材料源２２の表面のビーム照射位置Ｔにおける垂線ＴＺについて、ビーム照射位置Ｔからビームの入射方向に延びる直線ＴＢと線対称な直線をＴＢ’とし、成膜材料源２２に対向するように設けた基板１１の成膜予定領域の中心をＳとしたとき、直線ＴＢ’と直線ＴＳとのなす劣角が２０°以上となるように基板１１を配置した状態で成膜材料源２２へビーム照射を行う。 （もっと読む）

【課題】超合金の一般旋削に有用な被覆超硬合金インサートを提供する。
【解決手段】インサートは、ＷＣ、５．０〜７．０重量％のＣｏ、０．２２〜０．４３重量％のＣｒの超硬合金の組成および１９〜２８ｋＡ／ｍの保磁力（ＨＣ）により特徴づけられる。被膜は、（Ｔｉ_xＡｌ_1-x）Ｎの単層からなり、ｘが０．２５〜０．５０であり、ＮａＣｌタイプの結晶構造を持ち、全厚さが３．０〜５．０μｍであり、（２００）配向を持ち、２．５×１０^-3〜５．０×１０^-3の圧縮残留歪みを持ち、ＴｉＮの最外層がさらに堆積されることもある。 （もっと読む）

【課題】 粉末状担体の全体に金属ナノ粒子を均等に担持させることができる金属蒸着装置および粉末状担体の撹拌方法を提供すること。
【解決手段】 真空チャンバ１１内で容器４１を水平な状態とし内部の粉体状アルミナＡへ施す例えば１００回の真空アーク放電による白金の蒸着と間欠的な次の同様な蒸着との間において、容器４１を揺動軸４５の回りに第１の方向（例えば右方向）へ揺動させ、傾斜する容器４１の底面４２上で粉体状アルミナＡを容器４１の端部の方へ滑落させて撹拌し、容器４１の右側の端部が下方の衝突部材を兼ねる衝突検知センサ４７によって所定の傾斜角度に達したことが検知されると、直ちに揺動の方向を逆にして容器４１を水平にすると同時に、端部の方へ滑落している粉体状アルミナＡを容器４１の中央側へ跳ね戻し粉体状アルミナＡを裏返しにするように撹拌する。 （もっと読む）

【課題】複数本の配管を用いて蒸着材料の流量を制御し、高精度な膜厚制御を行う。
【解決手段】基板２に有機化合物膜等を成膜する蒸着方法において、蒸着材料６を充填した材料収容部７を加熱することによって、蒸着材料を蒸発又は昇華させ、材料収容部７に連結された複数本の配管８，９を通して、真空チャンバー１の成膜空間に放出する。蒸着材料の真空チャンバー１内への放出量を調整する流量調整機構１０は、コンダクタンスの異なる配管８，９のうちのコンダクタンスの小さい配管９に設けられ、成膜速度を微細に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】 同軸型真空アーク蒸発源を備えた坦持装置によって触媒用のナノ粒子を粒子状担体に担持させるに際し、粒子状担体が容器内から外へ飛散しないナノ粒子担持装置、およびナノ粒子担持方法を提供すること。
【解決手段】 カソード電極２２の白金をアーク放電によって粒子状担体であるカーボンブラックＣに蒸着させて担持させるに際し、ナノ粒子担持装置１のアーク放電用コンデンサユニット２８の容量を４４００μＦ以下、アーク放電用直流電源２７の放電電圧を１００Ｖ以下、放電周期を２Ｈｚ以上に設定してカーボンブラックＣのチャージアップを抑制する。更には、同担持装置１の真空チャンバ１１内に設置した熱電子放出機器４１から電子を放出させてカーボンブラックＣのチャージアップを抑制する。 （もっと読む）

【課題】極めて安価な部材を追加するだけで低コストに、基板上に形成する薄膜の膜厚の均一性を向上させることができ、しかも有機材料の蒸着のためだけでなく高温工程が必要な無機材料の蒸着のためにも使用できる分子線源セルを提供する。
【解決手段】被蒸着基板に対向する開口部１ａを有する坩堝１と、坩堝１内に充填される分子線材料を加熱し蒸発させて開口部１ａから分子線を放出させるためのヒータとを備えており、坩堝１の開口部１ａにはキャップ２が配置されており、キャップ２は、その全体が開口部１ａの中心軸Ａ方向に約６ｍｍ以上の厚みを有するように形成されており、且つ、その内部には、キャップの底部２ｃの略中心から坩堝１の開口部１ａの外周又はその近傍へ延びる複数の絞り穴２ａであって、開口部１ａの中心軸Ａに対して約１５〜６０度の範囲内で傾斜する複数の絞り穴２ａが、略放射状に形成されている。 （もっと読む）

イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中でイオン液体から基板上に物質を電着または無電解沈着するための方法並びに生成される物質。本発明に従うと、イオン液体を真空に暴露後に、真空中または保護雰囲気中で、望ましくない成分を含まない緻密な層を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層１両面上に、ガスバリア層２と被膜層３を順次積層してなり、前記ガスバリア層２は酸化珪素からなり、かつ、各々の膜厚（厚さＸａおよびＸｂ）が０．００５μｍ以上０．２μｍ以下であり、前記被膜層３は、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させてなり、かつ、各々の膜厚（厚さＹａおよびＹｂ）が０．１μｍ以上２０μｍ以下であり、下記３つの式を満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。０．００２≦ＸａＹａ、０．００２≦ＸｂＹｂ、（Ｘａ＋Ｘｂ）（Ｙａ＋Ｙｂ）≦０．５。 （もっと読む）

【課題】被処理物を急速昇温でき、熱効率及びスループットに優れるとともに、構成の簡素な熱処理装置を提供する。
【解決手段】高温真空炉は、被処理物を１，０００℃以上２，４００℃以下の温度に加熱する本加熱室２１と、本加熱室２１に隣接する予備加熱室２２と、予備加熱室２２と本加熱室２１との間で被処理物を移動させるための移動機構２７と、を備える。本加熱室２１の内部には、被処理物を加熱するメッシュヒータ３３と、メッシュヒータ３３の熱を被処理物に向けて反射するように配置される第１多層熱反射金属板４１と、が備えられる。移動機構２７は、被処理物とともに移動可能な第２多層熱反射金属板４２を備える。被処理物が予備加熱室２２内にあるときには、第２多層熱反射金属板４２が本加熱室２１と予備加熱室２２とを隔てて、メッシュヒータ３３の一部が第２多層熱反射金属板４２を介して予備加熱室２２に供給される。 （もっと読む）

【課題】蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法の技術分野に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源に関する。
【解決手段】本発明の蒸着源５では、絶縁部材１０の側面２０と、トリガ電極１２の表面２２と、蒸着材料１４ａの側面２４とが、面一になるように構成されている。トリガ電極１２と蒸着材料１４ａとの間に電圧を印加して、トリガ放電を発生させると、蒸着材料１４ａの側面２４から荷電微粒子３１や巨大粒子３３が放射状に放出されるが、蒸着材料の側面２４に沿う方向に放出される荷電微粒子３１や巨大粒子３３の数は非常に少ない。このため、蒸着材料の側面２４と面一に配置された絶縁部材の側面２０には、巨大粒子３３がほとんど付着しないので、付着した巨大粒子３３が再蒸発して基板４の表面に付着する量を少なくすることができ、従来に比して膜質の良好な薄膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】蒸着源、蒸着装置及び蒸着方法の技術分野に関し、特に、同軸型真空アーク蒸着源に関する。
【解決手段】本発明の蒸着源５では、絶縁部材１０の側面２０と、トリガ電極１２の表面２２と、蒸着材料１４ａの側面２４とが、面一になるように構成されている。トリガ電極１２と蒸着材料１４ａとの間に電圧を印加して、トリガ放電を発生させると、蒸着材料１４ａの側面２４から荷電微粒子３１や巨大粒子３３が放射状に放出されるが、蒸着材料の側面２４に沿う方向に放出される荷電微粒子３１や巨大粒子３３の数は非常に少ない。このため、蒸着材料の側面２４と面一に配置された絶縁部材の側面２０には、巨大粒子３３がほとんど付着しないので、付着した巨大粒子３３が再蒸発して基板４の表面に付着する量を少なくすることができ、従来に比して膜質の良好な薄膜を成膜することができる。 （もっと読む）