説明

Fターム[5F031FA09]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送の形態 (16,275) | 複数枚(個)一括,バッチ式 (569)

Fターム[5F031FA09]に分類される特許

41 - 60 / 569


【課題】基板搬送装置のバキューム機構に用いられるパッドからの基板のずれを検出可能な基板搬送方法を提供する。
【解決手段】この基板搬送方法では、複数の載置部のうちの一の載置部の基板を保持部で受け取って保持し、保持部に保持される基板を一の載置部から搬出し、保持部に保持される基板の保持部に対する位置(第1の位置)を検出し、保持部に保持される基板を他の載置部に臨む場所まで搬送し、その場所において、保持部に保持される基板の保持部に対する位置(第2の位置)を検出し、第1の位置及び第2の位置に基づいて、搬送前後において生じた、基板の保持部に対する位置ずれ量を算出し、算出された位置ずれ量が所定の範囲に入るか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】一度に複数の基板を一つのロボットアームで搬送する場合であっても、各基板の温度履歴を同じにすることが可能で、基板同士の間で温度ムラが発生することを防止でき、複数の基板を均一に仕上げることができると共に、搬送を迅速に行うことが可能な基板の搬送装置及びこれを備えた基板の加工装置を提供する。
【解決手段】加熱ステージ10には、2枚のガラス基板1a,1bを、ロボットアーム3の移動方向に沿って直列に並べて配置し、加熱ステージには、ガラス基板を、同じ高さに持ち上げるために上昇されかつ下降されてロボットアームに受け渡す昇降手段を設けると共に、ロボットアームの温度上昇過程でガラス基板を同じ温度にてロボットアームに受け渡しするために、ガラス基板のロボットアームへの受け渡しを、当該ロボットアームのフォーク16の先端16a側で先に行いかつ基端16b側で後に行うための、昇降手段制御装置を備えた。 (もっと読む)


【課題】地震等による破損の発生を防止する。
【解決手段】ボート217を支持する断熱筒218を有する基板処理装置において、断熱筒218をボート217の下に締結される上筒10と、上筒10の下に締結される下筒20とから構成する。上筒10はボート217と同質の炭化珪素で同径の円筒形状に形成し、ボートの下側端板217aに炭化珪素のボルト18によって締結する。下筒20は石英で上筒10と同径の円筒形状に形成し、上筒10の上に印籠結合するとともに、ボルト26によって締結する。ボルト26は石英で形成し、基端部にねじ部27、先端部にねじ部の無い接触部28を形成する。ボルト26は下筒20に等間隔に突設された固定片24のねじ孔25にねじ部27をねじ込み、接触部28を上筒10の側壁11の熱通し孔13の内周面に接触させる。 (もっと読む)


【課題】ウエハ収納容器を誤って横向きに落下させてしまったような場合でも、その内部に収納されている半導体ウエハが破損し難いウエハ収納容器を提供すること。
【解決手段】複数の半導体ウエハ(W)が格納された状態のウエハ収納容器に複数の半導体ウエハ(W)の自重の35倍の荷重が側方から半導体ウエハ(W)の面と平行方向に作用したときに、ウエハ仮置部(10)が半導体ウエハ(W)との当接部(12A)において変位量2.5mm〜10mmの範囲で弾性変形するよう、ウエハ仮置部(10)の弾性変形量を増大させるための弾性変形幇助部(11X,12X)がウエハ仮置部(10)に形成されている。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置100は、インデクサブロック11、第1の処理ブロック12、第2の処理ブロック13およびインターフェイスブロック14を備える。インデクサブロック11は、一対のキャリア載置部111a,111bおよび搬送部112を含む。キャリア載置部111a,111bには、複数の基板Wを多段に収容するキャリア113がそれぞれ載置される。搬送部112には、搬送機構IR1,IR2が設けられる。搬送機構IR1,IR2は、互いに並行して基板Wを搬送する。 (もっと読む)


【課題】床面側に設けた凹部内に基板保持具の下端部を収容できるようにし、実質的な高さを抑制することが可能なローディングユニットを提供する。
【解決手段】基板Wに熱処理を施す処理ユニットの下方に設けられて、基板が保持された基板保持具58を処理ユニットに対してロード及びアンロードさせると共に基板保持具に対して基板の移載を行うローディングユニットにおいて、処理ユニットに連設されて全体を囲むようになされたローディング用筐体72と、基板保持具の下部を保持する保持アーム82を有すると共に基板保持具58を処理ユニット内に対して昇降させる昇降エレベータ機構68と、基板保持具に対して基板の移載を行う基板移載機構74と、基板保持具の下方に対応するローディング用筐体の底部に設けられて、基板保持具の下端部を収容できるようにするために下方へ突出させて形成された基板保持具収容凹部90とを備える。 (もっと読む)


【課題】ドライエッチング処理の実施中に異常が発生した場合に、基板とステージとの間に供給される冷却用ガスの圧力に起因して基板がステージ上より跳ね上がって位置ズレが生じることを防止する。
【解決手段】ドライエッチング処理の異常発生が検出された場合に、ステージおよび基板の間に供給される第1流路内の冷却用ガスの圧力と処理室内の圧力との間の差圧を減少させる処理を開始する。これにより、エッチング処理中に異常が発生した場合であっても、処理室内の圧力と第1流路内の圧力との差圧が減少されるため、差圧により基板がステージより跳ね上がって位置ズレ等が生じることを防止できる。 (もっと読む)


【課題】装置寸法の増加を抑制しつつも、収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理ユニット11と収納器収容・搬送ユニット7との間に収納器収容ユニット9を備え、搬送ロボット19によりロードポート5と棚配列33との間の搬送を行う。搬送ロボット31により、棚配列33と棚配列69と載置部27との間における搬送とを行う。ロードポート5と棚配列33との間の搬送と、棚配列69と、棚配列33と、載置部27との間の搬送とをほぼ並行できる。よって、FOUP3の搬送効率を向上させて、スループットを向上できる。その上、収納器収容・搬送ユニット7と基板処理ユニット11との間に収納器収容ユニット9を配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制でき、FOUP3の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。 (もっと読む)


【課題】基板をそれぞれ搭載する複数のサセプタに高周波電力を印加して、誘導加熱により当該複数のサセプタを加熱して基板を処理する基板処理装置であって、積層方向において均熱領域をより長く確保することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数のサセプタ150を積層して保持するサセプタ保持部材217と、複数のサセプタを収容する容器203と、容器の外側に配置された誘導コイル207と、容器203の外側に配置された保温材360と、を備え、容器203は上側の閉塞部270と、側壁部272とを有し、保温材360は、容器203の閉塞部270を覆うと共に、閉塞部270から側壁部272の一部までを覆って側壁部272と誘導コイル207との間を延在して設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板が少ない枚数のロットも効率的に搬送することができるとともに、ロット内に基板の抜けがあっても各基板の間隔を一定にすることができる基板移載装置を提供する。
【解決手段】FOUPに収納可能な基板Wの枚数より少なく、かつ2個以上の支持アーム17を備えている。3個の支持アーム17により、FOUP内の不等間隔で収容されていた3枚の基板を、姿勢変換部に一度に搬送するとともに、3枚の基板の間隔を一定にすることができる。したがって、基板が少ない場合であっても複数の支持アーム17によって効率的に搬送することができる。また、処理部における処理を3枚の基板について均一化することができる。 (もっと読む)


【課題】蓋体の内部空間を介してFOUPの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、FOUPの基板取り出し口の口縁部を密着させた状態で、前記開閉ドアに設けられるパージガス吐出部を前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入させ、当該内部空間にパージガスを吐出し、その雰囲気を当該開口部とは異なる開口部からFOUPと前記開閉ドアとの間に形成される閉塞空間へと強制的に排出させる。それによって前記内部空間を介してFOUPの搬送領域の雰囲気が、基板搬送領域に持ち込まれることを防ぐ。 (もっと読む)


【課題】大径基板に対応した搬送系を構成する基板収容器(フープ)に、サイズダウンした基板を格納できるようにする。
【解決手段】8インチウェーハを支持し得る第1支持溝16eに支持される上部板401および下部板402と、上部板401および下部板402に設けられ、2インチウェーハであるウェーハ14(必要に応じて、ウェーハホルダ100およびホルダ部材405を介して)を支持し得る第2支持溝404を有する各保持柱403a〜403cとを備える。8インチウェーハに対応したポッド16に、2インチウェーハであるウェーハ14を格納でき、搬送系であるポッド16を共通化して半導体製造装置のコストを削減できる。各ガス供給ノズルから各ウェーハ14までを遠ざけて、各ウェーハ14に到達する前に反応ガスを充分に混合させることができ、各ウェーハ14への成膜精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】2枚の基板がスペーサ部材を介して積層されてなる積層体を基板保持部との間で搬送するときに、搬送時間を短くすることができる基板搬送方法を提供する。
【解決手段】積層体を保持していないときにスペーサ部材を保持する基板保持部に対して、積層体を搬送する基板搬送方法であって、第1のフォーク53の上方に設けられた第2のフォーク54の一方の面54a側に設けられた第1の掴み機構61により、第1の基板を下掴みして受け取り、第2のフォーク54を上下反転させて第1のフォーク53に載置する第1の工程と、第2のフォーク54の一方の面54aと同一面側に設けられた第2の掴み機構62により、基板保持部に保持されているスペーサ部材を上掴みして受け取り、第1の基板上に載置する第2の工程と、第1の掴み機構61により第2の基板を上掴みして受け取り、スペーサ部材上に載置する第3の工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】容器本体と蓋体とが張り付いても蓋体を容器本体から容易に取り外すことができる薄板収納容器を提供する。
【解決手段】薄板収納容器1は、正面に開口部4を有する容器本体2と、開口部4に嵌め合わされて当該開口部4をシール可能に閉鎖する蓋体3と、を備えており、蓋体3は、蓋体本体11と、蓋体本体11に形成された出没孔13から出没する係止部8を備えた施錠機構7と、を備えている。そして、蓋体本体11のシール用溝27に、容器本体2と蓋体3との間をシールする枠体30及びリップ部31と、リップ部31に接続されて出没孔13に延び、出没孔13を出没する係止部8のローラ部25に変位される被操作リブ32と、を備えるガスケット26を嵌め込む。 (もっと読む)


【課題】設備費を抑えつつ、様々なサイズの複数枚のパネルを収容することが可能なパネル収容ケースを提供する。
【解決手段】複数枚のパネルPを互いに間隔をあけて保持した状態に収容するパネル収容ケース10であって、上部が開口部とされ、内部がパネルPの収容空間とされた有底のケース本体20と、ケース本体20の上部に被せられてケース本体20の開口部を塞ぐ蓋体と、パネルPの側縁部を係合可能な上下方向に沿う複数の保持溝61が間隔をあけて形成された一対の溝ユニット53と、一対の溝ユニット53をケース本体20内における対向位置に保持することにより保持溝61同士を対向させてパネルPの両側縁部を係合可能とする保持ユニット81とを備え、一対の溝ユニット53は、保持ユニット81によって、互いの間隔が調整可能とされている。 (もっと読む)


【課題】同一のフォークにより基板及びスペーサ部材のいずれをも支持可能であるとともに、収納容器に収容されている基板及びスペーサ部材の間隔を小さくすることができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】裏面同士が対向する2枚の基板がスペーサ部材を介して積層されてなる積層体を上下方向に複数保持する基板保持部に対して、積層体を搬送する基板搬送装置において、基板保持部との間で積層体を受け渡す第1のフォーク53と、第1のフォーク53の上方に、基板及びスペーサ部材を収容する収容部に進退可能かつ上下反転可能に設けられ、収容部と第1のフォーク53との間で基板又はスペーサ部材を受け渡す第2のフォーク54と、第2のフォーク54の一方の面54a側に設けられ、基板を上掴みする第1の掴み機構61と、第2のフォーク54の一方の面54aと同一面側に設けられ、スペーサ部材を上掴みする第2の掴み機構62とを有する。 (もっと読む)


【課題】複数の処理槽のそれぞれに複数の基板を良好に一括搬送することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、搬送ロボット10と、処理部40とを有している。処理部40は、複数の処理槽41、42を有しており、処理槽41には処理液として洗浄液が、処理槽42には処理液として薬液が貯留される。搬送ロボット10は、単一の搬送ユニットとして構成されている。搬送ロボット10は、本体部12と、本体部12から離隔して配置された各処理槽41、42に向かって伸びるアーム部13とを有している。ここで、各処理槽41、42は、搬送ロボット10の可動範囲内となるように、複数の基板の搬送空間8に配置されている。これにより、搬送ロボット10は、複数の基板を、各処理槽41、42の配置によらず、任意の順番で、各処理槽41、42に対応して貯留された処理液に、浸漬することができる。 (もっと読む)


【課題】縦型炉内にカバーボート内の平面状の薄型半導体基板を搬入する改良型搬入装置を提供する。
【解決手段】バッチ処理用に構成される縦型炉において半導体基板を搬入する搬入装置に用いられるウエハボート組立体であって、半導体基板を保持するウエハボートと、これらの基板を実質的に取り巻くように構成されるカバーとを含むウエハボート組立体において:
ベース部と、ベース部に取り付けられる第1のカバー部分であって、少なくとも部分的にベース部上側周縁部に沿って延在する第1のカバー部分とを有する第1のウエハボート部分と;
第1のウエハボート部分に取外し可能に配設されると共に第1のカバー部分と協働するように構成される第2のカバー部分であって、少なくとも1つの加工処理対象の半導体基板を受ける受入れスロットを含む第2のカバー部分を有する第2のウエハボート部分とを具備するウエハボート組立体。 (もっと読む)


【課題】熱応力によって割れの危険がなく、かつ自動搬送に適したサセプタカバー、及び該サセプタカバーを備えた気相成長装置を得る。
【解決手段】本発明に係るサセプタカバーは、チャンバー23内に公転可能に設置されると共に、薄膜を堆積させる基板25が自転可能に載置される複数の基板載置部47を有するサセプタ27を備えた気相成長装置17におけるサセプタ27に設置されるサセプタカバー1であって、サセプタカバー1は、外形が円形であって、基板載置部47に対応する部位に開口部5が周方向に連続して設けられてなり、隣接する開口部5の間の部位において内周側1aと外周側1bに2分割されてなり、内周側1aと外周側1bとが、内周部1a側又は外周部1b側のいずれか一方を持ち上げると、他方も持ち上げられるような係合部7によって係合されてなることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化を抑制し、装置内に収納する基板を増加することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は基板処理装置本体とポッドを搬送する搬送機構22を備え、基板処理装置本体にポッドを搬入出する搬入出部と、基板処理装置本体内においてウエハを収容するポッドを移送するポッド移送装置と、この搬入出部とポッド移送装置とを離間させるようにして設けられ、基板処理装置本体内に搬入されたポッドを収納するバッファ棚とを有し、搬送機構22はポッド移送装置に向けて伸縮する伸縮部202と、伸縮部202の伸縮動作に伴って伸縮部202の伸縮する長さよりも大きくなるようにポッドを移動させる移動部210・220とを有する。 (もっと読む)


41 - 60 / 569