【課題】 陰極形成による有機層へのダメージを防止するとともに陰極から有機層への電子注入効率を改善し、素子の発光特性を大幅に改善する。
【解決手段】 有機層と陰極の間に配置された緩衝層が、電子供与性を有するドーパント材が含有された透明導電性有機物で形成されている有機ＥＬ素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】加熱容器とそれを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着される物質が満たされる空間部と蒸着される物質が放出される開口部とを有するチタンから形成された本体と、本体を加熱する熱線と、本体を熱線と絶縁させる絶縁体と、を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器及びそれを備えた蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】二硼化チタンと窒化ホウ素を必須成分とするセラミックス焼結体を生産性を高めて製造する。
【解決手段】頻度粒度分布において０．５〜５μｍの領域と５〜５０μｍの領域とに極大値を有する窒化ホウ素粉末と、二硼化チタン粉末とを含有してなる原料粉末を成形した後、非酸化性雰囲気下、焼結することを特徴とするセラミックス焼結体の製造方法。この場合において、原料粉末が、更に窒化アルミニウム粉末、又は窒化アルミニウム粉末と酸化カルシウム粉末及び／又は酸化ストロンチウム粉末からなる焼結助剤とを含むこと、などが好ましい。 （もっと読む）

耐熱材料の「必要な部位」に「目的形状」の皮膜を「低コスト」と「高生産性」で形成するプロセスの開発が望まれている。 皮膜形成用の微粉末と通電加熱できる被処理部材とを収容した容器を雰囲気を制御できる処理室内に載置し、微粉末を浮遊させるとともに被処理部材を通電加熱し、加熱により生じる微粉末の蒸気を被処理部材表面から拡散させることにより拡散皮膜を形成させ、かつ浮遊した微粉末を該表面に付着させることにより拡散皮膜層上に微粉末皮膜を形成させることを特徴とする耐高温腐食性皮膜の形成方法。被処理部材をマスキングし、非マスキング部分にのみ皮膜を形成する。被処理部材の一部分を皮膜が形成されない温度に冷却することによって該一部分に皮膜を形成しないようにすることもできる。
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【課題】電圧降下による消費電力の増大および表示性能の低下を抑制できるとともに高い発光効率を確保できる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明電極１０および対向電極２０の間に有機発光層を含む有機物層３０が挟持された有機ＥＬ素子１において、透明電極１０を、半導体薄膜および絶縁体薄膜の少なくともいずれか一方と金属薄膜との積層体により構成し、半導体薄膜および絶縁体薄膜を、キャリア濃度が１０²⁰ｃｍ^-3未満でありかつエネルギーギャップが２．７ｅＶ以上のものとし、半導体薄膜または絶縁体薄膜を有機物層３０と隣接させる。これにより、透明電極１０の面抵抗を小さくできるとともに、高い発光効率を確保できる。 （もっと読む）

気化した有機材料の基板表面への堆積を制御する方法は、基板表面に堆積させるために気化した有機材料を通過させる少なくとも1つの開口部を有するマニホールドを用意し；ある体積の有機材料を供給し、第1の状態では、その有機材料の蒸気圧が、基板に層を有効に形成するのに必要であるよりも低い値になるようにその有機材料の温度を維持し、第2の状態では、加熱されたその有機材料の蒸気圧が、層を形成するのに十分な大きさになるようにその有機材料の初期体積の一部を加熱する操作を含んでいる。
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【課題】真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により蒸着物質を蒸発源により加熱するに際し、前記蒸着物質を収容する窪み（キャビティー）部からの前記蒸着物質の漏洩現象を抑制し、安定良く蒸着させること、且つ寿命の低下が防止できることが可能となる蒸着源容器を提供する。
【解決手段】蒸着物質を収容する窪み（キャビティー）部２とその両端に電極を連結するクランプ部１を有する蒸着源容器において、クランプ部１の断面積が一定であり、且つクランプ部１がキャビティー部２よりも電気抵抗が高いことを特徴とする薄膜形成用蒸着源容器。 （もっと読む）

【課題】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着において、部分的な材料劣化や、歩留まり低下、コスト上昇起こすことなく大面積蒸着が可能とする。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる装置であって、真空チャンバー１０と、該真空チャンバー内に設けられた、該被処理基板を支持するための基板支持部材と、該真空チャンバー内に該被処理基板と対向するように設けられた、気化すべき有機材料を配するための少なくとも１つの蒸着源１２と、該蒸着源に隣接または近接して設けられた、各々独立に温度制御可能な複数の温度制御手段１３であって、該温度制御手段の各々の温度制御により、該蒸着源の該被処理基板に対向する面における複数の領域を、各々独立に温度制御可能とする温度制御手段とを備えてなる装置、ならびに有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる方法が提供される。 （もっと読む）

固体材料を気化させる容器（30）は、内部体積を取り囲む少なくとも側壁と、底部壁と、カバーとを有するハウジングを備えている。このカバーは、ハウジングから蒸気流が流出できるようにするために少なくとも1つの開口部を備えている。ヒーターがハウジングの少なくとも一部を加熱して固体材料を気化させる。カバーと固体材料の間に配置されたバッフル（50）が、固体材料と開口部の間の直接的な見通し線を妨げている。このバッフルはカバーから離れていて、気化した材料の流れを制御して、そのバッフルとカバーに挟まれた領域に流入させ、開口部からの蒸気流の均一性を向上させる。内部体積と、バッフルとカバーに挟まれた領域の体積の比は、少なくとも約20：1である。固体材料は、有機発光デバイスの層を形成するのに使用される有機材料にすることができる。
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【課題】 組成に偏りがなく、高速加熱時の融解性にすぐれた薄膜ハンダ層
【解決手段】 電子ビーム蒸着装置を真空に保持した状態で第１のターゲットであるＡｕ−Ｓｎ合金に電子ビームを放射してＡｌＮ基板１上に厚さｄ１（例えばｄ１＝１μｍ）の第１次合金層３ａを被着させて第１の電子ビーム放射を終了する。第１の電子ビーム放射を終えたら第２の電子ビーム放射に移行して、第１次合金層３ａ上に厚さｄ２の第２次合金層３ｂを被着させる。以下同様にして順番に第３次合金層３ｃ、第４次合金層３ｄ及び第５次合金層３ｅを積層して５層（ｄ１＋ｄ２＋ｄ３＋ｄ４＋ｄ５）の薄膜合金層から成る厚さｄのＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ３を形成する。 （もっと読む）

【課題】蒸着開始時のツーリング時間を短縮し、材料ロスを低減する。また、基板内の膜厚分布を均一にして有機ＥＬ素子の品質を向上する。
【解決手段】蒸着材料の抵抗加熱発熱源であって、本体の少なくとも一部が絶縁材料からなる円筒形状又は多角筒形状のルツボ、及び曲げ加工された平板からなる抵抗加熱ヒーターからなり、平板の曲げ加工された部分によって画定される空間にルツボが収納され、平板の少なくとも一部分とルツボの側面の少なくとも一部分とが接触面を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 高品質のＧａ_２Ｏ_３系化合物半導体からなる薄膜を形成することができるｐ型Ｇａ_２Ｏ_３膜の製造方法およびｐｎ接合型Ｇａ_２Ｏ_３膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 真空層５２内を減圧し、酸素ラジカルを注入しながらセル５５ａを加熱し、Ｇａの分子線９０、およびセル５５ｂを加熱し、Ｍｇの分子線９０をＧａ_２Ｏ_３系化合物からなる基板２５上に照射して、基板２５上にｐ型β−Ｇａ_２Ｏ_３からなるｐ型β−Ｇａ_２Ｏ_３層を成長させる。 （もっと読む）

【課題】 蒸着時の再現性の低下や有機材料に発生する問題を解決する。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させるための蒸着用ルツボ１２であって、蒸着処理の際に有機材料が配される底部１１と、蒸着処理の際に気化した有機材料が排出される開口部１３と、該開口部から該底部が見えなくなるように、該底部と該開口部との間に設けられた少なくとも１つの屈曲部１４とを備えてなるルツボ、ならびに蒸着装置および蒸着方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】高品質の薄膜の形成が可能となり、中でも低い基板温度環境において、基板との密着性が良好で、緻密性が高く、硬度の高い、高品質のフッ化物薄膜の形成が可能となる薄膜形成方法および薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】膜材料６を真空中で加熱し、該膜材料６を蒸発させる、前記蒸発させた膜材料による蒸発材料に、イオン源９から放出された１価または２価の金属イオンを付加し、該蒸発材料をイオン化し、前記イオン化した蒸発材料を電界（１０１）によって被処理基板に向けて加速し、該被処理基板２上に該材料を蒸着させ、薄膜を形成する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 画質の良好な再生放射線画像を与える放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に気相堆積法により形成された多数の蛍光体柱状物が並立する蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、蛍光体柱状物の頂面における平均柱径が０．１乃至５０μｍの範囲にあり、かつ最大でも、該蛍光体柱状物の頂面での柱径が２００μｍを越えないことを特徴とする放射線像変換パネル。蛍光体層の気相堆積の開始に先立って、蒸発源全体を充分な溶融状態におくことにより、上記の放射瀬像変換パネルが製造できる。 （もっと読む）

【課題】高品質の薄膜の形成が可能となり、中でも低い基板温度環境において、基板との密着性が良好で、緻密性が高く、硬度の高い、高品質のフッ化物薄膜の形成が可能となる薄膜形成方法および薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】膜材料６を真空中で加熱し、該膜材料を蒸発させる工程と、前記蒸発させた膜材料による蒸発材料に、電子源９から放出された低エネルギーの電子を付着させ、該蒸発材料を負イオン化する工程と、前記イオン化した蒸発材料を電界（１０１）によって被処理基板２に向けて加速し、該被処理基板上に該材料を蒸着させる工程とを有し、薄膜を形成する構成とする。 （もっと読む）

【課題】蒸発源のるつぼ内で蒸着材を溶融中に停電、非常停止等でヒータが加熱不能となる異常事態が発生したときに、るつぼが破損するのを防止する。
【解決手段】蒸発源は、るつぼ１２を加熱する加熱装置１３と、加熱装置１３の周囲を冷却する冷却装置１５を備えている。るつぼ１２は移動部材２０のアーム２１の先端に支持されている。移動部材２０は作動機構１６のエアシリンダ１８により、るつぼ１２を加熱装置１３により加熱される被加熱位置と、加熱装置１３から離間した退避位置とに移動される。加熱装置１３の作動中にヒータ１４が不作動状態になったときに、るつぼ１２は移動部材２０と共に退避位置に移動され、るつぼ１２は真空中で放冷される。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層を真空蒸着で形成し、かつ、蒸着レートおよび膜厚を正確に制御できる放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】成膜中にレーザ変位計２０ａ〜２０ｆ等を用いて蛍光体層の膜厚を測定し、その測定結果に応じて、加熱制御手段２４によりルツボ５０ａ〜５０ｆの発熱を調整して、ルツボ毎の蒸着レートを制御する。 （もっと読む）

本発明は、成膜室に接続された減圧手段により減圧して、成膜室で蒸発源から有機化合物材料を蒸発させて成膜する際、有機化合物材料の粒子よりも小さい粒子、即ち原子半径の小さい材料からなるガス（シラン系ガス等）を微量に流し、有機化合物膜中に原子半径の小さい材料を含ませる新規な成膜方法を提供する。
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【課題】支持体と輝尽性蛍光体層との付着性（接着性）を改良した放射線画像変換パネルの提供。
【解決手段】支持体４上に輝尽性蛍光体層を気相堆積法（気相法）により形成し、該輝尽性蛍光体層上に保護層を設けた放射線画像変換パネルにおいて、支持体と輝尽性蛍光体層間の付着力が２〜１００ＭＰａであることを特徴とする。支持体上に輝尽性蛍光体層を形成する前に、該支持体表面をエネルギー照射処理または／及びポリマーコートすることが好ましい。 （もっと読む）