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Fターム[4K053RA55]の内容

化学的方法による金属質材料の清浄、脱脂 (9,294) | 処理剤 (3,156) | 成分 (2,663) | 有機化合物 (1,164) | Sを含む化合物 (73) | スルホン酸 (43)

Fターム[4K053RA55]に分類される特許

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【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルキルアミンオキサイド0.01〜10重量%、(B)硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(C)スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤0.01〜20重量%、(D)キレート剤0.01〜20重量%を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準(100重量%)として、有機酸(A)を0.5重量%以上25重量%以下含有し、有機酸(A)に対する中和率が100%以上150%以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が80%以上となるように有機酸(B)及び/又は無機酸を含有し、有機酸(A)が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも1種であり、有機酸(B)が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも1種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも1種である、さび除去剤水溶液とする。 (もっと読む)


【課題】金属に付着した金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物を、容易に除去することができ、金属を腐食することなく、かつ特殊な設備を必要としない洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属ルテニウム、酸化ルテニウムまたは有機ルテニウム化合物が付着したステンレス製容器と、0.01重量%〜20重量%の硝酸水溶液とを接触させ、超音波を0.1〜480分間かけることにより、付着物を除去し容器を洗浄する。 (もっと読む)


【解決手段】アルミニウム又はアルミニウム合金表面の酸化皮膜を除去するための除去液であって、銀イオン及び/又は銅イオンと、該銀イオン及び/又は銅イオンの可溶化剤と、水酸化第4級アンモニウム化合物とを含有し、pHが10〜13.5であることを特徴とするアルミニウム酸化皮膜用除去液。
【効果】本発明の除去液は、アルミニウム又はアルミニウム合金の表面に、その侵食を可及的に抑制しつつ、除去液に含まれる銀及び/又は銅化合物に由来する銀及び/又は銅を置換析出することができ、しかも、この銀や銅の置換析出物はアルミニウム又はアルミニウム合金の表面を殆ど侵食することなく低温で、迅速に溶解除去することが可能であるため、アルミニウム又はアルミニウム合金の厚みが非常に薄い場合であっても、アルミニウム又はアルミニウム合金を確実に残存させつつその表面を活性化することができる。 (もっと読む)


【課題】セリア、シリカ微粒子を容易に洗浄除去できる洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)及び(II)
【化1】


(式中、Rは炭素数6〜16のアルキル基であり、R、Rは同一又は異なって炭素数1〜4のアルキル基もしくは、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基である。Rは炭素数1〜6のアルキル基、Rはエチレン基またはプロピレン基、nは1〜3の整数である。)で表される化合物群から選択される少なくとも1種の化合物、有機酸および水を含む洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】アルカリ洗浄剤を用い、スケールの発生を抑えながら銅系金属等の各種の金属を腐食させずに高温で洗浄できるようにする。
【解決手段】浸漬された金属を70℃以上の高温で洗浄可能な洗浄剤は、アルカリ金属ケイ酸塩、カルシウム塩およびスケール分散剤を含む水溶液からなる。この水溶液は、カルシウム塩の濃度が20mg/kg以上に設定されており、また、スケール分散剤の濃度が下記の式(a)で規定される濃度以上でありかつ下記の式(b)で規定される濃度以下になるよう設定されている。
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【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アニオン性ポリマー0.01〜20質量%、(B)キレート剤:0.01〜30質量%、(C)水:40〜99.9質量%を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー(A)は、(A−1)炭素数2〜8のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも1種と、(A−2)スルホ基(SOH)を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基(COOH)を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄時の環境負荷をできるだけ低くし、かつ構造体の破壊のおそれがある片寄った物理的負荷を与えずに、電子部品あるいは微細構造を有する精密加工部品もしくは微細加工用金型等に付着した難洗浄性汚れを除去する。
【解決手段】被洗浄物を水、低級アルコール、または界面活性剤溶液に浸漬し、100MPa〜1000MPaの超高圧の静水圧を当該被洗浄物に付与することによって、難洗浄性汚れを除去する。 (もっと読む)


【課題】
【解決手段】基板の表面から金属キャッピング層の腐食生成物を洗浄するための方法およびシステムが提供されている。一実施形態によると、処理溶液は、界面活性剤、錯化剤、および、pH調整剤を含む。界面活性剤は、ウエハ表面を湿潤を改善し、キャッピング層のさらなる腐食を抑制するよう構成される。錯化剤は、基板表面から脱着した金属イオンと結合するよう構成される。pH調整剤は、基板表面からの腐食生成物の脱着を促進するために、pHを所望のレベルに調整するよう構成される。 (もっと読む)


【課題】特に、金属加工後のアルミニウム及びアルミニウム合金に対して、良好な耐食性を有すると共に、新生面の変色を防止し、かつ防錆性及び消泡性に優れる水溶性洗浄液を提供する。
【解決手段】(A)炭素数8〜18のアルキル基を有するジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、炭素数8〜18のアルキル基を有するナフタレンスルホン酸ナトリウム、炭素数15〜18のアルキル硫酸ナトリウム、及び炭素数8〜18のオレフィンスルホン化物のナトリウム塩の中から選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする水溶性洗浄液である。 (もっと読む)


【課題】引火性が無く危険物に該当しない安全で取扱性の良好なものであって、保管上又は使用上において、様々な法的規制の適用から免れることができ、非常に簡単かつ便利に使用することが可能であると共に、発錆や排水の問題もなく、しかもこれまでにない優れた洗浄力を発揮し得る洗浄用溶剤組成物を提供する。
【解決手段】ドデシルベンゼンスルホン酸を0.1重量%〜60重量%、及びノルマルプロピルブロマイドを40重量%〜99.9重量%、含有するものである。又は、ドデシルベンゼンスルホン酸を0.1重量%〜60重量%、ノルマルプロピルブロマイドを40重量%〜99.9重量%、並びに、1種又は2種以上の有機溶剤からなる引火点20℃以上の希釈剤を0重量%〜89.9重量%、含有するものである。 (もっと読む)


【課題】未焼鈍鋼板の熱間プレス後の溶接性を高位に維持できる、熱間プレス鋼板の製造方法の提供。
【解決手段】未焼鈍鋼板を、その表面に酸もしくはその塩を含む水溶液を接触させる化学処理またはその表面を物理的に処理する物理処理に供して、表面処理鋼板を得る、前処理工程と、前記表面処理鋼板の表面に高温酸化防止皮膜を形成して皮膜付き鋼板を得る、皮膜形成工程と、前記皮膜付き鋼板を熱間プレスし、電気抵抗が低い熱間プレス鋼板を得るプレス工程と、を具備する熱間プレス鋼板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】例えば、ニッケルを含むめっき処理が施された青銅、黄銅等の銅合金製の水道用バルブ、給水給湯用バルブ、管継手、ストレーナ、水栓金具、ポンプ用品、水道メーター、浄水器、給水給湯器、或いはその他の接液器材において、水道水などの流体が接液しても、ニッケルが溶出することのない銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法及びニッケル溶出防止用保護膜形成剤並びにニッケル溶出防止用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】銅合金製接液器材にニッケルを含むめっき処理を施したニッケルの溶出防止方法において、接液器材の少なくとも接液面に、ワックスを含有する保護膜形成成分とこの保護膜形成成分を水に溶解させる溶剤成分を含んで成る保護膜形成剤を施して保護膜を形成し、この保護膜により、ニッケルの溶出を抑制するようにした銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法である。 (もっと読む)


【課題】超音波を用いてアルミニウム基体表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能な洗浄方法、洗浄装置を提供することにあり、更に、異常成長の原因が少ないアルミニウム基体洗浄方法、及びそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも脱脂工程およびリンス工程を有する洗浄工程を有するアルミニウム基体を洗浄する洗浄方法において、該脱脂工程においては20kHz以上39kHz以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも1つの脱脂槽の洗浄液に印加し、該リンス工程においては100kHz以上200kHz以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも1つのリンス槽の洗浄液に印加することを特徴とする基体洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ポリエーテルスルホネート構造を有する新規な界面活性剤、及びその界面活性剤を製造するための改良された方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記目的は、ヘッドグループ(head group)としてプロパノニルスルホン酸基を持つポリエーテルスルホネート構造を有する界面活性剤、そのような界面活性剤の製造方法、及び第三鉱油抽出を含む様々な目的のためのそれらの界面活性剤の使用方法により達成される。 (もっと読む)


半導体材料処理装置のアルミニウムめっき構成要素が開示される。構成要素は、基板と、基板の少なくとも1つの表面に形成された任意の中間層とを含む。中間層は、少なくとも1つの表面を含む。基板上または任意の中間層上に、アルミニウムめっきが形成される。アルミニウムめっきが上に形成される表面は、導電性を有する。任意で、アルミニウムめっき上に陽極酸化層を形成することができる。アルミニウムめっきまたは任意の陽極酸化層は、構成要素のうちの処理にさらされる表面を備える。1つまたは複数のアルミニウムめっき構成要素を含む半導体材料処理装置、基板を処理する方法、およびアルミニウムめっき構成要素を作製する方法も開示される。 (もっと読む)


【課題】 食品加工製造工程において、アルカリ性物質を使用することなく、タンパク質汚れおよび油脂汚れの両方を洗浄することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩(P)および/または下記一般式(2)で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩(Q)を必須成分とすることを特徴とする洗浄剤を使用して、食品加工製造設備を洗浄する。
HS−(CH2m−SO3-・B+ (1)
HS−(CH2n−COO-・B+ (2)
(式中、mは1〜24の整数、;nは1〜24の整数;B+はプロトンまたは塩基が解離したカチオンを表す。) (もっと読む)


【課題】本発明は、強力な脱脂能力があり、かつアルミニウムの溶解を抑えることができるアルミニウム又はその合金表面の前処理方法を提供することを目的とする。また、本発明は、さらに前処理後に行なう表面処理、特に前処理による表面状態の影響を受け易い3価クロム化成処理の外観や耐食性を改善することができるアルミニウム又はアルミニウム合金表面の前処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によると、アルミニウム化合物を0.1〜10g/L含有し、PHが8〜12であるアルミニウム又はアルミニウム合金用アルカリ脱脂洗浄剤が提供される。また、当該アルカリ脱脂洗浄剤を用いたアルミニウム又はアルミニウム合金の前処理方法が提供される。 (もっと読む)


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