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Fターム[5F031CA09]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | 可撓性基板,フィルム (101)

Fターム[5F031CA09]に分類される特許

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【課題】フィルムを連続露光する際のアライメントマークの形成が容易であり、フィルムの蛇行を精度良く補正して、安定的に露光できるフィルム露光装置及びフィルム露光方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材20の幅方向の両側のフィルム基材送給用領域の少なくとも一方に側部露光材料膜を形成し、アライメントマーク形成部14により、露光光を照射してアライメントマーク2aを形成し、このアライメントマーク2aを使用して、フィルム蛇行を検出してマスク12の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】ガスや水蒸気の透過を略100%ガード可能であり、しかも柔軟性に優れたフレキシブルガラス基板の製造方法及びフレキシブルガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板1の一の面に製品サイズに切断するための切断溝Dを形成し、切断溝Dが形成されたガラス基板1の一の面に支持体3を仮着し、ガラス基板1の他の面をエッチング処理してガラス基板1を切断溝Dの底に達するまで薄肉化し、このエッチング処理後の他の面にフィルム基材5を貼合し、ガラス基板1の一の面に仮着された支持体3を剥離する。 (もっと読む)


【課題】基板を反転させるとともに、搬送方向に対する上記基板の配置を変更して、タクトタイムを短くすること。
【解決手段】本発明の基板搬送機構または偏光フィルムの貼合装置における基板支持部を備えた反転機構は、長方形の基板5を長辺または短辺が搬送方向に沿った状態にて搬送する第1基板搬送機構61と、上記基板を短辺または長辺が搬送方向に沿った状態にて搬送する第2基板搬送機構62とを備える基板搬送機構において、上記第1基板搬送機構61にて搬送された上記基板5を支持する基板支持部66a、66bに連結した基板反転部67の反転動作により、上記基板支持部に支持された上記基板5を反転させるとともに、配置を変更して第2基板搬送機構62に配置するように構成されている反転機構65を備えている。 (もっと読む)


【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット50は、ベース51の盤面51a上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース41は、盤面51aに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔52と、盤面51aに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔53と、ベース51の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔52から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路54と、を備えている。ここで、圧損回路54は、水平方向に曲がる曲がり部64を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。 (もっと読む)


【課題】貼り合わされる2つ基板間の面間距離を精度よくコントロールして、ニュートンリングの発生を防止しつつ軽いタッチで信号の入力を行うことができるタッチパネルを製作することができる基板貼合装置及び基板貼合方法を提供する。
【解決手段】少なくともいずれか一方の周縁部近傍に粘着層または接着層が設けられた2枚の基板を貼り合わせて、粘着層または接着層で囲まれた空間を形成する基板貼合装置1であって、密閉可能なチャンバ2と、チャンバ2の内部を加圧可能な加圧手段4と、前記2枚の基板を重ねて押圧する押圧手段3とを備える。 (もっと読む)


【課題】ワークの裏面の擦り傷を防止し、また、静電気の発生を抑制する吸着装置および液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】平坦面10aを有しワークを吸着する吸着穴11が設けられたステージ10と、ステージ10の吸着穴11に接続され負圧を発生させる減圧ポンプ15と、環状の無終端となる多孔質ベルト21が駆動ローラー25と従動ローラー26とに掛け渡されたベルト駆動装置20と、を備え、駆動ローラー25と従動ローラー26との間にステージ10が配置され、ワークの搬送方向と同じ方向に多孔質ベルト21が駆動可能であり、多孔質ベルト21がステージ10に吸着され、多孔質ベルト21を介してワークがステージ10に吸着される。 (もっと読む)


【課題】フィルム状部材を目標とする経路に沿って正確に搬送するとともに、その表面に交差する方向に容易に移動する。
【解決手段】フィルム状のTFT基板TPを搬送する搬送方法において、TFT基板TPをこの表面に沿った移動方向B1に移動する工程と、TFT基板TPの表面に沿って移動方向B1に交差する方向に長手方向が配置され、移動方向B1に沿って配列される複数のロッド30でTFT基板TPの複数の表面部位を支持する工程と、TFT基板TPを支持している複数のロッド30を同期させて移動方向B1に移動する工程と、複数のロッド30をTFT基板TPの表面に交差するZ方向に移動する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】基板をトレイに載置して搬送して処理を行う複数の処理室を有する基板処理装置において、処理室間を搬送する際に基板回転させる機構をなくし、且つ装置の大型化を防止することを課題とする。
【解決手段】基板処理装置を、第一の真空室から第二の真空室に向かう第一の直線方向に沿ってトレイを搬送する第一のトレイ搬送機構、第一の真空室から第三の真空室に向かう第二の直線方向に沿ってトレイを搬送する第二のトレイ搬送機構、前記第一の真空室の第二の搬送機構の真空室側の構成を搬送レベルから退避させて前記第一の真空室及び前記第二の真空室の間で前記第一の直線方向に沿ってトレイを搬送し、前記第一の真空室の前記第一のトレイ搬送機構の真空室側の構成を前記搬送レベルから退避させて前記第一の真空室及び前記第三の真空室の間で前記第二の直線方向に沿ってトレイを搬送する構成とする。 (もっと読む)


【課題】基板に異物が付着するのを防ぐことができる基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、制御装置及び表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板が出し入れされる開口部を有し、前記開口部を介した前記基板を収容するカートリッジ本体と、前記カートリッジ本体に設けられ、外部接続部に対して着脱可能に接続されるマウント部とを備え、前記開口部は、前記マウント部と前記外部接続部との間の接続状態に応じて、前記基板によって閉塞可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブ生成時に、基板に熱ひずみが生じないようにし得るカーボンナノチューブ生成用基板の保持具を提供する。
【解決手段】基板1表面にカーボンナノチューブを垂直配向でもって生成させる平面視が矩形状にされた基板の保持具2であって、基板を支持し得る中央の平坦部3a及び当該平坦部よりも高さが低くされた端縁部3bを両側に有する支持部材3と、この支持部材の平坦部を案内し得る案内用空間部4aを有し且つ当該平坦部に載置された基板1の両端縁部1aを支持部材の両端縁部3bに押圧することにより当該基板を保持し得る矩形状の枠部材4とから構成され、さらに基板並びに支持部材および枠部材を金属製材料にて構成するとともに、これら支持部材及び枠部材の材料として、線膨張係数が上記基板のそれよりも大きいものを用いたものである。 (もっと読む)


【課題】可撓性基板の搬送位置制御のために新たな設備を設置することが不要であり、既存の搬送ラインの構成をそのまま維持できるとともに、可撓性基板の搬送位置を所望の方向へ迅速かつ確実に移動させることが可能な基板搬送位置制御装置を提供することにある。
【解決手段】可撓性基板10に張力を付与し、可撓性基板10を長手方向に沿って搬送する曲率半径可変ロール1を備え、曲率半径可変ロール1は、曲率半径を軸方向で部分的に変化させることによって、可撓性基板10が接触した際に生ずる張力に可撓性基板10の幅方向で分布を与え、可撓性基板10の搬送位置を変化させるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】制御装置により、シートSを仮保持したまま6つの補助シートホルダSH,SHが−Z方向に微小駆動され、それらの保持面がシートホルダSHの保持面より僅かに下方(−Z側)に位置決めされ、これにより、シートSに幅方向(Y軸方向)及び長尺方向に関する適当なテンションが加えられ、シートSの中央部がシートホルダSHの保持面上に固定される。すなわち、シートSの区画領域SAにXY二次元方向のテンションが付与された状態で、シートSの区画領域SAに対応する裏面部分が、シートホルダSHの平坦状の保持面に倣わされる。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シートSの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、シートの所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】収縮したシート材に対しても、高精度な露光を可能にする。
【解決手段】長尺のシートSの長尺方向の少なくとも2箇所を拘束し、長尺方向に関して所定領域SAに長尺方向に関するテンションを付与するとともに、シート材の長尺方向と交差する幅方向の両側でシート材をホルダSHで吸着して拘束し、幅方向に関して所定領域SAに幅方向に関するテンションを付与する。そして、所定領域に長尺方向、幅方向に関するテンションが付与された状態で、シート材Sの所定領域に対応する裏面部分を平坦状の基準面に倣わせて平坦化する。そして、平坦化された状態のシート材の所定領域にエネルギビームを照射してパターンを形成する。 (もっと読む)


【課題】フィルム基板を小さい吸着力で確実に吸着して移載できる装置を提供する。
【解決手段】載置面(14)に平置されたフィルム基板(11)を吸着して持ち上げる移載装置(1)であって、同一仮想平面上に配列された複数の吸着パッド(2)と、それらを支持する共通の昇降枠(3)と、該昇降枠を昇降させる昇降手段を備えるものにおいて、前記昇降手段が、前記載置面の拡がり方向に離れた2つの連結部(4a,4b)にて、前記載置面に平行でありかつ相互に平行な軸線回りの回動を許容した状態で、前記昇降枠にそれぞれ連結された2つの昇降部材(5a,5b)と、それらを相対的な速度差および/または時間差をもって上昇させる制御手段および駆動手段(6a,6b)を含む。 (もっと読む)


【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。
【解決手段】フィルム状基板Pを搬送するラダー式ステージ装置28であって、フィルム状基板Pを支持するために、フィルム状基板Pの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド30A〜30Lと、ロッド30A〜30Lを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン32A,32Bと、チェーン32A,32Bを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド30A〜30Lを移動する駆動モータ36Aとを備える。 (もっと読む)


【課題】支持台の上に基板を置き、基板を支持台から加熱するのでなく基板より高温のガスを吹き付けることにより基板上の膜を焼成して膜を形成するとき、焼成した膜のストレスにより基板が変形したり、膜にクラックが入る。
【解決手段】基板の支持台より高温のガスの吹き付けを、一定の熱量で行った後に、その一定熱量以上の吹き付けを行う焼成熱処理を行う。熱量の差をガス温度、ガス流量、基板の移動速度、基板とガス吹き付け装置との距離の差でつけることを特徴とする。屈曲可能なシート状の樹脂基板上の膜でも熱焼成処理が可能となった。 (もっと読む)


方法は、感光材料の層を上に有する基板を用意する工程と、連続する第1、第2、及び第3の部分を有するマスクを用意する工程であって、順次、i)第1の部分を第1の速度の光線で走査し、その後露光領域で感光材料に衝突させ、ii)第2の部分内に走査する工程を固定し、iii)第3の部分にわたって走査を再開する、工程と、を含む。該プロセスにわたって、該基板が露光領域を通って移動する。該プロセスを実行するための装置は、光線源と、マスクマウントと、マスクステージと、コンベヤーアセンブリと、光線を矩形光線に操作するための少なくとも1つの光学素子と、を含む。 (もっと読む)


【課題】板状物を保持する際に、この板状物に局所的な変形が生じないようにすることができる板状物保持具を提供する。
【解決手段】可撓性の材料からなり、厚さ方向の一方の面が被保持物である板状物5の表面に略密着するように張り付くことができるシート状の部材11aと、このシート状の部材11aよりも変形が困難であって、略平面に形成される接合面を有するとともにシート状の部材11aの厚さ方向の他方の面に接合面が接合される支持部材12aとを備え、シート状の部材11aには支持部材12aの接合面121aの外周よりも外側に延出している延出部が設けられる。 (もっと読む)


【課題】椀形に反っているワーク又は周辺部が波状に変形しているワークであっても、ワークの反りを矯正してワーク全面を吸着保持することのできるワークステージ及び該ワークステージを用いた露光装置を提供する。
【解決手段】真空吸着によりワークを吸着保持するワークステージにおいて、ワークを吸着保持するワークステージ6の表面に、第1の配管に接続された複数の真空吸着孔Xからなる真空吸着孔列を放射状に複数列配置した第1の真空吸着孔群61と、第1の真空吸着孔群61に挟まれる領域に形成され、第2の配管に接続された第2の真空吸着孔群Yと、ワークを吸着保持する際に、第1の配管から第1の真空吸着孔群61に真空を供給し、次に、第2の配管から第2の真空吸着孔群62に真空を供給する制御部と、を備えたことを特徴とするワークステージである。 (もっと読む)


【課題】皺を生じさせることなく吸着対象体を確実に吸着し得る吸着装置を提供する。
【解決手段】上面21に複数の吸気孔22が形成されて上面21に回路基板100を載置可能に構成された箱状の載置台11と、載置台11の内部空間の空気を吸引する吸引機構12と、吸引機構12を制御して内部空間の空気を吸引させることによって上面21に載置された回路基板100を上面21に吸着させる吸着処理を実行する制御部とを備え、載置台11は、内部空間を区画して形成された複数の区画領域(31a〜31d)が上面21に沿って並設されて構成され、吸引機構12は、各区画領域内の空気を各区画領域毎に個別に吸引可能に構成され、制御部は、吸着処理時において、吸引機構12を制御して、吸引状態の区画領域の数を徐々に増加させて上面21に吸着させる回路基板100の吸着面積を徐々に増加させる。 (もっと読む)


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