【課題】シリンダ内周面との摺動において初期に焼付の発生がなく、長時間にわたってシリンダ内周面との間で低フリクションを実現できるピストンリングを提供する。
【解決手段】ピストンリング１は外周摺動面にダイヤモンドライクカーボン皮膜２を有し、更にその皮膜上にＳｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ及びＢの群から選ばれた１種又は２種以上の元素の窒化物からなる皮膜３を有する。窒化物皮膜３は窒化物形成元素単体を含む場合や酸素又は炭素が固溶されている場合もある。ダイヤモンドライクカーボン皮膜２と窒化物皮膜３との間に、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ、Ｂ及びＮｂの群から選ばれた元素からなる単体皮膜を形成することもある。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングの容易な単結晶薄膜からなるAT‐cut水晶振動子用や高機能弾性表面波（SAW）素子用基板の実現とその光ＣＶＤ製造装置を提供する。
【解決手段】シリコン（０１１）基板１０１上にβ‐SiC（０１１）緩衝層（低温成長緩衝層である水晶薄膜）１０２、成長層として水晶（０１１）１０３をヘテロエピタキシャルに結晶成長させた後、前記シリコン基板の裏面に形成されたSiO2膜をマスクとして異方性エッチングで不要なシリコンを除去して水晶エピタキシャル薄膜が露出して存在する領域１０４を形成し、ダイアフラム構造とする。 （もっと読む）

【課題】エネルギビーム照射を受けても劣化しにくい安定な光学薄膜を提供し、その光学薄膜にエネルギビームを照射して作製される光学素子の安定性をも改善する。
【解決手段】本発明の光学薄膜では、基板上に、少なくとも炭素と水素を主要成分として含む水素化炭素膜が形成されており、その上に、酸化膜、窒化膜、酸窒化膜、フッ化膜、または水素と炭素を主要成分として含む膜のいずれかからなる保護層が少なくとも一層以上積層されている。 （もっと読む）

【課題】厚み精度の高い水晶波長板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水熱合成法で育成された人工水晶から第一の水晶板を切り出し（Ｓ１０１）、第一の水晶板を所望の板厚値より薄く研磨加工し（Ｓ１０２）、第一の水晶板研磨加工面上に大気圧気相成長法で先の所望の板厚値から第一の水晶板厚みを差し引いた差分厚みの水晶薄膜をホモエピタキシャル成長させ第二の水晶板を形成する（Ｓ１０３）ことにより水晶波長板を得る。上記工程において、第一の水晶板を所望の板厚値より１μｍ以上〜２０μｍ以下薄く研磨加工し、又、第一の水晶板上にマスクを載置し、第一の水晶板上にマスクパターン形状の水晶薄膜を成長させ、同時に複数個の第二の水晶板を形成する。 （もっと読む）

【課題】電気化学的酸化処理中に基板自体が腐食する、又はダイヤモンド層と基板が剥離することにより電解が継続できなくなる、又は電気効率が著しく悪くなるという問題を解決する基板及び電極を提供する。
【解決手段】基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、ダイヤモンド膜の連続している部分の最大面積が１μｍ²以上１０００μｍ²以下であるダイヤモンド被覆基板である。特に基板の材質が、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｚｎであり、また導電性ダイヤモンド層が、硼素、リン、窒素のうち一つ以上を不純物として含み、導電性ダイヤモンド層が、１ｐｐｍ〜１０００００ｐｐｍの範囲にある硼素を含有しても良い。 （もっと読む）

【課題】良質なペロブスカイト型酸化物薄膜を得ることのできる成膜方法、該成膜方法により成膜した薄膜からなる圧電体を有する圧電素子、該圧電素子を有する液体吐出ヘッドおよび該液体吐出ヘッドを有する液体吐出装置を提供する。
【解決手段】（Ａ１_x，Ａ２_y，Ａ３_z）（Ｂ１_j，Ｂ２_k，Ｂ３_l，Ｂ４_m，Ｂ５_n）Ｏ_pで表される組成を有するペロブスカイト型酸化物の薄膜を基板上に成膜する方法であって、前記元素を含む原料を前記基板上に供給する工程を複数種有し、前記元素Ａ１〜Ａ３、Ｂ１〜Ｂ５を複数のグループに分け、該グループに属する元素を含む原料を、前記グループ毎にそれぞれ別工程で前記基板上に供給することを特徴とする成膜方法。 （もっと読む）

【課題】高い成膜速度で、膜厚分布、抵抗率分布を小さくし、ダイヤモンドを気相合成する。
【解決手段】熱フィラメントＣＶＤ法でのダイヤモンドの気相合成において、複数のガス導入口４６，４７を設け、試料３及びフィラメント２から遠い他のガス導入口４７より水素及び酸素を導入４８し、試料等に近い第一のガス導入口４６よりメタン等炭素を含むガス４５を導入する。これにより試料近傍において、ダイヤモンド成長に寄与する炭素を含む活性種及び原子状水素の存在量の高い条件を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック容器内面に膜質が良好な炭素膜のようなバリヤ膜を高速度で形成することが可能なプラスチック容器の内面へのバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】回転式真空シール機構に排気管１１を通して連通され、プラスチック容器の内面にバリヤ膜を成膜するための複数の成膜チャンバを具備し、排気管は導電材料からなり、その内部の所望位置に通気性で導電性を有するハニカム形導体３９が配置され、かつ成膜チャンバは容器が挿入された時にその容器を取り囲む大きさの空洞を有する外部電極と、容器の口部が位置する側の前記外部電極の端面に絶縁部材を介して取り付けられ、排気管が接続されと共に接地される導電性のチャンバヘッド部材と、外部電極内の容器内にチャンバヘッド部材側から挿入され、成膜ガスを吹き出すためのガス供給管と、外部電極と接地されたチャンバヘッド部材及び排気管との間に電界を付与するための電界付与手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 強酸等に対する耐腐食性に強く、摺動抵抗を減少させることができ、それ程温度を高くしなくても、不必要な部分に反応副生成物が付着することを抑制することができる真空排気系を提供する。
【解決手段】 真空処理室Ｔからの排気ガスを排出する排気路２と、排気ガス中の排気物を捕捉することが可能なトラップ装置１と、トラップ装置を通過した排気ガス中の有害物質を無害化する除害装置Ｅと、を有する真空排気系において、真空処理室とトラップ装置との間の排気路の内面及びトラップ装置内の排気ガスと接する面に、フッ素系樹脂層３０，３２，３４，３６，３８，４０がコーティングする。これにより、強酸等に対する耐腐食性に強く、摺動抵抗を減少させることができ、それ程温度を高くしなくても、不必要な部分に反応副生成物が付着することを抑制する。 （もっと読む）

加熱された基材上にナノ粒子薄膜もしくはナノコンポジット薄膜を製造するためのエアロゾル輸送操作の使用。 （もっと読む）

【課題】製造工程を簡素化しつつ、かつ種々の形状の材料に適用できる、高細密な針状突起配列構造を表面に有するダイヤモンドの製造方法等を提供する。
【解決手段】ダイヤモンド基材の少なくとも表面近傍領域に、ホウ素（Ｂ）、窒素（Ｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、リン（Ｐ）、硫黄（Ｓ）、銅（Ｃｕ）、ヒ素（Ａｓ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、及び金（Ａｕ）のうちの１種類以上のドーパントが１×１０¹⁹個/cm³以上の濃度でドープされたダイヤモンド基材２ａに対し、酸素ガスによるドライエッチングによってダイヤモンド基材の表面を処理することによりダイヤモンド基材の表面に針状突起配列構造３を形成する。 （もっと読む）

【課題】 多孔質体の有する液体吸収保持作用を、生産性よく、向上させる方法を提供する。
【解決手段】 金属骨格を有してなる多孔質体の、該骨格に親水化処理を施すための方法であって、有機金属化合物を原料とし、これを気化させた原料ガスを、大気圧近傍の圧力の酸素を含むプラズマガスで反応させて、生成した金属酸化物を、前記骨格表面に形成させる親水化処理を施す金属多孔質体の表面処理方法である。好ましくは、大気圧近傍の圧力の酸素を含むプラズマガスを、多孔質体の下方から上向きに流して、金属酸化物を骨格表面に形成させる金属多孔質体の表面処理方法である。金属酸化物は、シリコン酸化物であることが望ましく、あるいは更に、金属多孔質体は、金属粉末が焼結した骨格を有することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】紫外光下のみならず可視光下における光触媒活性も十分に発揮し、そのような可視光応答型光触媒膜を簡便に製造する。
【解決手段】可視光応答型光触媒膜は、二酸化チタンに３〜７重量％の炭素が含有された炭素ドープアナターゼ型二酸化チタンからなり、かつその膜厚は５０〜１０００ｎｍである。その製造方法は、チタン有機錯体化合物を揮発させてガス状とする工程と、ガス状としたチタン有機錯体化合物を３５０〜７００℃に加熱してそのチタン有機錯体化合物を熱分解酸化させて３〜７重量％の炭素を含有する炭素ドープアナターゼ型二酸化チタンからなる膜厚５０〜１０００ｎｍの光触媒膜を得る工程とを有する。炭素ドープアナターゼ型二酸化チタンからなる光触媒膜は、大気開放型化学気相析出法によって成膜されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 水晶結晶薄膜、特にＡＴカット面に優先的に配向した水晶結晶薄膜を均一な厚みで製造するために有利に用いることができる水晶薄膜の製造装置を提供すること。
【解決手段】 排気口を備えた反応容器、反応容器内に装着された基板ホルダ、反応容器内に酸素含有気体を供給する、基板ホルダに支持される基板の表面もしくは基板表面を含む平面上の基板の周囲の領域に間隔を介して先端開口部が向けられて配置されている気体供給管、反応容器内に珪素アルコキシドを含有する気体を供給する供給口、反応容器内に反応促進剤を含む気体を供給する供給口、および各気体供給口側の反応容器の端部と上記基板の設置位置との間に設けられ、基板表面に向いた開口部を有する、珪素アルコキシド含有気体と反応促進剤含有気体との混合室を含む水晶薄膜製造装置。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、物理的・化学的に極めて安定で、過酷な環境下で使用することが可能な耐久性に優れた多孔質性複合基板を提供することを目的とする。また電極としても使用が可能である。
【解決手段】 基板および該基板に被覆した導電性ダイヤモンド層からなり、該基板が多孔質で開気孔を有し、該導電性ダイヤモンド層を構成する導電性ダイヤモンドが連続している部分が１０００μｍ^２以下であることを特徴とするダイヤモンド被覆基板である。また、前記多孔質基板の開気孔径が０．１μｍ〜１０００μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 外表面に機能性の薄膜を有する、内部に気体または液体が内包された空間を有する基体から構成される液晶パネル等の物品の製造方法において、耐久性に優れた物品を売ることのできる、生産性がよい製造方法を提供することである。
【解決手段】 内部に気体または液体が内包された空間を有する基体の外面側の少なくとも１面に大気圧プラズマ処理により、薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規な窒化チタンコーティングなどの窒化物コーティング法を提供する。
【解決手段】コーティングする基材を金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末中に埋め込み、マイクロ波を照射して交番電界中に曝すことにより、該金属チタン粉末などの窒化物形成能を有する物質の粉末を固相の状態で大気中の窒素成分と反応させ窒化させると同時に、基材表面に生成した窒化チタンなどの窒化物をコーティングすることができる。大気にはチタンなどの自己燃焼反応を起こさない範囲で窒素を富化してもよい。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、水性物質を内容物とした時でも、常に高いガスバリア性を保持し続け、耐久性に優れた無機膜を内面に形成したプラスチックボトルおよびその製造方法を提供するものである。
【解決手段】
容器の外面から内面へ、基材、無機膜、無機膜保護樹脂の順序で積層されたことを特徴とする成膜容器。
前記無機膜がケイ素酸化物、炭素からなることを特徴とする成膜容器。
前記無機膜保護樹脂が、ポリエチレンまたはポリプロピレンであることを特徴とする成膜容器。
前記基材に前記無機膜をプラズマＣＶＤ法により成膜する工程、該無機膜上に前記無機膜保護樹脂を、該無機膜保護樹脂のパリソンをブロー成型して形成する工程を有することを特徴とする成膜容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有し、かつ膜強度を保持し得る多孔質光触媒膜を提供する。
【解決手段】本発明の多孔質光触媒膜は、アナターゼ型二酸化チタンを７０〜１００重量％含む多孔質光触媒膜の改良であり、その特徴ある構成は、アナターゼ型二酸化チタンが二酸化チタンに３〜７重量％の炭素を含有した炭素ドープ二酸化チタンであり、０．１〜１０μｍの範囲内の膜厚に形成され、かつ気孔率が５０〜８０％であるところにある。本発明の多孔質光触媒膜は、大気開放型化学気相析出法によって成膜することが好ましく、比表面積は１００〜１０００ｍ²／ｇの範囲内に規定することが好ましい。また、膜表層に連通する開気孔のうち、孔径１〜１０００ｎｍの細孔における細孔表面積が全細孔表面積の５０％以上を占めることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ−ＣＶＤを用いて、小型で、任意の場所、形状で微小電磁誘導装置を作製することができる微小電磁装置の作製方法及びそれによって作製される微小電磁装置を提供する。
【解決手段】 微小電磁装置の作製方法において、三次元ＣＡＤを用いて設計した微小電磁装置の三次元構造モデルに基づいた描画データから、原料ガスに集束イオンビームを照射するＦＩＢ−ＣＶＤ装置の集束イオンビームの照射位置とビームの強度、照射時間、照射間隔、照射方向を制御し、ガラスキャピラリー３１の先端面に鉄芯３５とＤＬＣコイル３６とからなる微小電磁装置を作製する。 （もっと読む）