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Fターム[4M112DA15]の内容

圧力センサ (26,807) | 製造工程 (5,073) | 素子本体の製造工程 (5,065) | ビーム照射、フォトリソグラフィー (231)

Fターム[4M112DA15]に分類される特許

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【課題】検出感度を向上させることが可能な物理量センサーの提供。
【解決手段】加速度センサー1は、第1凹部11が設けられたベース基板10と、第1凹部11の上方に配置され、支持部23a,23bにより第1凹部11の深さ方向に揺動可能に支持されたセンサー部21と、を備え、センサー部21は、支持部23a,23bを境に第1部分21Aと第2部分21Bとに区分され、第1部分21A及び第2部分21Bに可動電極部を有し、且つ、第1部分21Aよりも質量が大きい第2部分21Bには、少なくとも先端側に貫通孔24が形成され、ベース基板10は、第1凹部11における可動電極部に対向する位置に固定電極部12,13を有し、且つ、固定電極部12,13よりもセンサー部21の先端寄りであって、センサー部21の先端側に対向する部分に、第1凹部11よりも深い第2凹部14が設けられている。 (もっと読む)


【課題】複数の基板を積層して積層体を形成する場合において、ウェーハ上にマーカーを設けることなく基板同士を位置合せして重ね合わせることが可能な積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】圧力センサーの製造方法は、感圧素子層10、ベース層の接合面に傾斜部208、306を形成する外形形成工程と、傾斜部208、306を用いて位置合せを行いながら、感圧素子層10、ダイアフラム層20、ベース層を重ね合わせて接合面を接合剤40で接合する接合工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】サポート部材を用いてマイクロフォンを形成するためのプロセスを提供すること。
【解決手段】マイクロフォンを形成するための方法は、バックプレート、およびウェットエッチングの犠牲層の少なくとも一部分の上の可撓性の振動板を形成する。この方法は、ウェットエッチングのレジスト材料を追加し、ウェットエッチングのレジスト材料は、振動板を支持するように、振動板とバックプレートとの間に配置される。ウェットエッチングのレジスト材料の一部は、振動板とバックプレートとの間には配置されない。方法はその後、上述の追加の間に追加されたウェットエッチングのレジスト材料の一部を除去する前に、犠牲材料を除去する。その後、ウェットエッチングのレジスト材料は、犠牲材料の少なくとも一部が除去された後に、実質的にその全体が除去される。 (もっと読む)


【課題】高い気密性を有する中空パッケージを実現する。
【解決手段】中空パッケージ(1)は,第一基板(10)と,第二基板(18)と,第一基板と第二基板との間に形成され第一基板と第二基板とに両端面が密着している樹脂からなるスペーサー(12)と,スペーサーの側壁面と第一基板と第二基板とに続いて密着している金属膜(14,16)と,を備え,第二基板とスペーサーとの間の一部に金属膜の一部が入り込んでいる。 (もっと読む)


【課題】小型化及び検出精度の向上が可能な物理量センサーの提供。
【解決手段】物理量センサー1は、ベース基板2と、ベース基板2の第1主面2aに設けられた固定部31,32と、連結部34,35と、可動部33と、可動部33に設けられた可動電極指361〜365と、ベース基板2の第1主面2aに設けられ、且つ、可動電極指361〜365に対向して配置された固定電極指381〜388と、を備え、固定電極指381〜388は、可動電極指361〜365の一方の側に配置された第1固定電極指382,384,386,388と、他方の側に配置された第2固定電極指381,383,385,387と、を有し、第1固定電極指(382など)は、ベース基板2の第1主面2aに設けられた配線41に接続され、第2固定電極指(381など)は、貫通電極471を介してベース基板2の第2主面2bに設けられた配線42に接続されている。 (もっと読む)


【課題】本発明に係る静電容量型の物理量センサは、センサ特性の低下を招くことなく、小型化あるいはセンサの感度を向上させる物理量センサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】物理量センサは、フレーム部と、フレーム部の内側に配置された錘部と、錘部とフレーム部とを接続する可撓部と、を備えた半導体基板と、フレーム部の一方の側に接合された第1支持基板と、フレーム部の他方の側に接合された第2支持基板と、第1支持基板と第2支持基板の少なくとも一方に設けられ、第1支持基板又は第2支持基板の一方の側と他方の側を導通する配線用端子と、第1支持基板の面上に設けられ、錘部と対向する第1電極と、第2支持基板の面上に設けられ、錘部と対向する第2電極と、を備え、フレーム部には前記フレーム部の一方の側と他方の側を導通する貫通配線部が配設され、貫通配線部と前記配線用端子とは電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】実装時の応力緩和を達成しつつ、機械的強度を保ち、かつ圧電デバイスの小型化にも適した圧電デバイスを提供する。
【解決手段】枠部30と枠部30の内周側に配置された圧電振動片22とを有する圧電振動基板20と、圧電振動基板20の一方の主面と対向するように配置され、枠部30に接合された第1基板12と、圧電振動基板20の他方の主面と対向するように配置され、枠部30に接合された第2基板40と、を備え、圧電振動基板20には、枠部30の外周の圧電振動片22を挟んで対向する端部に夫々配置された接続部32,36の一辺を二分するように切り欠くスリットが設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】センサー部やベース基板の損傷を抑制しつつ、製造時などにおけるベース基板とセンサー部との貼り付きを回避可能な物理量センサー、および物理量センサーの製造方法の提供。
【解決手段】物理量センサー1は、肉薄部6aおよび肉厚部6bが設けられたベース基板6と、ベース基板6の肉薄部6aの上方に揺動可能に配置されたセンサー部4と、を有し、ベース基板6には、平面視でセンサー部4の端部と重複する肉薄部6aの少なくとも一部に導電膜9,10が設けられ、導電膜9,10が、肉厚部6bの表面の少なくとも一部まで延びていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】圧力センサと高精度の力学量センサとが最適にモジュール化されて、各力学量センサの性能がモジュール化に伴い低下することのない安価な力学量センサ装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】圧力を検出する第1力学量センサR1の第1力学量検出部M1と第2力学量センサR2の第2力学量検出部M2とが、第1の基板10に変位可能な状態に形成され、第2の基板20が貼り合わされて第1空間K1と第2空間K2が互いに連通せずに形成されてなり、第1の基板10がSOI基板からなり、SOI層3からなる一部の半導体領域Sで第1力学量検出部M1と第2力学量検出部M2がそれぞれ構成されてなり、第2力学量検出部M2が、第2可動半導体領域S2aと第2固定半導体領域S2bの対向する面の静電容量の変化を測定して、第2力学量を検出する力学量センサ装置100とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、測定誤差が小さいと共に気密性に優れる物理量センサを提供することを目的とする。
【解決手段】第1の基材21と、第2の基材31と、可動部3及び枠体部5を備える機能部と、可動部3の変位を検出する検知部とを有し、第1の枠体部5aが第1の封止層23を有し、第2の基材31の第1の封止層23と対向する位置に第2の封止層33が形成され、第1の封止層23が第2の封止層33と対向する面に第1の接合面と第2の接合面とを有し、前記第1の接合面が前記第2の接合面よりも第2の基材31側に位置するように第1の封止層23と第2の封止層33とが接合されてなる物理量センサ1。 (もっと読む)


【課題】圧力センサなどのデバイスの製造工程中に空洞内の上下のシリコン面の固着がない半導体基板およびその製造方法を提供する。また、精度良い小型のダイアグラムを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】SON構造101のダイアフラム100を有するシリコン基板1およびその製造方法において、SON構造101を構成する空洞2内の下側のシリコン面3に凸状の島4を形成する。半導体基板の表面に深さの異なるホール群を形成し、高温アニール処理することにより一つの大きな空洞を形成する。 (もっと読む)


【課題】小型で信頼性の高いセンサーデバイス、及び、その製造方法を提供する。
【解決手段】センサーデバイス1は、第1の面10aに第1の電極11を有する半導体装置としてのICチップ10と、基部21、前記基部21から延伸された振動部を有し、第1の面10aと対向する第2の面20aに第2の電極としての引き出し電極29を有する振動片としての振動ジャイロ素子20と、を備えている。第1の面10aには、絶縁樹脂からなり第1の電極11と配線36を介して電気的に接続された第3の電極37の少なくとも一部を露出させる開口部32aを有する筒状支持部32が設けられ、第1の面10aおよび開口部32aにより形成された凹部に導電性接着剤98が埋設され、引き出し電極29に設けられたバンプ12が凹部内に配置されている。 (もっと読む)


【課題】圧力センサーの小型化を可能とする。
【解決手段】圧力センサーの製造方法は、基板の一つの面の一部の上方に、第1の膜を形成する工程(a)と、第1の膜の上方と基板の第1の膜を囲む領域の上方とにまたがる第2の膜を形成する工程(b)と、第2の膜に貫通孔を形成することにより、第1の膜の一部を露出させる工程(c)と、第1の膜をエッチングする工程(d)と、第2の膜の貫通孔を封止する工程(e)と、基板の第1の膜がエッチングされた領域の上方に位置する第2の膜の上方に、歪みセンサー膜を形成する工程(f)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の一方の面から形成することができる圧力センサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の圧力センサ1の製造方法においては、図4A〜Cに示すように、p型半導体柱7A、7Cを4方向に等分且つ外側又は内側にずらして配置し、そのp型半導体柱7A、7Cの上部に重なるように環状のn型半導体拡散層5を形成し、その環状のn型半導体拡散層5及びp型半導体柱7A、7Cのn型半導体拡散層5との重複部分をエッチングして、環状溝4で囲まれたメサ部3及び4個のブロック状のp型半導体部6A、6B、6C、6Dを半導体基板2の表面側に形成した。 (もっと読む)


【課題】センサデバイスと基板との間に発生する寄生容量を従来よりも抑制することができるとともに、センサデバイスと基板との電気的な結合を切り離すことによるセンサデバイスと基板との間の電気絶縁性を従来よりも向上することのできる三次元構造体を提供する。
【解決手段】三次元構造体100は、第1の基板1と、第1の基板1の一方の面に形成された絶縁体からなる多孔層2と、多孔層2において第1の基板1が形成されている側の面と反対側の面に形成された第2の基板3とを備え、多孔層2における各孔2aの積層方向に対する断面形状が、正六角形状の孔2aを複数個並べたハニカム形状を有し、多孔層2の厚さは、1μmよりも大きくなっている。 (もっと読む)


【課題】同一面に極性等の信号の異なるパッド電極を配置した場合であっても、パッド電極間の短絡を防止することを可能とする圧電デバイス及び圧電デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】圧力センサー1の感圧素子層100は、一辺を二分するように切り欠くスリット126が設けられ、一方の主面側であってスリット126により隔離された位置に夫々設けられ、スリット126により一対の接続部が分離して配置され、前記一対の接続部は少なくとも一部がダイアフラム層200よりも外側へ露出しており、一対の接続部の一方の主面側に夫々設けられた互いに信号の異なる第1パッド電極34、第2パッド電極36と、前記一対の接続部の一方に設けられ厚さ方向に貫通する貫通孔134と、貫通孔134の内部に設けられた導通手段135とを備え、前記一対の接続部の他方の主面に設けられた引出し電極109は、導通手段135により引出し電極109と極性が同じ第1パッド電極34とを電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】温度変化率の増大を抑制することができる圧力検出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】圧力検出素子の製造方法は、以下の工程を備えている。主表面1a側に凹部4を有する第1の基板1に、第1の基板1の凹部4を覆うように主表面1a側に積層された第2の基板2が接合される。積層方向から見て第2の基板2の凹部4と重なる部分に、第2の基板2の歪みを検出するための歪検出素子5が形成される。歪検出素子5に接するように電気配線7が形成される。電気配線7が形成された後に、歪検出素子5の電気配線7と接する箇所が還元されるように水素雰囲気で熱処理される。熱処理の終了時における水素分圧は0.4気圧以下である。 (もっと読む)


【課題】 特に、動作空間を囲む枠体と対向基板とを接合する金属接合部の腐食を防止しやすい構造のMEMSセンサ及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 機能層10には、動作領域15と外部領域16とを区画する枠体14とが形成される。前記枠体14と支持基板1間は第1の絶縁層3aを介して接合される。枠体と配線基板との間には、枠体の外周側面から内側に向けて延出する横方向溝部18が形成される。また横方向溝部よりも内側では傾斜側面14fを介して前記横方向溝部18での間隔よりも近接する前記枠体と前記第2の部材との対向面間が動作領域の全周を囲む金属接合部30aを介して接合されている。傾斜側面14fの傾き角度θ1は、鈍角である。そして横方向溝部18内にて現れる金属接合部30aの外周表面が保護絶縁層41により覆われている。 (もっと読む)


【課題】この発明は、段差などを設けて勘合部保護を行い、気密封止性能が得られるセンサー素子を提供するものである。
【解決手段】主面上にダイヤフラムが構成される第1の基材と、前記第1の基材の反ダイヤフラム面側に配設される第2の基材と、前記第1の基材の前記ダイヤフラム直下に設けられるキャビティと、前記キャビティを気密封止するため前記第1の基材と前記第2の基材との接合位置に設けられる勘合部と、前記勘合部に設けられ、前記第1の基材と前記第2の基材との勘合状態を保護する段差部とを備えたものである。 (もっと読む)


【課題】ジャイロメータは、基板と、基板の上に懸架された慣性質量部(2)であって、励振部(6)および検出部(8)を含む慣性質量部(2)と、前記慣性質量部(2)の平面内に含まれる、励振部(6)を少なくとも1つの方向(X)に移動させる手段と、前記質量部の平面の外側での前記検出部(8)の移動を検出する静電容量検出手段とを含む。
【解決手段】前記静電容量検出手段は、前記検出部(8、108)と共に可変コンデンサを形成するように、基板に面して位置する検出部(8)の上に配置された、少なくとも1つの懸架電極(16)を含み、前記電極(16)は、慣性質量部(2)を貫通する少なくとも1つの柱状体(22)によって、前記検出部(8)の上に保持される。 (もっと読む)


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