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Fターム[4K031DA04]の内容

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Fターム[4K031DA04]に分類される特許

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【課題】ガラス製造装置等の高温装置を構成する白金族貴金属の揮発損失を抑制する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、白金族貴金属からなる高温装置の外表面の揮発防止方法であって、前記高温装置の外表面に、安定化ジルコニアからなる厚さ50〜500μmのコーティング層を溶射により形成する方法である。本発明が有用な高温装置としては、ガラス製造用途における各種の桶、るつぼ、パイプやガラス繊維紡糸用のブッシングの他、単結晶育成用るつぼやるつぼ付帯冶具等が挙げられるも。 (もっと読む)


【課題】摩擦抵抗を確実に高めるために必要な、スプライスプレートの摩擦接合面に施す溶射層の構成要件を明確にし、高力ボルト摩擦接合の接合強度及び寿命を高いレベルで安定させることができるようにすること。
【解決手段】摩擦接合面に金属溶射による溶射層2を形成した高力ボルト摩擦接合用スプライスプレート1において、溶射層2の表面から溶射層2の内部に向かって150±25μmの位置までの部分(表面側溶射層2a)の気孔率を10%以上30%以下とし、かつ、溶射層2の表面から溶射層の内部に向かって150±25μmの位置からスプライスプレート母材3と溶射層2との界面までの部分(界面側溶射層2b)の気孔率を5%以上10%未満とした。 (もっと読む)


【課題】溶滴となった粒子表面の酸化を低減することで、酸化物が少ない溶射皮膜を形成することが可能なプラズマ溶射装置の提供。
【解決手段】陰極40の外周に一次ガス通路11を形成して陰極40の先端部を覆う一次ガスノズル10と、一次ガスノズル10の外側に配置されて二次ガス通路21を形成する二次ガスノズル20と、一次ガスノズル10と二次ガスノズル20との間に、プラズマフレームFの外周部にプラズマフレームFの熱を受けて高温のガス噴射とするための三次ガスを噴射する三次ガス通路31を形成する三次ガスノズル30とを備える。 (もっと読む)


【課題】ワイヤが二次ガスノズルのノズル口の近傍に供給される場合に、ワイヤが本来的に有しているゆがみ癖に関わらず、ワイヤにその弾性限界を超えた二次曲げを行う二次曲げ案内部材を設けることなく、ワイヤ送りを安定させることが可能な小型のプラズマ溶射装置の提供。
【解決手段】陰極40の外周に一次ガス通路11を形成して陰極40の先端部を覆う一次ガスノズル10と、一次ガスノズル10の外側に配置されて二次ガス通路21を形成する二次ガスノズル20と、二次ガスノズル20のノズル口22の近傍へ溶射用のワイヤWを供給するワイヤ通路であり、プラズマフレームFの伸展方向に長い略長方形断面形状を有し、ワイヤWに弾性限界を超えない範囲の曲がりを与えるワイヤ通路50とを備える。 (もっと読む)


【課題】防錆用溶射皮膜が形成されたボルトを所定の締め付けトルクで締め付けた際に、要求される軸力を得ることを可能にする。
【解決手段】防錆用溶射皮膜101b,102b,103bが形成された被締結体100の締結に使用される締結具であって、頭部1aおよびねじ部1cを含む全面に防錆用溶射皮膜10が形成され、少なくともねじ部が1〜10質量%のワックスを含む封孔処理剤により封孔処理されたボルト1と、被締結体100を挟んでボルト1のねじ部1cに締め付けられるナットであり、ねじ部1cと被締結体100側の接触面(座面2b)とを除く全面に防錆用溶射皮膜20が形成されたナット2と、ボルト1の頭部1aまたはナット2と被締結体100との間に配置されるワッシャであり、被締結体100側の接触面3a,4aを除く全面に防錆用溶射皮膜30,40が形成されたワッシャ3,4とを含む締結具である。 (もっと読む)


【課題】補修材料の密着性に優れ、接合部およびその周辺部の耐食性にも優れる溶接部の補修方法を提案するとともに、その補修が施された溶接構造体を提供する。
【解決手段】溶融亜鉛−アルミニウム系合金めっき鋼材の溶接部の上層にAl−Si系合金を溶射して1層目の溶射層を形成し、その1層目の溶射層の上にZn−Al系合金を溶射して2層目の溶射層を形成し、好ましくは、さらに上記溶射層とその周辺部分の上に無機系および/または有機系の防錆処理層を被覆することを特徴とする溶融亜鉛−アルミニウム系合金めっき鋼材の溶接部補修方法。 (もっと読む)


【課題】
本発明の目的は、少ないエネルギー消費・熱負荷で、緻密でバッキングチューブへの密着性が良好な長尺のセラミック溶射円筒ターゲットを製造する方法を提供することにある。
【解決手段】
長尺バッキングチューブを複数の溶射領域に分割して溶射する。 (もっと読む)


【課題】本発明では、良好な耐摩耗性を有するとともに、さらに良好なじん性を有する溶射合金を提供することを目的とする。
【解決手段】Ni(ニッケル)−B(ホウ素)系合金と、金属元素Mとを有する溶射合金であって、前記Ni−B系合金は、重量比で、5〜7%のB(ホウ素)、9〜11%のCr(クロム)、および4〜5%のSi(ケイ素)を含み、前記金属元素Mは、M:B(ホウ素)がモル比で、0.75:1〜1:1となるように含まれ、前記金属元素Mは、W(タングステン)および/またはMo(モリブデン)であることを特徴とする溶射合金。 (もっと読む)


【課題】減耗度を簡便に確認できる遮熱コーティングならびにこれを用いたガスタービン部品およびガスタービンを提供するものである。
【解決手段】本発明にかかる遮熱コーティング21は、部分安定化ジルコニアで構成されるセラミックス層25を有する遮熱コーティング21であって、このセラミックス層25は、厚さ方向に隣り合う層で色が異なる複数の分割層である表層27、第2層29および第3層31によって構成され、分割層は全ての層が部分安定化ジルコニアで構成され、且つ、分割層は色の異なる安定化材を用いて形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 高硬度で耐摩耗性、耐食性、耐熱性に優れ、耐熱衝撃性および靭性よりも、メッキ浴として使用される亜鉛やアルミニウム等の溶融金属に対する耐食性をさらに向上させたサーメット溶射被膜を形成しうる溶射用粉末を提供する。
【解決手段】 重量比にて、B:8.0〜10.0%、Co:8.0〜12.0%、Cr:2.0〜10.0%、W:0.5〜7.0%を含み、残部Moと不可避的不純物から構成され、かつ、MoとBとの合計量が重量比にて75.0〜85.0%、CoとCrとWとの合計量が重量比にて10.5〜25.0%である複合粉末組成物からなることを特徴とする硼化物系サーメット溶射用粉末。 (もっと読む)


【課題】基材基部の金属にさらなる処理をすることなく、縁部が鋭い直角に形成されたチャネルを、構成部品内に形成するための方法を提供する。
【解決手段】構成部品100を作製する方法は、基材110の表面112上に一時的被覆を堆積するステップを含み、基材は中空の内部空間114を有する。方法は、基材の表面に溝132を形成するように、一時的被覆を通って基材を機械加工するステップを含む。溝は基部を有し基材の表面に沿って延びる。方法は、各溝を各中空の内部空間とそれぞれ流体連通して連結するように、溝のそれぞれの基部を通って、のアクセス孔を形成するステップを含む。方法は、溝を充填剤で充填するステップ、一時的被覆を除去するステップ、基材の表面の上に被覆150を配設するステップ、および溝および被覆がともに構成部品を冷却するための多数のチャネル130を画成するように、充填剤を溝から除去するステップを含む。 (もっと読む)


【課題】非常に薄い樹脂基材を破壊することなく、その表面に金属ガラスの溶射被膜層を貫通孔なしで強固に密着形成する溶射方法を提供すること。
【解決手段】厚みが30μm〜1mmである樹脂基材の表面へ金属ガラスを貫通孔なしに溶射する方法であって、フレーム溶射またはプラズマ溶射によって、金属ガラス粉体の少なくとも一部を過冷却液体状態まで加熱して、該金属ガラス粉体を300m/s以上の粒子速度で樹脂基材表面に衝突させて、扁平した金属ガラス粉体を厚みが10μm〜500μmとなるまで積層することにより、アモルファス相の溶射被膜を形成する溶射工程を備え、前記溶射被膜は樹脂基材に対する高い密着性を有し、かつ、その表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする薄い樹脂へ金属ガラスを溶射する方法。 (もっと読む)


【課題】軽量で、耐熱性及び耐摩耗性や基材層と被覆層との接着性に優れた繊維強化プラスチック基複合材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】繊維強化プラスチック基材の表面に下地層及び中間層を介して被覆層を有し、該下地層が亜鉛−アルミニウム擬合金皮膜又は亜鉛合金−アルミニウム擬合金皮膜、該中間層がインバー合金と亜鉛合金の混合皮膜からそれぞれなり、該被覆層がインバー合金皮膜により形成されていることを特徴とする繊維強化プラスチック基複合材料を採用する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に熱遮蔽被覆構造体10を製造する。
【解決手段】プラズマ・トーチ4を有する作業室2を準備し、プラズマ・ガスをプラズマ・トーチ4を介して導入し加熱によりプラズマ・ジェット5を形成し、プラズマ・ジェット5を作業室内に導入された基板3の表面に方向付ける。熱遮蔽被覆を製造するために、プラズマ・トーチ4と基板3との間に電圧を印加してアークを発生させ、基板表面をアークによって清浄化し、アークによる清浄化の後で基板3を作業室内に留め、0.02μm〜2μmの厚さを有する酸化物層11を清浄化された基板表面上に形成し、熱遮蔽被覆12をプラズマ溶射プロセスによって付着させる。 (もっと読む)


【課題】大型化を招くことなく基材を適切に冷却可能な溶射装置を提供する。
【解決手段】
半導体モジュール2の被膜対象形成面2aに溶射によって被膜を形成する際に、保持部材5によって、被膜対象形成面2aを含む半導体モジュール2の一部が冷却水の液面よりも上方に位置付けられるように保持する。これにより、空気等の冷却用気体に対して比熱が大きい冷却水によって半導体モジュール2の冷却でき、空気にて冷却する場合に対して、冷却効率を高めることができるので、保持部材5によって半導体モジュール2を強固に保持固定する必要が生じなくなる。その結果、溶射装置全体としての大型化を招くことなく基材を適切に冷却することができる。 (もっと読む)


【課題】冷却空気孔の目詰まりを防ぐ溶射法を提供する。
【解決手段】入口51及び出口52を有する少なくとも1つの貫通孔5を有する本体1の表面10を被覆する方法であって、出口52が被覆すべき表面10に設けられ、被覆を溶射によって行なう方法において、溶射の際に、貫通孔5に流体を流し、この流体を、貫通孔5の出口52を通じて流出させ、被覆によって生じる貫通孔5の狭搾を実質的に防止する方法が提案される。 (もっと読む)


【課題】アンダーコート層、或いは、セラミックス粒子が食い込んだトップコート層を設けることなく、良好な接着強度を有する溶射皮膜が形成された耐摩耗性の繊維強化複合材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】最外層に溶射皮膜層4を有する耐摩耗性の繊維強化複合材1であって、繊維強化プラスチック基材層2と、繊維強化プラスチック基材層2の表層に積層されたガラス繊維強化プラスチック層3と、ガラス繊維強化プラスチック層3の表層に溶射により被覆された溶射皮膜層4とを有する。 (もっと読む)


【課題】真空成膜装置で内部応力が大きい薄膜を成膜する際に、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止し、装置クリーニングや部品の交換などに伴う生産性の低下や成膜コストの増加を抑える。
【解決手段】Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、W、Ru、Pd、Ir、Pt、Ag、AuおよびInから選ばれる金属元素の単体、もしくは前記金属元素を含む合金または化合物の薄膜を成膜する真空成膜装置の構成部品の製造方法であって、部品本体の表面にCuの含有比率が65〜95質量%の範囲のCu−Al合金からなるCu−Al合金膜を形成する工程と、前記Cu−Al合金膜に1.33×10−3Pa以下の真空雰囲気中で300〜800℃の温度でアニール処理を行う工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】皮膜厚さや封孔処理までの時間管理を強化したり、また過剰な封孔処理および塗装処理を行ったりすることなく、アルミニウム系溶射皮膜の点錆および早期消耗を防止することが可能な溶射皮膜の後処理方法および後処理剤の提供。
【解決手段】アルミニウム系溶射皮膜を形成した後、溶射皮膜に電解質水溶液、または電解質水溶液を含む水性塗料を塗布し、含浸させる。塗布された電解質水溶液、または水性塗料に含まれる電解質水溶液は、溶射皮膜2の空隙部4を通じて含浸し、鉄鋼基材1と溶射皮膜2の界面に到達し、電池を形成し、電解質水溶液がマグネシウム化合物水溶液の場合には、鉄鋼基材1表面に水酸化マグネシウムを主成分とする皮膜3が形成されるので、鉄鋼基材1と溶射皮膜2との間で流れる電流値が小さくなり、酸素が鉄鋼基材1に到達しにくくなるため、点錆の発生が防止され、早期消耗が防止される。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン化合物による腐食と耐プラズマエロージョン性、装置部材を清浄化するために頻発に繰り返される洗浄液に対しても優れた耐食性を示す、半導体加工装置用部材に適用して有用な溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】金属と酸化物とからなるサーメット材料を用いて形成された溶射皮膜の表面に、高エネルギー照射処理して気密再溶融層を設けてなる部材について、成膜の初期に存在する皮膜表面の貫通気孔を消滅させると同時にひび割れを防止して、トップコート(溶射皮膜)の表面を実質的に無気孔で耐食性と耐プラズマエロージョン性に優れるサーメット溶射皮膜にする。 (もっと読む)


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