【課題】反りの発生を抑制すると共に、膜厚分布の発生を抑制して、電池を組み立てた際に、初期短絡の発生やサイクル寿命の短命化を招かない電池用正極の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の外周部を、基材ホルダーにより固定する基材固定工程と、固定された基材の表面に、気相成長法を用いて、正極層を成膜する成膜工程とを有する電池用正極の製造方法であって、基材を上下方向から保持する１対の中枠と、中枠を外側から保持し、かつ、開口部が基材面側から外側に向けて開口面積が大きくなるように形成される１対の外枠とを有する基材ホルダーを用い、基材ホルダーにより固定される基材のうち、開口部内に位置する基材の表面に、正極層を成膜する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面にテクスチャが形成される場合でも、透明導電膜など、当該表面に形成される膜厚をより均一にすることができる成膜方法、及び太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】幾何学的な凹凸が形成された基板２００に蒸着源２０から供給される蒸着材料２５を蒸着させ、基板２００の表面に透明導導電膜を形成する。蒸着源２０の直上寄りに位置する基板２００の端部２００ａと蒸着材料供給部２１との距離ｄ１、及び基板２００の端部２００ｂと蒸着材料供給部２１との距離ｄ２が略同一となるように、基板２００を傾斜させた状態に位置させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板の冷却効果及び、加熱効率を高めた、省スペースのロードロック室を提供する。
【解決手段】 ロードロック室は、未処理基板を搬入し、処理基板を搬入するロードロック室であって、ロードロック室内部の上方に設けられた基板加熱手段と、ロードロック室内部であって、かつ基板加熱手段の下方に対向配置された、基板冷却手段と、ロードロック室を区画するように設けられ、基板加熱手段に接近可能な第１ステージと、第１ステージに設けられ、基板を支持する複数の第１ピンと、基板冷却手段を備えた第２ステージと、前記第２ステージに設けられ、基板を支持する複数の第２ピンと、を備え、基板加熱手段によって基板を加熱する際には、第１ピンは第１ステージ内に収納されず、基板冷却手段によって基板を冷却する際には、第２ピンは第２ステージ内に収納されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板をセットする際に、基板の下辺が下辺支持部材に不適当に接触する事態を防止すると共に、搬送時に生じる振動による衝撃を確実に軽減することにより、基板の破損を可及的に低減し得る基板フォルダを提供する。
【解決手段】基板搬送装置でガラス基板を搬送するに際して、ガラス基板２の下辺を下辺支持部材４で支持した状態で前記基板を縦姿勢で保持する基板フォルダ１であって、下辺支持部材４が、ガラス基板２の下辺が載置されるし平面を有する載置部７と、該載置部７を下方から支持し且つ載置部７に載置されるガラス基板２の重量で弾性変形可能な弾性変形部８とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板に投入する磁界の方向を基板面内で±１°以内に揃えることができ、且つコイル群毎に印加する電力を制御することで回転磁場を発生可能であるとともに、基板マグネットのサイズを低コストで変更することができる磁場発生装置を提供する。
【解決手段】磁場発生装置は、磁性材料からなる略棒状のコアエレメント２１に導線２３が巻回された有芯コイルエレメント２０を、磁性材料からなる接続部品３１を介して多角形状に連結して構成されており、基板保持台に載置された基板表面に平行な磁界を発生することができる。 （もっと読む）

【課題】ダウンデポジションで蒸着を行う場合に、基板の成膜面に蒸着させた膜にマスクから落下したパーティクルが付着しないようにする。
【解決手段】蒸着用容器２内で、成膜面３ａを上向きに保持した基板３に、蒸着源で加熱された材料を蒸発させて成膜を行う蒸着装置１である。蒸着用容器２内の、放出用容器１４の下方に固定配置されたマスク保持台９と、基板３を載せ、マスク保持台９に保持されたマスク１１に対して接離移動自在に設けた基板ホルダー６を具備する。基板ホルダー６をマスク１１に接近移動させて材料を基板３の成膜面３ａに蒸着する時、マスク１１と基板３の間に隙間を設ける。
【効果】成膜終了後の基板交換時にマスクからパーティクルが落下せず、基板に蒸着した膜にパーティクルが付着するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止することを可能にした真空成膜装置用部品の製造方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置用部品１の製造方法は、部品本体２の表面にＷおよびＭｏから選ばれる高融点金属からなる溶射膜３を形成する工程と、溶射膜３を還元雰囲気中にて１０７３〜１３７３Ｋの温度で加熱し、溶射膜３の表面に存在する酸化被膜を除去しつつ脱ガス処理する工程とを具備する。脱ガス処理後の溶射膜は、ガス残存量が１０Ｔｏｒｒ・ｃｃ／ｇ以下とされている。 （もっと読む）

【課題】オーバーシュートが小さく蒸着レートコントロールが容易で、蒸着材料を短い加熱時間で所定温度に到達させることができ、また基板全体に短時間に蒸着しタクトタイムを短縮する事が可能な実用性に秀れた蒸着装置における蒸発源の提供。
【解決手段】基板３と対向状態に設ける容器２に蒸着材料１を収納し、この容器２内の蒸着材料１を加熱して蒸発させることで基板３の成膜面４に蒸着材料１を付着させて成膜を行う蒸着装置における蒸発源であって、容器２は、基板３の成膜面４と対向する上面部７と蒸着材料収納本体部５とから成る箱状に構成し、この上面部７に、蒸発した蒸着材料１が通過可能な蒸着材料通過孔６を複数並設状態に設け、容器２にマイクロ波吸収体を設け、容器２にマイクロ波を照射してマイクロ波吸収体を発熱させるマイクロ波照射部８を備える。 （もっと読む）

【課題】同じ成膜室内で薄膜を蒸着及びスパッタすることができる薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】薄膜製造装置は、成膜室をスパッタチャンバー及び蒸着チャンバーに分け、スパッタチャンバー及び蒸着チャンバーを連通する貫通孔１２１３を有する固定板１２１を備える。ワークピースを積載する第一積載板１２２を有する積載装置１２０と、スパッタ装置と、蒸着装置１４０と、を備え、第一積載板は、スパッタチャンバー又は蒸着チャンバーに回動可能に取り付けられ且つ貫通孔の近傍に位置する。第一積載板を回動して、第一積載板が貫通孔を遮蔽しない際には、第一積載板に積載されるワークピースはスパッタチャンバー又は蒸着チャンバーに暴露され、第一積載板を回動して、第一積載板が貫通孔を遮蔽する際には、第一積載板に積載されるワークピースは蒸着チャンバー又はスパッタチャンバーに暴露される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ側にバイアス用の高周波電力を安定的に投入することによりプラズマ処理の再現性を高く維持することができる載置台構造を提供する。
【解決手段】金属膜を形成する被処理体Ｗを載置し、隙間９４を隔ててグランド側に接続された保護カバー部材９２により囲まれた載置台構造において、被処理体を載置する電極としての載置台本体４８と、載置台本体の下方に配置されて絶縁状態で設けられたベース台５０と、ベース台を支持してグランド側に接続された支柱４６と、載置台本体に接続されてバイアス用の高周波電力を供給する高周波給電ライン７０と、高周波電力が印加されるホット側とグランド側との間に形成された電力安定用コンデンサ部１２０とを備え、電力安定用コンデンサ部の静電容量は、載置台本体と保護カバー部材との間で形成される浮遊容量の静電容量よりも大きく設定されている。 （もっと読む）

基板上にコーティングを作るために、基板をターゲットの近傍に配置する。連続する多数のパルスをターゲット上にフォーカスすることにより、ターゲットからコールド・アブレーションにより材料が除去され、こうして、多数の連続するプラズマ・フロントが作り出され、少なくともその一部が基板へ向かって移動する。連続する各レーザ・パルス間の時間差は、連続する多数のプラズマ・フロントに起因する成分が基板表面上に核を形成できる程度に短い。そこでは、成分の平均エネルギが、結晶構造の自発的成長を許容する。
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【課題】大型基板への薄膜製造における条件確認プロセスにおいて、通常の生産時の成膜条件を乱すことなく、簡便な方法で条件確認ができるように、新たな基板保持具を提案し、従来の方法よりコストダウンを図ること。
【解決手段】薄膜を製造するための基板を保持する基板保持具であって、周縁部を規定する枠部２と、周縁部の間を対向側に差し渡す桟部３とを有し、成膜条件を確認するための測定片用基板保持部６と固定爪部７とからなる測定片用基板ホルダ４を、前記桟部および／または前記枠部に前記固定爪部を用いて装着することを特徴とする基板保持具。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内のヒータ等の加熱機構がクリーニング処理によって生じる劣化や腐食を、クリーニング時における温度制御を要することなく行い、温度制御に伴う操作時間を不要とし、真空成膜装置の稼働率の低下を抑制する。
【解決手段】真空成膜装置において、クリーニング時において加熱機構の外周を不活性ガスで覆うことによって、反応性に高いクリーニングプラズマあるプラズマによって発生するラジカルが加熱機構に接触しないようにし、これによってクリーニング処理により劣化や腐食を防ぐ。保護機構は、ヒータの周囲空間に不活性ガスを導入する不活性ガス導入機構を備え、クリーニング時に不活性ガスを導入して加熱機構をクリーニングガスプラズマ又はラジカルから空間的に分離してヒータを保護する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板やマスクの撓みを高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、前記基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、前記シャドウマスクを保持するアライメントベースと、前記アライメントベースを垂下した姿勢に保持するアライメントベース垂下手段と、前記アライメントベースの垂下された垂下平面での前記アライメントベース回転の動きに追随する送り手段を有するアライメントベース支持手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記アライメントベースを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理面近傍に形成する磁場の強度を変更しても処理面近傍に均一な磁場を形成することが可能であり基板上に成膜する磁性薄膜の磁気異方性を良好に揃える。
【解決手段】基板を処理する処理室と、処理室内で基板を支持する基板支持部と、基板支持部に支持された基板の処理面に磁性薄膜を成膜する成膜機構と、基板支持部に支持された基板の処理面に対して該処理面を側方から挟むように互いに対向して配置される一対の磁気部と、処理室内のガス雰囲気を排気するガス排気部と、を備えている。磁気部は、複数の磁気体がそれぞれ配列してなり、基板の中心部を挟む磁気体の配列間隔が、基板の外縁部を挟む磁気体の配列間隔よりも大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】フットプリント（占有床面積）を抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は、基板を保持する基板ホルダ１８が設置された処理室１２と、該処理室に隣接して配置されたターゲット室２３と、該ターゲット室に挿入された回転軸２９を回転させる回転装置２８と、前記ターゲット室に設置され、前記回転軸が回転軸線に連結された錐形状のターゲットホルダ３０であって、錐面において複数のターゲットを保持するターゲットホルダと、イオンを前記ターゲットホルダに保持された前記ターゲットに照射するイオン源４０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリ１００を含む真空に維持される複数のチャンバにおいて、被蒸着用基板と接し、基板を支持する支持面を具備した本体と、本体に内蔵され、支持面に静電気力を生成させる電極と、電極に電気的に連結され、本体に備わった電池を有する静電チャック６００がチャンバを通過するように移動させるキャリアを含む薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本体６０１に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール６０３ａ，６０３ｂを含む基板５００を支持する静電チャック６００で、キャリアのチャンバ７３１通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第１電源フィン６０４ａと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第２電源フィン６０４ｂを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板が薄くても、成膜の内部応力に起因する反りの発生を簡易に防止することができる成膜方法の提供。
【解決手段】短冊状基板の両面のそれぞれ一部に接する一対の保持部２５，２８を有する成膜治具２を用いて大板１を成膜し、成膜後の大板１を複数の短冊状基板に切断分割し、保持部２５，２８が接した領域を含まない非保持領域から切断分割された短冊状基板のみを検査する。成膜の内部応力によって大板１が反ろうとしても、大板１の両面を一対の保持部２５，２８で保持しているから、保持部２５，２８と大板１との間の隙間がなくなって大板１の反りを効率的に防止できる。検査工程によって、保持部２５，２８で保持される領域の短冊状基板を製品に使用しないようにするので、製品として使用される短冊状基板が確実に成膜される。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内の真空状態を保ったまま連続的にワークの表裏に蒸着を施すことができる真空蒸着装置を提案するものである。
【解決手段】真空蒸着装置のチャンバ内に配置されたドームの傾斜面に形成された複数のワーク装着部１８にワーク装着ユニット２０が装着される。ワーク装着ユニット２０は、ガラス板２１が固定されたワークホルダ２２を一対の回転軸によって回転自在に支持したホルダ支持枠２５と、ホルダ支持枠２５の回転を係止する係止部材６０を備えたボールガイド枠５０とから構成される。ボールガイド枠５０には鋼球５８が載置され、リブ５６によって載置された位置に保持される。ドームの回転速度を速くすると、遠心力によって鋼球５８がリブ５６を乗り越え、係止部材６０のボール衝突部６２に衝突すると、係止爪６３がワークホルダ２２の係止位置から移動してワークホルダ２２が反転する。 （もっと読む）