【課題】基板温度を迅速かつ正確に制御することが可能な成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置1は、抵抗加熱式の真空蒸着により、基板50表面に成膜材料を成膜する装置である。成膜装置1は、成膜室10と、この成膜室10内に、基板50を保持する基板ホルダー20と、基板ホルダー20が固定される冷却ブロック30と、成膜材料を蒸発させる蒸発源40と、を備える。そして、冷却ブロック30と基板ホルダー20との間に、しわ加工を施した金属箔60が介在されている。この冷却ブロック30は、内部に冷媒が流通する冷媒流路31が形成されており、冷媒流路31を冷媒が循環することにより冷却される。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構造で、被蒸着物の装着位置による膜厚差を低減することができる蒸着治具及びこれを備えた蒸着装置等を提供すること。
【解決手段】可動ホルダ３４が、基板ホルダ３１の外周側において、装着された基板２０を周方向に所定の角度に傾斜させているため、平板では球面から距離が離れやすい外周側であっても基板ホルダ３１内の基板２０に設けられた被蒸着物ＤＳに略均一な膜厚で蒸着することができる。また、可動ホルダ３４によって基板２０を傾斜させる構造であるため、簡単な構造とすることができる。 （もっと読む）

【課題】加熱時にヒーターからの輻射熱を遮ることなく、冷却時に被処理物との間に周辺から流れ込む冷気によって発生する被処理物の端部の温度ムラを低減できる熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱時に被処理物１１に接することなく被処理物１１の周囲を囲うように可動板１４を配設し、冷却時には可動板１４が回転して被処理物１１の周囲および被処理物１１の周縁部に接することなく囲うように、被処理物１１の面１１ｂとの隙間を形成することで、冷却時における被処理物の端部をガス流れ抵抗を大きくして、ガス流れによる被処理物の端部の温度変化を抑える。 （もっと読む）

【課題】装置振動等による基板の位置ずれを防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板搬送用の搬送ロボット３０が配置された搬送チャンバ２０と、搬送チャンバ２０の周囲にスリットバルブ７０を介して接続されたプロセスチャンバ１０と、を備える。プロセスチャンバ１０は、載置台１１を備え、載置台１１からリフトピン１２に基板Ｗを移載することで搬送ロボット３０への基板Ｗの受け渡しが可能になっている。リフトピン１２を制御する移載制御部１３は、搬送ロボット３０が該当プロセスチャンバ１０への基板の搬送動作を開始した後に、リフトピン１２へ基板Ｗを移載させる。 （もっと読む）

【課題】基板の角部においてもマスクと基板の密着性を確保することができる真空成膜用マスクを提供する。
【解決手段】開口が設けられている金属箔１０と、金属箔１０を固定する金属フレーム１１と、金属フレーム１１の内縁の辺部に設けられ、金属箔１０を介して基板２０を支持する基板受け部１２と、から構成され、基板２０を金属箔１０上に載置したときに、基板２０の辺部が基板受け部１２にて支持されており、基板２０の角部が基板受け部１２にて支持されていないことを特徴とする、真空成膜用マスク１。 （もっと読む）

【課題】設計通りに衝撃波を制御できるように内部形状および内部表面加工された小型精密な超音速ノズル、好適にはＰＶＤ用超音速ノズルを提供すると共に、当該超音速ノズルを製造可能な切削工具を提供する。
【解決手段】特殊な加工をした超硬複数刃であって、該複数刃が回転対称に配置されている切削工具を使用し、スロート部の内部直径が０．１ｍｍ〜３．０ｍｍであり、管内部の表面粗さＲａが０．２μｍ以下である、手のひらサイズの小型で、ノズル内部の空洞部が精密に加工された超音速ノズルを提供する。 （もっと読む）

【課題】内燃機関用中実ピストンピンにおいて、表面処理に際して、１本ずつ治具に挟んで処理で、１バッチに処理可能な本数が少なく、能率が低かった。そこで、複数個の中実ピストンピンに、同時に表面処理を施す手段を提供する。
【解決手段】ピストンピン１の中心部を中実に形成するとともに、両端面に間隔保持用治具３が係合する凹部２を形成した。間隔保持用治具３は、上下に円錐を重ねた形状、即ちそろばん玉形状、を呈している。ピストンピン１の凹部２は円柱状の穴よりなり、端部に間隔保持用治具３と係合する円錐状の面取り部が形成されている。ピストンピン１と間隔保持用治具３とを交互に表面処理用治具４に装着して表面処理を行う。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダの基板以外の領域の表面に成膜材料が付着するのを防止することができ、基板上に成膜される膜の品質及び生産性を向上させることができるスパッタリング装置を提供する
【解決手段】真空排気可能な真空容器１と、真空容器１の内部に配設され、基板８をその処理面を下方へ臨ませて保持する保持機構３０、３１を備えた基板ホルダ４０と、基板ホルダ４０の直下に基板８に対向させて配置され、放電用電力が供給されるカソード電極１０と、カソード電極１０の基板側に支持されたターゲット１６と、を備え、基板ホルダ４０は、基板以外の領域の表面温度を基板８上に成膜する成膜材料の分解または蒸発温度以上に加熱する加熱機構６０、６１を有する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、基板への蒸着被膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、基板が搬送トレイに載置されている状態を形成するための保持部材として機能させるとともに、基板における２つ以上の蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させる。 （もっと読む）

【課題】多点クランプを用いた物理蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】物理蒸着装置は、側壁を有する真空チャンバと、真空チャンバの内側にあって、スパッタリングターゲットを含むように構成されたカソードと、カソードに電力を供給するように構成された高周波電力源と、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁と電気的に接続されたアノードと、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁から電気的に絶縁されていて、基板を支持するように構成されたチャックと、基板をチャックに保持するように構成されていて、導電性であるクランプと、クランプに取り付けられていて、それぞれが基板と接触したときに縮まるように構成された、複数の導電性電極と、を含む。 （もっと読む）

【課題】熱拡散器を用いた物理蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】物理蒸着装置は、側壁を有する真空チャンバと、真空チャンバの内側にあって、スパッタリングターゲットを含むように構成されたカソードと、カソードに電力を供給するように構成された高周波電力源と、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁と電気的に接続されたアノードと、真空チャンバの側壁の内側にあって、側壁から電気的に絶縁されていて、基板１１６を支持するように構成されたチャック１１０と、チャック上に支持された基板を加熱するヒータ６０１と、を含む。チャックは、チャック本体６０５と、チャック本体上に支持されていて、基板と接触するように構成された、黒鉛熱拡散器と、を含む。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバー内で基板を加熱して、次に即座に基板をコーティングする方法に関し、当該方法は、（１）基板の下面を基板ホルダー上に配置する工程、（２）基板を、基板ホルダーに対して所定距離に亘って持ち上げる工程、（３）加熱装置、例えば、放射熱装置を用いて、その上面によって持ち上げ基板を加熱する工程、（４）例えば、コーティングゾーンの中およびそれを通過して移動することによって加熱基板をコーティングする工程、（５）基板をチャック上まで下ろして、基板を冷却する工程、および（６）必要に応じて、冷却基板を更にコーティングする工程を含む。本発明に係る方法は、実施される方法手順を更に可能にし、様々な規定温度を各々の工程の間に基板上に設定でき、および必要に応じて、その後に即座に１以上のコーティングを前記基板温度で行うことができる。例えば、コーティング（抑えた）した後に即座に所定時間に亘って基板を更に高温で保持できる場合も含まれる。
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【課題】装置構成の大型化、複雑化を回避しつつ、三次元曲面形状の成膜領域に均一な膜質で蒸着膜を形成することができるワークの位置決め装置を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る位置決め装置１３は、回転対称な三次元曲面形状の成膜領域を有するワークを成膜するために用いられ、ワークＷを支持する支持体３０と、支持体３０を回転及び傾動させる回転機構及び傾動機構と、これら回転機構及び傾動機構を制御する制御部１６とを有する。上記回転機構は、ワークＷの回転対称軸ａｘ１の回り（θ方向）に支持体３０を回転させ、上記傾動機構は、蒸着粒子ｐ１の入射方向（Ｚ軸方向）と直交する軸ａｘ２の軸回り（ψ方向）に支持体３０を傾動させる。制御部１６は、ワークＷに対する蒸着粒子ｐ１の入射位置を調整するために、上記回転機構及び上記傾動機構を制御する。 （もっと読む）

本願は、第１基材上の収容溝に補助体を挿入して、前記補助体の第１表面は、前記収容溝に収容され、前記補助体の第２表面は、外部に露出させるステップ、前記第２表面に第１コーティング層を形成するステップ、前記第１コーティング層が形成された補助体と第２基材とを付着するステップ、前記第２基材に付着した前記第１コーティング層が形成された補助体を前記第１基材から分離して、前記第１コーティング層が形成された補助体の第１表面を外部に露出させるステップ、前記第１表面上に第２コーティング層を形成するステップ、及び前記第１コーティング層と前記第２コーティング層とが形成された補助体を前記第２基材から分離するステップを含む粒子の製造方法及びこれによって製造される粒子を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板を回転させながら効率よく冷却することができる技術の実現。
【解決手段】スパッタリング装置１００の真空容器１０１内部の基板を冷却するための冷却装置であって、前記基板Ｗを冷却する基板冷却台１０４と、前記基板冷却台を冷却する冷却機構１０２と、前記基板冷却台に冷却ガスを導入する冷却ガス供給部１１０，１１１と、前記基板を前記基板冷却台から所定の間隙だけ離間させた状態で保持し、当該基板を保持した状態で回転駆動される基板回転機構１０５と、前記基板回転機構を所定の回転数で回転駆動する駆動機構１０６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置において、基板上に均一な無機配向膜を備えることにより、高品位な画像表示を行う電気光学装置を形成する。
【解決手段】蒸着装置は、基板（２１０）に蒸着源（１１０）から蒸発される蒸発物質を蒸着させる蒸着手段と、真空槽（１０１）と、所定の角度で基板を保持する保持手段（９０１）と、所定の角度を第一及び第２の方向に沿って変更可能であり、第１の方向に沿って移動可能なヒンジ部（９０２）と、第２の方向に沿って延在する開口部（９０５）を有するスリット板（９０４）と、第２の方向に沿って分割された複数の遮蔽板（９０６ａ、９０６ｂ及び９０６ｃ）から構成されており、遮蔽板の各々が、遮蔽状態と解放状態とを個別に切り替え可能なシールド板（９０６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置の搬送路に複数の基板ホルダを保管する基板ホルダ保管室を設けることにより、基板ホルダの表面に堆積した膜の除去の工程および基板ホルダの交換工程、または膜の除去の工程若しくは基板ホルダの交換工程に影響を受けることなしに基板の生産を効率的に行うことができる成膜装置及び成膜装置用ストックチャンバーを提供すること。
【解決手段】真空状態に連結した複数の真空チャンバー、前記複数の真空チャンバー内に設けられた搬送路、前記搬送路に沿って移動可能に設けた複数の基板ホルダ、前記基板ホルダを移動させる駆動手段、前記搬送路からの基板ホルダの回収、及び／又は前記搬送路への基板ホルダの供給が可能であり、かつ前記複数の真空チャンバーの一つと連結したストックチャンバー、を備え、前記ストックチャンバーは、基板ホルダを回転機構の中心軸の周りに垂直の状態で配置可能な構成とした。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着体の表面に塊（ダマ）を形成させずに、蒸着材を付着することができる微粒子形成装置を提供する。
【解決手段】 攪拌容器７３に収納された担持体であるアルミナ粉（被蒸着体７）を攪拌しながらナノ粒子（蒸着体）のプラズマを上から照射し、アルミナ粉表面に触媒金属を担持させる。この過程で、スタンプ８５のアーム部８９は、攪拌容器７３の回転に連動して、上部開口部の縁部９０の斜めに切りかけたスロープを登る。そして、最終上段まで上がったときに、段差９０ｃで低い段差に急激に落とされて、その下部にあった被蒸着体７の塊を粉砕する （もっと読む）

【課題】本発明においては、半導体ウェハの温度を常温から１００℃まで、容易に制御可能な冷却機構を有するスパッタリング装置を提供することを目的としている。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に配置した基板を保持するための基板ホルダと、前記基板ホルダに固定されたシールドと、熱伝導棒とを有し、前記基板ホルダには、前記熱伝導棒の一方の端が接続されており、該熱伝導棒の他端は冷凍機の冷却パネルと接続する。 （もっと読む）