【課題】希土類窒化物は、イットリア以上の耐蝕性を持つ半導体製造装置用部材を作製できると期待されるが、希土類窒化物単体では酸化しやすい性質であり、例えば大気中では希土類酸化物に変化してしまう問題があった。
【解決手段】希土類窒化物からなるプラズマ耐蝕性材料であって、金属元素としてＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎの中から少なくとも１種類の元素を金属元素の割合として０．１〜２０原子％含有することを特徴とするプラズマ耐蝕性材料は、プラズマに対する耐性が高く、このようなプラズマ耐蝕性材料は、希土類窒化物粉末に金属を混合した粉末を使用して溶射膜を形成することで製造することが出来る。 （もっと読む）

【解決手段】希土類元素酸化物の溶射被膜表面を波長９μｍ以上のレーザーで溶融緻密化することを特徴とする溶射被膜の表面処理方法。
【効果】本発明によれば、希土類酸化物溶射被膜の表面をクラックを発生することなく、簡便な工程にて、緻密かつ平滑にすることができ、産業上の利用価値は極めて高い。 （もっと読む）

【課題】
運転温度の非常に高いガスタービン、或いは航空機エンジン等の耐熱部材に使用可能な耐久性，信頼性に優れた遮熱被覆を備えた耐熱部材を提供する。
【解決手段】
Ｎｉを主成分とする耐熱合金基材の表面上に、実質的にＮｉを主成分として、Ｃｒ及びＡｌを含む合金の結合層を介してセラミックスからなる遮熱層を設け、結合層の合金中にはＳｉを０〜１０重量％の範囲内で含有することができる。これにより、長期間の運転において、遮熱セラミックス層の剥離損傷が生じにくいと同時に、基材の機械的特性の低下も少ない。 （もっと読む）

【課題】空隙を有するワークピースのプレースホルダとして用いられる担体材料、及び該ワークピースを製造する方法であって、除去が簡単で費用効果の高いものを提供する。
【解決手段】担体材料は、標準電極電位が室温で異なる少なくとも２つの金属粉末ＭｅＩ及びＭｅＩＩから成り、該担体材料は粉末を圧密化する方法によって製造される。 （もっと読む）

【課題】 金属基質に触媒材料の被膜を取り付ける方法の提供。
【解決手段】 Ｒａが３またはそれ以上の表面粗さを有するアンダーコートが達成されるように、耐火性酸化物の粒子を該基質に熱噴霧で直接付着させることを伴う。次に、このアンダーコートを取り付けた基質に触媒材料を取り付けるが、この取り付けは如何なる通常様式で行われてもよい。特別な態様では、主にアルミナを含有するアンダーコートを取り付けるに先立って、上記金属基質をグリット−ブラスティングで処理する。この被覆基質は、排気ガス処理用触媒部材の組み立てで使用可能である。 （もっと読む）

【課題】 大気プラズマに対する耐腐食性に優れた電極構造体およびこれを用いたプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、プラズマ生成装置１１に用いられる、プラズマを生成するための電極１を備えた電極構造体１０であって、プラズマ生成領域４側の表面に、ＲＥ_２Ｓｉ_２Ｏ_７（ＲＥは希土類元素）で表されるダイシリケートまたはＲＥ_２ＳｉＯ_５（ＲＥは希土類元素）で表されるモノシリケートを主結晶相とするシリケート層２ａが形成されていることを特徴とする電極構造体である。 （もっと読む）

【課題】皮膜が形成される領域と形成されない領域との境界付近におけるバリの発生を抑制することが可能なマスキング治具、および環状部材の被覆方法を提供する。
【解決手段】マスキング治具１０は、軸受外輪８に対して被覆材であるアルミナの溶射を行ない、アルミナ皮膜９を形成する軸受外輪８の被覆処理において、アルミナ皮膜９が形成されるべき皮膜形成領域（外周面８１および端面８２）以外の領域（内周面８３、転走面８４および面取り部８５）を覆う。このマスキング治具１０は、軸受外輪８における皮膜形成領域以外の領域を覆うためのマスク部１１を備えている。マスク部１１は、アルミナが溶射される側の面である溶射面１２と、溶射面１２とは反対側の面である非溶射面１３とを含み、溶射面１２の外周を含む領域は、マスク部１１の外周に向けて非溶射面１３に近づくように傾斜する傾斜面１２Ａとなっている。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムから成る表面を有し、軽量且つ安価で、しかも複雑な形状をなす部品においても容易に金属調の外観と触感を付与することができ、耐傷付き性にも優れた樹脂部品と、このような樹脂部品の製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂基材１の上に、例えば溶射、望ましくは、１００〜１５０℃の低温溶射によって、純アルミニウム材を用いて、アルミニウム層２を形成し、得られたアルミニウム層の表面に、好ましくはバフ研磨した後、陽極酸化処理を施し、陽極酸化皮膜層３を形成する。 （もっと読む）

【課題】 長期的に安定で、均質な防食電流を得ることができ、陽極金属層を形成した範囲のコンクリート内部の鋼材を確実に防食することが可能となるコンクリートの防食工法およびそれを実施してなるコンクリート構造物を提供すること。
【解決手段】 コンクリート構造物の表面をそのまま又は粗面とし、その上に、コンクリート内部の鋼材よりも標準電極電位の低い金属の層である陽極金属層を形成し、該陽極金属層とコンクリート内部の鋼材とを、線形の配流端子を用いて接続してなるコンクリートの防食工法、該陽極金属層の上に、表面保護層を形成してなる該コンクリートの防食工法、該陽極金属層が、亜鉛−アルミニウム擬合金の溶射によるものである該コンクリートの防食工法、該陽極金属層を、線形の配流端子の下及び／又は上に設置してなる該コンクリートの防食工法、並びに、該コンクリートの防食工法を実施してなるコンクリート構造物を構成とする。 （もっと読む）

複合体の製造方法及び樹脂をベースとする複合材料に金属コーティングを固定する方法であって、金属電気めっきプリフォーム上に定着用構造を提供し、この複合材料と定着用構造とを連結させるための条件下でこの定着用構造と複合材料とを一緒にすることから成る前記方法。本発明はまた、樹脂をベースとする複合材料（１２）の表面又は一部の表面（１６）の上に金属コーティング（１４）を含む複合体（１０）をも提供する。この金属コーティング（１４）は、外側電気めっきプリフォーム（１８）及び内側定着用構造（２０）を含み、この定着用構造（２０）は一般的に前記電気めっきプリフォーム（１８）と複合材料（１２）との間に配置されて、複合材料（１２）上への電気めっきプリフォーム（１８）の付着を提供する。
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【課題】半導体デバイス製造装置や液晶デバイス製造装置などのプラズマエロージョンを防止する目的において有用な溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末、その溶射用粉末を用いた溶射皮膜の形成方法、及びその溶射用粉末から形成される溶射皮膜を備えた耐プラズマ性部材を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、原子番号６０〜７０のいずれかの希土類元素の酸化物からなる造粒−焼結粒子を含有する。造粒−焼結粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は２〜１０μｍ、造粒−焼結粒子の圧壊強度は７〜５０ＭＰａである。溶射用粉末の真比重に対する嵩比重の比は０．１０〜０．３０が好ましい。造粒−焼結粒子中の細孔の直径についての頻度分布は１μｍ以上に極大を有することが好ましい。溶射用粉末は、好ましくはプラズマ溶射で溶射皮膜を形成する用途で用いられる。本発明の耐プラズマ性部材１１は、上記溶射用粉末を溶射して形成される溶射皮膜１３を備える。 （もっと読む）

【課題】緻密性の高い電鋳煉瓦が金属被膜で被覆された、耐久性が高く耐熱構造材として有用な金属被膜付き電鋳煉瓦を提供する。
【解決手段】電鋳煉瓦１の表面に規則的なアンカー用凹部３を形成し、白金族金属を含有する金属を電鋳煉瓦に溶射して、アンカー用凹部を満たし表面を被覆する金属被膜５を形成する。アンカー用凹部は、複数の溝が直交格子状に配設され、断面形状が長方形である。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエロージョン性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、原子番号３９，５９〜７０のいずれかの希土類元素の酸化物からなる粒子を含有してなる。溶射用粉末中の粒子の圧壊強度は８０ＭＰａ以上であり、溶射用粉末の真比重に対する嵩比重の比は０．１５以上である。溶射用粉末中の粒子は造粒−焼結粒子であることが好ましく、その造粒−焼結粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は６μｍ以下であることが好ましい。溶射用粉末は、好ましくはプラズマ溶射により溶射皮膜を形成する用途で用いられる。 （もっと読む）

【課題】 冷却孔（１２）を有する物品（１０）に遮熱コーティング（２２）を塗布し、同時にそれらの孔（１２）からＴＢＣのスプレーしぶきや他の破片等の障害物（３２）を洗浄するための方法を提供する。
【解決手段】 遮熱コーティング（２２）は、冷却孔（１２）を有する物品（１０）の第１表面（１１）に塗布される。それと同時に、複数の粒子（３４）が該物品（１０）の第２表面（１３）に対して放出されるため、該粒子（３４）の少なくとも一部が該冷却孔（１２）を通過し、冷却前に該障害物（３２）にぶつかることによって該冷却孔（１２）から該障害物（３２）の少なくとも一部を押し出す。 （もっと読む）

【課題】 高温条件下で作動する金属製の構成部品の断熱に用いられるコーティングの耐久性が、エンジンの運転状態の影響を受けないようなコーティング組成物を提供すること。
【解決手段】 タービンエンジンの構成部品は、支持体（１２）と、該支持体（１２）の表面に施されるボンディングコート（１４）と、該ボンディングコート（１４）の表面に施されたクラック化構造を有する第１のセラミック層（１６）と、該第１のセラミック層（１６）の表面に施されたクラック化構造を有する第２のセラミック層と、を含む。 （もっと読む）

本発明は、貴金属製ガラス供給システムの酸化を減少させる方法であって、溶射プロセスにより、貴金属製ガラス供給システムの外面上に接触して耐火性酸化物を含む材料を十分な量だけ施し、それによって、貴金属製ガラス供給システムの酸化を減少させる工程を有してなるが、ただし、この方法は、アルミナを含むフレーム溶射耐火性酸化物を含まないものである方法に関する。本発明はまた、貴金属製ガラス供給システムであって、貴金属製ガラス供給システムの少なくとも１つの構成部材が貴金属を含み、貴金属が、貴金属の外面上の耐火性酸化物を含む材料と接触し、それにより被覆されており、耐火性酸化物は本発明の方法により施される、貴金属製ガラス供給システムを含む。本発明はまた、その少なくとも１つの構成部材が貴金属を含んでいる貴金属製ガラス供給システムであって、貴金属が、貴金属の外面上のジルコニアを含む材料と接触し、それにより被覆されている貴金属製ガラス供給システムを提供する。本発明はさらに、本発明の方法により製造された製品を含む。
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【課題】ナノ粒子を基板上に高い堆積率で堆積することができるナノ粒子の堆積方法及び堆積装置を提供する。
【解決手段】真空容器１０内に保持された基板２に向けてナノ粒子１を照射し、ナノ粒子１が飛行中にナノ粒子１を加熱して一部又は全部が溶融した液滴とし、液滴状のナノ粒子１を基板２に衝突させて固化して形成されるナノ粒子１ｃを基板２上に堆積する。液滴状のナノ粒子１は基板２表面での反跳が少なく高い堆積率で堆積することができる。 （もっと読む）

【課題】 Cl_２のような腐食性の高いガスを使用して、電子デバイスを製造する場合、通常のY₂O₃溶射膜では、腐食性ガス曝露後の密着力を維持できず、膜剥離が起こる。
【解決手段】0.2〜5.0％のSiO_２を含有するY₂O₃原料を用いてY₂O₃溶射膜を形成することによって、プラズマ耐性を維持したまま腐食性の高いガスに対して腐食しにくく、且つ、密着性も良いY₂O₃ 溶射膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】 多孔質ニッケル皮膜を形成する方法（１０）が提供される。
【解決手段】 この方法（１０）は、ワイヤアーク溶射装置において、選択された成分の２つの消耗電極ワイヤを溶解し噴霧して、溶解され噴霧された材料を形成するとともに材料を基板に向けて皮膜堆積を形成することによって基板に皮膜を堆積させるステップ（１２）であって、選択された成分がニッケルおよび犠牲金属を含むステップと、アルカリ電解質中に陽電位を加えることにより、皮膜堆積から犠牲金属の少なくとも一部を分解して（１４）多孔質ニッケル皮膜を得るステップとを含む。多孔質ニッケル皮膜を含む電極を有する電解セル（４０）が提供される。 （もっと読む）

本発明は紙匹成形機用の静電脱水素子に関する。脱水素子（１０）は、粉末粒子（３４）で製造される溶射塗膜（２６）を有する。粉末粒子（３４）は、主粒子（３６）で構成される凝集塊である。主粒子（３６）の平均サイズは、０．５μｍ未満である。本発明は、紙匹成形機用に設計され静電脱水素子を被覆する方法にも関する。

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