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Fターム[5E339BE11]の内容

プリント配線の製造 (8,867) | 導体層の不要部分の除去手段 (1,023) | エッチングによるもの (889)

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【課題】絶縁層に対して強固に密着した微細な配線導体を有する配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】絶縁層1の表面に算術平均粗さRaが300nm以下の粗化面1aを形成し、次に粗化面1aに無電解銅めっき層2を被着させ、次に無電解銅めっき層2の表面を黒化処理し、次に黒化処理された表面にドライフィルムレジスト3を貼着するとともに配線導体6のパターンに対応する開口を有するように露光および現像してめっきレジスト層3Aを形成し、次にめっきレジスト層3Aの開口内の無電解銅めっき層2上に電解銅めっき層5を配線導体6に対応するパターンに被着させ、次に無電解銅めっき層2上からめっきレジスト層3Aを剥離し、次に電解銅めっき層5および無電解銅めっき層2を、配線導体6のパターン間の無電解銅めっき層2が消失するまでエッチング処理することにより配線導体6を形成する。 (もっと読む)


【課題】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、連続薄膜化処理によって光架橋性樹脂溶解量が増加した場合にも、現像能力および溶解能力を一定に維持することができる方法を提供する。
【解決手段】光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法において、工程(a);基板上に光架橋性樹脂層を形成する工程、工程(b1);無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、工程(b2);無機アルカリ性化合物とアセチレン基を中央に持ち、左右対称の構造をした非イオン性界面活性剤とを含み、pH5〜10である水溶液で処理する工程を含むことを特徴とする光架橋性樹脂層の薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】 回路パターンを良好なファインピッチで形成することができるプリント配線板用回路基板の形成方法を提供する。
【解決手段】 プリント配線板用回路基板の形成方法は、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含み、白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である被覆層を表面に備えた銅箔又は銅層と、樹脂基板との積層体を準備する工程と、積層体の被覆層表面にレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンを形成した積層体の被覆層表面を、FeCl3を1.5〜4.1mol/L、及び、HClを0〜2.0mol/L含むエッチング液を用いてエッチングする工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】波長350nm〜410nmの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)下記一般式(1)等で表されるN,N,N’,N’−テトラアリールベンジジン誘導体を含有する感光性樹脂組成物。


(但し、式中のR1〜R4はそれぞれ独立して炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、ハロゲン原子、又はアミノ基を表す。) (もっと読む)


【課題】レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。
【解決手段】基板10上に、レーザ光を用いて金属層30のパターンを形成する金属パターン付き基板の製造方法であって、表面に前記金属層が形成された基板を用意する工程と、前記金属層上に、前記金属層と異なる金属材料から構成され、前記レーザ光に対する光吸収率が前記金属層と異なるアシスト層40を形成し、前記基板上に金属の積層体50を形成する工程と、該積層体にレーザ光81を照射し、該積層体のレーザ光照射部位を除去することにより前記金属層をパターニングし、金属パターンを形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】銅回路が形成されたフレキシブルプリント配線板に積層した光導波路を、曲げても光導波路に亀裂が入らないフレキシブルプリント配線板、光電気配線板及びそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】フレキシブル基材に銅回路が形成されたフレキシブルプリント配線板において、銅回路材料が圧延銅箔であり、該銅回路材料の弾性率がフレキシブル基材の1.2倍以下であることを特徴とするフレキシブルプリント配線板、該フレキシブルプリント配線板に光導波路を積層してなる光電気配線板、並びに、フレキシブル基材に圧延銅箔を積層し、銅回路を形成するフレキシブルプリント配線板の製造方法であって、圧延銅箔を250〜350℃に熱処理して、その弾性率を4000〜6000Mpaとする工程を有するフレキシブルプリント配線板及び光電気配線板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】処理速度を大きく変えることなく薄膜化後の厚みが調整可能なドライフィルムレジストの薄膜化処理装置を提供する。
【解決手段】少なくとも連続した2つ以上の薄膜化処理ユニット1,2を有するドライフィルムレジストの薄膜化処理装置。基板上のドライフィルムレジストを薄膜化する装置であり、微細な導体パターンを形成するためには、レジスト膜厚を薄くする必要があり、処理時間が長くなる傾向にある。処理ユニットを複数有することで、薄膜化処理速度を自由に設定することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】安全に銀を処理することができ、且つ銀の導体パターンを形成する場合に、所望のパターンどおりの形状であって且つパターンサイドの形状を良好にすることができる銀処理剤、銀の処理方法および導体パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】ハロゲンイオンと、銅および/または鉄イオンと、イミダゾール、1位、2位または4位の炭素または窒素原子に炭素数1−4のアルキル置換基を有するイミダゾール化合物及び1,2−ジアルキルイミダゾールからなる群より選ばれた少なくとも1種とを含むことを特徴とする銀処理剤、銀処理方法、およびこれらを使用する導体パターンの形成方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】バンプや配線などの導電部を容易に形成する。
【解決手段】基材10上にフォトレジスト20,22を形成する工程と、フォトレジスト20,22の一部に、開口の下部における開口幅が前記開口の上部における開口幅よりも広い開口部24を形成する工程と、基材10のフォトレジスト22から見た露出面上に導電部26を成膜する工程と、フォトレジスト20,22、及びフォトレジスト22上の導電部26をそれぞれ除去し、開口部24内の導電部26を残す工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ドライフィルムレジストを均一に薄膜化することが可能なドライレジストの薄膜化処理方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け、水洗処理を行った後、無機アルカリ性化合物の含有量が5〜20質量%のアルカリ水溶液によって薄膜化処理することを特徴とするドライフィルムレジストの薄膜化処理方法。 (もっと読む)


【課題】レジスト形状、テント信頼性及び剥離性の全てがバランス良く優れており、プリント配線の高密度化及びプリント配線板製造の自動化に有用な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントの提供、並びに、当該感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用い、プリント配線の更なる高密度化及びプリント配線板製造のより効率的な自動化を可能とするレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有し、エチレングリコール鎖及びプロピレン鎖を有するビスフェノール型の光重合性化合物、並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、(A)成分としてのバインダーポリマーが2以上のバインダーポリマーからなるもの、及び/又は、2.5〜6.0の分散度を有する感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】一枚の基板10から作製できる製品の数を増加させ、生産効率を向上させるプリント配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基材11の両主面に導電層12が形成された基板10の一方主面に、基板10の外縁Pよりも外側にキャリアフィルム20の外縁Qが位置するように、キャリアフィルム20を張り付ける工程と、基板10の他方主面に、基板10の外縁Pよりも外側にレジスト層30の外縁Rが位置するとともに、キャリアフィルム20の外縁Qよりも内側にレジスト層30の外縁が位置するように、レジスト層30を形成する工程と、レジスト層30が形成された基板の導電層12の所定領域をエッチング処理により除去して回路パターン41を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 レジスト形状、テント信頼性及び剥離性の全てがバランス良く優れており、プリント配線の高密度化及びプリント配線板製造の自動化に有用な感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供すること、並びに、当該感光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用い、プリント配線の更なる高密度化及びプリント配線板製造のより効率的な自動化を可能とするレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。
【解決手段】 (A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する光重合性化合物並びに(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物であって、(A)成分としてのバインダーポリマーが2以上のバインダーポリマーからなるもの、及び/又は、2.5〜6.0の分散度を有するものであり、(B)成分としての光重合性化合物がポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートを含むものである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】高密度な配線パターンを形成して、確実に導電性ペーストによる層間接続を行うことができる回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】基板11の一方の側の銅箔12の表面にマスキングテープ15を貼り付ける。マスキングテープ15及び銅箔12に開口部15a,12aを形成し、開口部12aに連通して、基板11にビアホール16を形成する。ビアホール16内に導電性ペースト18を充填し、マスキングテープ15を剥離して、導電性ペースト18を熱プレスする。ビアホール16の導電性ペースト18を押圧してリベット状に形成し、表面にエッチングレジスト19aを設ける。ビアホール16上のエッチングレジスト19aの大きさを、銅箔12による所望のランド部20の大きさよりも小さく形成する。エッチング時に、ビアホール16周辺の広がり部18aについて、その周縁部をエッチングにより除去するとともに、一部を残してエッチングを終了する。 (もっと読む)


【課題】カルボン酸を含有させることにより、感度が高く、良好なレジストパターン形状が得られ、かつテント膜強度が強く、高精細で高アスペクト比のパターンを形成可能なパターン形成材料等の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び分子量が180〜2,000のモノカルボン酸化合物を少なくとも含む感光性組成物を用いて形成された感光層を有し、モノカルボン酸化合物が構造式(1)及び構造式(1)のXに芳香族基又は複素環基が結合した構造のいずれかで表される基を含むパターン形成材料である。


Xは−N(R)−を表し、Rはエステル構造を含む構造及びアミド構造を含む構造のいずれかを表す。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、基板上に任意の厚みの多段化樹脂構造体を簡便に形成する方法を提供することである。また、薄い段も安定に形成することのできる多段化樹脂構造体の形成方法を提供することである。さらに、プリント配線板の製造においては、配線部では薄く、孔部では厚い多段化レジスト層を簡便に形成する方法を提供することである。
【解決手段】基板上の樹脂構造体形成方法において、a)基板上に第一の感光性樹脂層をラミネートする工程、b)第一の感光性樹脂層を薄層化する工程、c)第一の感光性樹脂層にパターン露光を行う工程、d)第一の感光性樹脂層上に第二の感光性樹脂層をラミネートする工程、e)第二の感光性樹脂層の上からパターン露光を行う工程、f)未露光部の感光性樹脂層の除去を行う工程、をこの順で含むことを特徴とする樹脂構造体形成方法。 (もっと読む)


本発明は、ドライフィルムフォトレジストに関する。具体的に、本発明に係るドライフィルムフォトレジストは、支持体フィルムを除去した状態での露光工程の実施が可能なので、支持体フィルムによる露光効果の悪影響を防止することにより解像度を向上させることができる。しかも、樹脂保護層が存在する状態で露光を実施しても、樹脂保護層による透明性の低下または現像速度の低下が発生しないため、高解像度を達成することができる。
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【課題】サブトラクティブ法による導電パターンの作製方法において、光架橋性樹脂層の厚みが大きい場合や光溶解速度が遅い場合にも、より短時間で光架橋性樹脂層を均一に薄膜化できる方法を提供する。
【解決手段】アルカリ水溶液による光架橋性樹脂層の薄膜化処理が、(1)アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる少なくとも1種の無機アルカリ性化合物を5〜20質量%含む水溶液で処理する工程、(2)アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ケイ酸塩から選ばれる少なくとも1種の無機アルカリ性化合物を含むpH5〜10の水溶液で処理する工程、(3)処理後の光架橋性樹脂層表面を水洗後、水滴を除去する工程をこの順に含み、工程(3)の前に工程(1)と工程(2)を少なくとも2回以上繰り返し連続して行うことを特徴とする導電パターンの作製方法。 (もっと読む)


【課題】LDI露光方式を用いて積層基板を製造する際に、積層による位置ずれの累積を抑えて、製品の歩留まりを向上させることができる積層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板12を挟んで一方の側のランド部14と接続するビアホール15、及び他方の側のランド部14を形成する。フレキシブル基板等の絶縁基板12を挟んで、一方のランド部14に対する他方のランド部14の、所定の基準位置からのずれ量に対して、前記ずれ量を減少させる方向に、他方のランド部14の位置を移動させる位置補正を行って、レーザ光による回路パターンの描画を行う。この後、絶縁基板12を挟んで、一方の側のランド部14と接続するビアホール14、及び他方の側のランド部14を形成する。 (もっと読む)


【課題】高感度で且つホールドタイムによる感度低下(すなわち感度変化)が少ない、すなわち保存安定性が良好な感光性樹脂積層体を提供する。また、該感光性樹脂積層体を用いて、基板上に感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を露光及び現像することを含むレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】支持体フィルムと、感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層と、保護フィルムとを少なくとも含む積層体であり、該保護フィルムが、OH基の両隣にそれぞれ独立に水素又は炭素数1〜6のアルキル基を有する4−フェノール構造を含む酸化防止剤を含有し、該酸化防止剤のフェノール当量が3.1×10-3以下であり、該保護フィルム中の該酸化防止剤の含有量が、1ppmより多く3000ppm以下である、感光性樹脂積層体。 (もっと読む)


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