【課題】半導体等の製造におけるプラズマ処理装置（プラズマクリーニング装置、アッシング装置、スパッタ装置）等プラズマを用いる装置に使用する部材はプラズマによるエッチングによる消耗や、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下等の問題があった。
【解決手段】少なくともＳｉ、Ｏ及び、３ａ族元素又は２ａ族とＺｒとから構成された耐蝕性溶射膜が表面にコーティングされた真空装置用部材は、プラズマに対する耐蝕性が高く、パーティクルの発生が少なく、このような耐蝕性部材は、例えば、窒化ケイ素、シリカ及び３ａ族酸化物粉末と、ジルコニア粉末との混合粉末を基材に対して溶射することによって製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 従来では溶射しても実用上の密着力が得られない各種基板材料に対しても、強い密着力を有した溶射膜を得る方法を提供する
【解決手段】 各種基板材料表面に、溶射する材料と本質的に同一の素材である充填材を有した特殊なプライマー層を設け、その上に溶射することにより、基板材料と溶射膜との強い密着力を得ることが出来る （もっと読む）

【課題】 この発明は、防汚皮膜を形成する金属溶射法において、溶射作業性が良好であり、なおかつ、防汚性能が非常に優れている方法を提供するとともに、異種金属腐食を防ぐ処理を簡便、安価そして環境対策も同時に実現できる方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 基材に粗面形成材を塗布し、アーク式溶射機を用いて、ボンディング材料として、錫または錫合金の溶射を行い、重ねて銅または銅合金溶射を行えば、溶射作業性が良好であり、なおかつ、防汚性能が非常に優れた防汚皮膜が得られる。さらに、下地に絶縁塗装を行ってから粗面形成材を塗布することにより、鋼材等と電位が大きく異なる錫合金や銅合金との間に起こる異種金属腐食を防ぐことも可能となる。安全性の高い錫と銅を使用することにより環境対策も実現できる。 （もっと読む）

【課題】適用場面等に応じて所望の性質を有する溶射皮膜を容易に且つ安定して形成することが可能な溶射方法を提供する。
【解決手段】本発明により、気体を供給しながら溶射材を加熱溶融し、同溶融した溶射材を被溶射物に吹き付けて、前記被溶射物表面に溶射皮膜を形成する溶射方法であって、前記供給する気体の酸素濃度を調節すること、前記溶射皮膜として、前記酸素濃度を高めて酸化物の形成を促進した酸化層と、前記酸素濃度を下げて酸化物の形成を抑制した還元層とを、それぞれ所定の厚さでしかも任意の順番で層状に形成することを特徴とする溶射方法が提供される。
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【課題】 外周面が鋳ぐるまれるシリンダライナ等において、表層として形成された金属層とシリンダブロック等との間で、より大きな接合力を生じさせる。
【解決手段】 ライナ外周面６がベース金属相８ａと分散金属相８ｂとからなる不均一系金属層である溶射層８にて被覆されている。このため鋳ぐるみ時に溶湯が分散金属相８ｂ部分から溶射層８内に進入し、凝固後に形成されるシリンダブロックは溶射層８内に疑似植物根状態に入り込んだ状態となり、凝固後にシリンダブロック表面はシリンダライナ２表面に強固に固定された状態となる。こうしてシリンダブロックはシリンダライナ２との間で、単に表層に溶湯を接触した処理では得られない大きな接合力を生じ、更に高い熱伝導性を得ることもできる。 （もっと読む）

本発明は鉄ベース材料からなるシリンダースリーブを被覆する方法に関する。第１層および亜鉛合金からなる第２層を、サーモスプレー法を使用して外部表面に吹き付ける。第１層に合金されたまたは合金されていない銅を使用し、第２層に亜鉛−アルミニウム合金を使用することによりシリンダースリーブと、シリンダースリーブが注入されているシリンダークランク室の良好な金属接合が生じる。 （もっと読む）

【解決手段】溶融金属の１以上の層を孔の開いた非金属基板に適用し、溶融金属を該非金属基板の開いた孔内に浸透させて金属発泡体を形成することによって得られる、多孔性金属発泡体であって、その金属成分は、該孔の開いた非金属基板中に少なくとも部分的には浸透している、多孔性金属発泡体。該孔の開いた金属発泡体は、孔の開いた非金属基板を用意して溶融金属で被覆し、溶融金属が孔の開いた非金属基板の開いた孔内に浸透する方法で製造される。
金属発泡体は、多くの技術分野で使用され得る。 （もっと読む）

【課題】半導体等の製品基板の成膜やプラズマ処理装置内に用いる真空装置の部品において、膜状物質の付着性が高く、しかも異常成長による粒子の脱落のない、長時間の連続使用が可能な優れた部品を提供する。
【解決手段】半導体等の成膜装置及びプラズマ処理装置に用いる真空装置用部品において、表面がセラミック及び又は金属溶射膜で被覆され、該溶射膜の表面にＪＩＳＢ０６０１：２００１及びＪＩＳＢ０６３３：２００１で規定する輪郭曲線要素の平均長さＲｓｍが２０〜７０μｍの範囲、算術平均粗さＲａが８〜１５μｍの範囲で、算術平均うねりＷａが８μｍ以下である表面粗さを有する溶射膜を具備するものは、膜状物質の付着性が高く、しかも異常粒成長による粒子の脱落がないため、長時間の連続使用が可能である。 （もっと読む）

【課題】材料を溶射した表面層の靭性が改善されると同時に、その硬度と機械的強度が大幅に増加し、さらに非常に良好な摩擦特性を有する表面層を熱被覆によって形成する、新しい材料及び方法を提案すること。
【解決手段】本発明は、熱被覆法によって表面層（５）を製造するための酸化アルミニウム及び酸化ジルコニウムを含む酸化物セラミックを基材と、表面層（５）の硬度と靭性を同時に最適化するために酸化クロムを更に含む材料に関する。 （もっと読む）

布又はベルト（１１０）、及び斯かるベルト又はベルトの形成方法であって、基礎支持構造体（１５０）と、少なくともひとつのコーティング（１２０）とを含み、このコーティングは、溶射工程により、適用されるものである。
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【課題】シリカ、酸化鉄その他の微粒子を含む気体を取り扱う回転機械において、ローター等の回転する部品に付着する微粒子の量を抑制すること。
【解決手段】この動翼２３は、表面に被覆層１０が形成される。この被覆層１０は、動翼２３の基材１の表面に形成される溶射層２と、この溶射層２の表面に形成されるフッ素樹脂層５とを含む。そして、溶射層２は、内部に複数の気孔２ａを有する。また、フッ素樹脂層５は、フッ素樹脂４が無機物３を含有するとともに、無機物３はフッ素樹脂４の表面から露出する。 （もっと読む）

【課題】アーク溶射における被膜不良を低減する。
【解決手段】アーク溶射装置１０は、貯蔵部１６、供給機構１４、溶射ガン１２、および、制御部１８を備える。貯蔵部１６には、所定の長さ、かつ、ほぼ直線状のワイヤ２０が多数貯蔵されている。供給機構１４は、貯蔵されているワイヤ２０を、曲げることなく溶射ガン１２に供給する。溶射ガン１２は、ほぼ直線状のワイヤ２０を保持するとともに、その下端が所定位置になるべく位置決めする。そして、ワイヤ２０に高電圧を印加してアークを発生させ、アーク溶射を実行する。 （もっと読む）

体積の大きな構成部品にプラズマコーティングを施すための装置と方法とを提案する。そのために、１つまたは複数のポンプを有する真空チャンバ（３）と、構成部品（１，１７）を前記真空チャンバ（３）内へ搬入するための搬送装置（２）と、前記構成部品（１，１７）と前記真空チャンバ（３）との間にある絶縁部（４）と、高周波発生器（５）を有する発振回路と、前記発振回路の調整可能なキャパシタンスおよび調整可能なインダクタンスと、前記発振回路を前記構成部品（１）に接続するための少なくとも１つの接続部と、前記構成部品（１，１７）用コーティング材料を調製するための、前記真空チャンバ（３）に接続された少なくとも１つのプラズマトーチ（１９）が具備されている。
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【課題】耐食性及び加工性に優れたＺｎ系めっき鋼板と、該鋼板を、めっき浴や浴内ロール等の周辺機器を交換することなく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）鋼板表面に施されためっき層内に、溶射して形成される、粒径が平均円相当径で０．５〜５０μｍの、Ｚｎに比べてイオン化傾向の高い金属及び／又は該金属からなる金属間化合物が、めっき層全体に対して、平均体積％で０．２〜３０％の割合で分散して存在し、かつ、（ｂ）めっき層表面に存在するクレーターの最大深さが、平均めっき層厚の２０％未満であることを特徴とする耐食性及び加工性に優れたＺｎ系めっき鋼板であって、溶融状態のめっき層に、上記金属及び／又は金属間化合物を溶射して製造する。 （もっと読む）

【課題】優れた耐剥離性、耐摩耗性、耐食性を有しつつ、基材に被覆して構造物を形成した場合に、その構造物の熱疲労性応力腐食割れや基材の劣化が生じ難い被覆材料を提供すること。
【解決手段】質量％で、Ｃｒ：０．０１〜２０％、Ｆｅ：５％以下、Ｃｕ：４％以下、Ｍｏ：４％以下、Ｓｉ：１．５〜５％、Ｂ：１〜４．５％、Ｃｏ：１％以下、Ｃ：０．０１〜１．１％、Ｎｂおよび／またはＴｉ：１〜１０％であり、残部がＮｉおよび不可避的不純物からなる被覆材料。 （もっと読む）

基板と、前記基板上に堆積させたセラミック層とを含む構造コンポーネントが提供される。このセラミック層は、セラミック静電放電散逸材料から形成され、電気抵抗率が約１０³〜約１０¹¹オーム・ｃｍの範囲である。
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【課題】溶接補修が困難なニッケルベース超合金から製造されたエアフォイル５２を効果的に溶接補修する。
【解決手段】本発明によると、ニッケルベース超合金から製造されたエアフォイル５２を溶接補修する方法が提供される。本発明の方法には、エアフォイル５２を比較的平滑な表面に機械加工して、エアフォイル５２の破損部分を除去することが含まれる。次いで、ＩＮ―１００などの粉末状の合金材料が、パラズマアーク溶接装置に供給される。溶接部の端部における突然の熱の過渡を排除するように、溶接装置の連続的な二方向の移動７０，７２により、複数の溶接ビード６０，６２，６４，６６をエアフォイル５２の破損部分に沿って堆積させ、それにより、ＩＮ−１００などの敏感な合金に亀裂を生じさせる熱応力を減少させる。 （もっと読む）

【課題】ガイドライナの交換作業の時間を短縮し、線材の送給抵抗を減少させて線材を安定して送給し、形成された皮膜の品質を著しく向上させる。
【解決手段】ガン本体内に２組の線材送給機構を備え、それぞれの線材送給機構が、線材送給機と、線材送給機の線材の送出部に設けられて、線材送給機の線材の送出部側と反対側の内面にテーパ部が形成されたライナ保持部材と、送出された線材を電極の基端部へガイドするガイドライナと、基端部の内面にテーパ部が形成された電極とを備え、ライナ保持部材のテーパ部にガイドライナの基端部が挿入され、電極のテーパ部にガイドライナの先端部が挿入され、ガイドライナが上記２つのテーパ部の間に弓なり形状と成るようにその両端部がそれぞれ挿入されて、その反発力によって、両端部が上記２つのテーパ部にそれぞれ押し付けられて支持される可撓性材料から成るアーク溶射ガン。 （もっと読む）

【課題】本発明は、土木、建築、化学工業など耐食性が要求される分野に用いられる溶射被覆鋼板を大量に製造する方法及び設備列を提供する。
【解決手段】溶射時の鋼板温度を溶射金属の融点の０．３倍以上、１１３０Ｋ以下とし、高速フレーム溶射装置により溶射後、高周波誘導加熱装置により鋼板表面部分を溶射金属の融点の０．５倍以上、０．８倍以下に加熱、好ましくは、加熱中あるいは加熱の前工程又は後工程のいずれかに、鋼板に圧縮と曲げの応力を加える。熱間圧延機の下流側の搬送ライン上に、鋼板に曲げ応力を加える熱間矯正機と前記熱間矯正機の下流側に高周波誘導加熱装置を配置し、前記熱間矯正機の上流側または前記高周波誘導加熱装置の下流側のどちらか一方又は両方に溶射装置を配置し、前記溶射装置、前記高周波誘導加熱装置および前記熱間矯正機間の搬送ラインは鋼板を順逆可能に搬送する機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、土木、建築、化学工業など耐食性が要求される分野に用いられる溶射被覆鋼板を大量に製造する方法及び設備列を提供する。
【解決手段】高周波誘導加熱装置により鋼板表面を５７０Ｋ以上、１１３０K以下に加熱後、溶射装置により、溶射材料を鉄基またはニッケル基の耐食合金とし、溶射被膜を形成し、その後、前記高周波誘導加熱装置により、鋼板表面部分を溶射金属の融点の０．５倍以上、１１３０Ｋ以下に加熱する。熱処理用冷却装置の下流側の搬送ライン上に、搬送方向に沿って順次配置した熱間矯正機、高周波誘導加熱装置、および溶射装置と、前記熱間矯正機、前記高周波誘導加熱装置および前記溶射装置間で鋼板の搬送方向を順逆可能とする搬送機構を備えたことを特徴とする鋼板の製造設備列。 （もっと読む）