【課題】成膜面を下にして上下を逆にして載置したウエハ上の堆積膜にクラック、バリ、剥がれの発生を防止する。
【解決手段】蒸着設備において、下から受けてウエハ２を支えて搭載するウエハ搭載用のヤトイ治具３において、ヤトイ治具３の内周側の先端部に庇状の段差部３ａが平面視リング状に設けられている。リング状のヤトイ治具３の段差部３ｂ上にはウエハ２が搭載され、さらに外周側のヤトイ治具３の段差部３ｃ上には、その下面がウエハ２の上面にと当接してウエハ２を自重で固定するための蓋４が搭載されている。段差部３ｃ上に搭載された蓋４の下面は、段差部３ｂ上に搭載されたウエハ２の上面を多少押圧する段差部３ｂ、３ｃの段差高さ関係を有している。 （もっと読む）

【課題】ロールツーロール方式の成膜装置において、基板幅方向全幅にわたって蒸着膜を形成することができる、量産性に優れた成膜装置を提供する。
【解決手段】表面と裏面を有する帯状の基板の表面上に、薄膜を形成する成膜装置１００が、基板を搬送するための、２つのロール３、８を含む搬送機構と、２つのロールに巻き付けられ直線状に保持されている基板４の表面上に、薄膜形成領域内で薄膜を形成するため、薄膜形成領域と対向して配置され薄膜原料を収容する原料容器９を含む薄膜形成手段と、基板の表面の幅方向全幅にわたって薄膜が形成されるように薄膜形成領域を確定する遮蔽部材と、拡散防止部材７０とを含む。拡散防止部材は、薄膜形成領域において、基板の裏面と対向して、基板とは接触しないように配置され、かつ、原料容器から見て、基板の幅方向両端から突出する突出部を有し、当該突出部が、基板を搬送する方向に対し平行ではない方向に移動可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】凹面を有する光学素子に膜厚が均一な金属酸化膜を形成する。
【解決手段】金属ターゲットから放出されたスパッタ粒子を、光学素子２の凹面２ａに蒸着させて金属膜１１を形成する（スパッタ処理工程）。次に、スパッタ処理工程にて形成された金属膜にイオンビームｉを照射して、金属膜１１から放出されたスパッタ粒子ｓａを再度、光学素子２の凹面２ａに蒸着させて金属膜１１Ａを形成する（再スパッタ処理工程）。このとき、主に凹面２ａの中央部の金属がスパッタされて、スパッタ粒子ｓａが凹面２ａの周縁部に蒸着される。次に、再スパッタ処理工程にて形成された金属膜１１Ａに、酸素ラジカルビームを照射して酸化処理を行い、金属酸化膜１５を形成する（酸化処理工程）。 （もっと読む）

【課題】高品質なシリコン系薄膜を高速かつ安全・安価に形成できるスパッタリング装置、スパッタリング方法および該シリコン薄膜を用いて作成した太陽電池や液晶表示装置（ＬＣＤ）等の電子デバイスを提供すること。
【解決手段】シリコンを主成分とするメインターゲット１ｍ上に該ターゲットと同様にシリコンを主成分とし、かつ面積が該メインターゲットより小さいサブターゲット１ｓを複数個配置したスパッタリングカソードをマグネトロン放電させ、かつ基板ホルダ７に載置した基板８に薄膜を形成することで解決できる。 （もっと読む）

【課題】蒸着ステージを移動しながら、多層膜の蒸着を行う場合に、蒸着マスクと基板の熱膨張の差によって、蒸着マスクと基板が位置ずれを起こすことを防止する。
【解決手段】
蒸着ステージにおいて蒸着マスクを介して基板に所定の蒸着を行い、その後蒸着マスク、基板および押さえ板３０の組を移動させ、他の蒸着ステージにおいて、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行う。蒸着マスク、基板、押さえ板３０の組が移動している間、冷却ローラ６０を押さえ板３０に接触させ、蒸着マスクを介して基板に他の蒸着を行っている間は、冷却ローラ６０は押さえ板３０からは離しておく。冷却ローラ６０は金属で形成され、表面に高分子材料がコーティングされており、内部を冷却媒体が流れることが出来る。基板および蒸着マスクの温度が上がって熱膨張することを回避することが出来るので、有機ＥＬ表示装置の製作裕度を向上させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】マスクと基板との隙間を介して侵入する蒸着物質によって生じる輪郭ボケや回り込み等のない、高品位な薄膜パターンを得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２０の裏面の、マスクフレームの内側であって、マスクの開口領域１０の外側の領域を、基板の対向する２辺に沿った線状に、押圧体３０によって押圧することにより、マスク開口部の変形を招くことなく、基板とマスクとを略水平状態にして密着させることができる。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程にさらに適しており、高精細のパターニングを可能にする有機層蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に有機層を形成するための有機層蒸着装置において、基板と結合して基板を固定させ、基板の載置面が所定の曲率を持つように形成される静電チャック；基板側に蒸着物質を放射する蒸着源；蒸着源の一側に配置され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部；蒸着源ノズル部と対向して配置され、第１方向に対して垂直の第２方向に沿って複数のパターニングスリットが形成され、第２方向と、第１方向及び第２方向に対して垂直の第３方向とが形成する平面上での断面が一定に曲げられるように形成されるパターニングスリットシート；を備える有機層蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】成膜室内に保持された基板を三次元方向に移動させる機能を有すると共に、その機能に伴って設けられたベローズの内部に侵入する成膜関与物質の量を低減する成膜装置を提供する。
【解決手段】基板２の表面に対して真空状態下で成膜処理する成膜室１０と、成膜室１０に形成された開口部１０ａを貫通して基板２を保持する基板保持手段２０と、基板保持手段２０を介して基板２を三次元方向に移動させる基板駆動手段３０と、基板保持手段２０の少なくとも一部を収容し、開口部１０ａに一方の端部６０ａを連通させるように設けられたベローズ６０と、基板保持手段２０が摺動可能となるように開口部１０ａを塞ぐ遮蔽手段８０と、遮蔽手段８０を成膜室１０の上部内壁面１０ｄに押し付ける付勢手段９０とを有する成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置を実現する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、マザーガラスのような大きな基板を用いて、信頼性の高い半導体装置の大量生産を行うことの出来る成膜装置を提供することを課題の一とする。また、上記成膜装置を用いて安定した電気的特性と高い信頼性を有する半導体装置の作製方法を提供することを課題の一とする。
【解決手段】基板の搬送機構と、搬送機構が送る基板の進行方向に沿って、酸化物半導体を成膜する第１の成膜室と、第１の熱処理を行う第１の加熱室とを有し、基板は、該基板の成膜面と鉛直方向との成す角が１°以上３０°以内に収まるよう保持され、大気に曝すことなく、基板に第１の膜を成膜した後に第１の熱処理を施すことのできる成膜装置を用いて、酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】生産工程におけるタクトタイムの短縮が可能な蒸着装置を提供することである。
【解決手段】ガラス基板２０を設置可能な真空室２と、薄膜材料を蒸発させる蒸発装置３とを有し、真空室２内にガラス基板２０を設置し、蒸発装置３によって蒸発された薄膜材料を蒸散させてガラス基板２０に所定成分の膜を蒸着する蒸着装置１において、ガラス基板２０を回転又は円弧軌跡上を回動させてガラス基板２０の向きを変更する姿勢変更手段８と、複数の蒸発装置３とこれに対応する複数の薄膜材料放出部６を有し、薄膜材料放出部６はガラス基板２０を囲む位置に配置されており、姿勢変更手段８によってガラス基板２０を各薄膜材料放出部６に順次対向させ、各薄膜材料放出部６から順次薄膜材料を蒸散させてガラス基板２０に異なる薄膜材料を積層することが可能である。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。
【解決手段】Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｇ、ＡｕおよびＩｎから選ばれる金属元素の単体、もしくは前記金属元素を含む合金または化合物の薄膜を成膜する真空成膜装置の構成部品の製造方法であって、部品本体の表面にＣｕの含有比率が６５〜９５質量％の範囲のＣｕ−Ａｌ合金からなるＣｕ−Ａｌ合金膜を形成する工程と、前記Ｃｕ−Ａｌ合金膜に１．３３×１０^−３Ｐａ以下の真空雰囲気中で３００〜８００℃の温度でアニール処理を行う工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】薄膜素子の生産効率と材料の利用効率を向上させることが可能な蒸着装置を提供することである。
【解決手段】ガラス基板７を設置可能な真空室２と、薄膜材料を真空雰囲気中で蒸発させる蒸発装置５と、蒸発された薄膜材料を面状に蒸散させる複数の蒸散管４とを有し、真空室２内にガラス基板７を設置して所定成分の薄膜を蒸着する蒸着装置１において、揺動装置２０を有し、ガラス基板７は揺動装置２０に固定されるものであり、ガラス基板７に薄膜を蒸着する際には、ガラス基板７を蒸散管４に対向した状態で近接させ、ガラス基板７を平面内で揺動させる。 （もっと読む）

【課題】成膜装置用部品に対してパーティクル量を低減したプレコート層を効率よく形成することができる成膜装置用部品の前処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置用部品の前処理方法は、成膜装置用部品を成膜装置に用いるに先立って、該成膜装置用部品に対して、溶射によって金属溶射層を形成する工程、及び、金属溶射層が形成された成膜装置用部品に対し振動を与えた後、エアブローする工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な操作により基板ｓと基板ホルダ１の急速冷却を可能とし、基板処理のスループットの向上を図る。
【解決手段】基板加熱冷却装置は、基板ホルダ１とこれに装着された基板ｓを加熱するヒータ５と、このヒータ５から発射される熱を基板ホルダ１と基板ｓ側に反射する反射鏡６とを有し、前記反射鏡６に基板ｓが配置される真空チャンバ２４の外側で冷却される冷媒を流通させる冷媒通路８を設け、前記基板ｓを装着した基板ホルダ１を移動させ、同基板ホルダ１を弾性部材１１を介して押し上げ、前記反射鏡６に当接し、離間する移動機構を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高め、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループ
ットの優れた成膜装置の一つである蒸着装置及び蒸着方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明は、蒸着室内において、蒸着材料が封入された容器を複数個設置した細長い矩形形
状の蒸着源ホルダ１７に設け、基板１３に対してあるピッチで移動しながら蒸着を行うこ
とを特徴とする。また、基板の一辺に対して矩形形状の蒸着ホルダの長手方向を斜めにし
たまま移動させてもよい。また、ＴＦＴ作製時におけるレーザー光の走査方向に対して、
蒸着時における蒸着ホルダの移動方向を異ならせることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】特に成膜基板の大きさに対して成膜領域が十分に小さい場合に成膜領域以外に対する成膜材料の消費量が大きく、生産コストが高くなり、生産性を高める必要があった。
【解決手段】成膜領域を有する複数枚の成膜基板を保持する成膜基板ホルダであって、ホルダ基体（１１ａ，１２ａ，１３ａ）と保持部材（１１ｃ、１１ｄ、１２ｃ、１２ｄ、１３ｃ、１３ｄ）を有し、ホルダ基体は、複数枚の成膜基板の成膜領域を露出するための複数個の開口部（１１ｂ、１２ｂ、１３ｂ）が形成され、成膜領域を除く領域をマスクする部材となり、保持部材は、ホルダ基体の一方の面上に設けられ、開口部からホルダ基体の他方の面側に成膜領域が露出し、成膜領域を除く部分において他の成膜基板と重なり領域を有し、かつ他の成膜基板と接しないようにホルダ基体に対して所定の傾きを有するように、複数枚の成膜基板をホルダ基体の一方の面上に保持する構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部と中心部の温度管理・温度制御をそれぞれ独立して精密に行うことが可能であり、かつ配管構成を簡素化した基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を真空処理空間において処理する基板処理装置であって、少なくとも２枚以上の基板を載置する基板載置台を備え、前記基板載置台は載置される基板の数に対応する数の基板載置部から構成され、前記基板載置部には載置された基板の中央部を冷却させる中央温調流路と、基板の周縁部を冷却させる周縁温調流路と、が互いに独立して形成され、前記基板載置台には前記周縁温調流路に温調媒体を導入させる温調媒体導入口が１つ設けられ、前記周縁温調流路から温調媒体を排出させる温調媒体排出口が載置される基板の数に対応する数だけ設けられる、基板処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】パターン化された膜を成膜するための成膜用治具において、成膜されない島領域を囲んで枠状またはリング状に全周が繋がっているパターン形状の膜を１つの工程で成膜可能とする。
【解決手段】成膜用治具１は、ブリッジ部材４と、アクチュエータ５と、基板表面Ｓの島領域をマスクする島部マスク部材３１と、基板表面Ｓにおけるパターンの外部領域をマスクする外周マスク部材３２とを備える。ブリッジ部材４は、島部マスク部材３１側に配置された支持部４１と外周マスク部材３２側に配置された支持部５１とを介して、両マスク部材３を互いに結合し、両マスク部材３および基板表面Ｓに対し基板表面Ｓに沿う並進移動自在とされている。アクチュエータ５は、ブリッジ部材４をその長手方向に直交する方向に並進移動させる。成膜源Ｇから見たブリッジ部材４の基板表面Ｓにおける陰が基板表面Ｓ上で移動するので、途切れることなくリング状に成膜できる。 （もっと読む）

【課題】少ない担持量でかつ同等の性能が得られ、付着した白金が殆ど離脱することがない燃料電池用電極を製造することができる燃料電池用電極製造装置およびその方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバ２と、蒸着材料１１の金属からなるカソード電極、トリガ電極１３、アノード電極２３、トリガ電源３１、およびアークプラズマ発生用の並列に設けられたアーク電源３２とコンデンサ３３を備えた同軸型真空アーク蒸発源５と、前記同軸型真空アーク蒸発源５と対向して配置され、被蒸着体７である粉体状担体を収容する容器７３と、前記容器７３内で前記粉体状担体を攪拌する攪拌手段３と、前記攪拌手段３による攪拌過程で生じた前記粉体状担体の塊を粉砕するために、前記容器内の底面を叩く粉砕手段８５とを有し、前記粉体状担体に前記金属を蒸着させて燃料電池用電極を製造する燃料電池用電極製造装置１及びその方法。 （もっと読む）

【課題】生産性を落とすことなくガラス基板を効果的に冷却することで蒸着処理時の有機層の変質・劣化を防止し、これにより高品質の有機層を形成する。
【解決手段】ガラス基板７の一方の面７ａの側に一又は複数の層を形成するに際し、層は有機層４を有すると共に、層における少なくとも一種の層が蒸着処理により形成され、蒸着処理時、ガラス基板７の他方の面７ｂにガラス基板７を冷却するための冷却板１５の一方の面１５ａを直に面接触させることとし、かつ、この面接触により、各々の合わせ面７ｂ，１５ａが剥離可能な程度に密着した状態となるようにした。 （もっと読む）