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Fターム[5F031JA04]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 手段(センサ) (4,555) | 光センサ (2,240) | エリアセンサ、カメラ (579)

Fターム[5F031JA04]に分類される特許

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【課題】基板を押圧する際の荷重を適切に制御し、基板同士の接合を適切に行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハWを吸着保持する上部チャック230と、上部チャック230の下方に設けられ、上面に下ウェハWを載置して吸着保持する下部チャック231と、を有している。上部チャック230には、上ウェハWの中心部を押圧する押動部材250が設けられている。押動部材250は、上ウェハWの中心部と当接して当該上ウェハWの中心部にかかる荷重を制御するアクチュエータ部251と、アクチュエータ部251を鉛直方向に移動させるシリンダ部252とを有している。アクチュエータ部251には、当該アクチュエータ部251に対して所定の圧力の空気を供給する電空レギュレータが設けられている。 (もっと読む)


【課題】基板同士の接合の良否を検査し、基板接合後の処理を円滑に行う。
【解決手段】上ウェハと下ウェハを接合する(工程S1〜S13)。その後、上部チャックにおいて上ウェハに対する真空引きを行い、吸引管の内部の圧力に基づいて、上ウェハと下ウェハの接着の良否を判定する(工程S14)。その後、上部チャックにおいて上ウェハに対する真空引きを行い、吸引管の内部の圧力に基づいて、上ウェハと下ウェハの接合強度の良否を判定する(工程S15)。その後、重合ウェハの外径を測定し、当該測定結果に基づいて、上ウェハと下ウェハの接合位置の良否を判定する(工程S16)。工程S16では、測定結果が所定の閾値未満である場合、接合位置が正常であると判定し、測定結果が所定の閾値以上である場合、接合位置が異常であると判定する。 (もっと読む)


【課題】ベアダイをピックアップおよび実装するための装置および方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態によるベアダイをピックアップおよび実装するための装置は、ウェハからベアダイを吸着してピックアップする複数の第1吸着ノズルを具備する第1ピックアップユニットと、前記第1ピックアップユニットを回転させて前記第1吸着ノズルに吸着した前記ベアダイの一面が上部に向かうようにする回転駆動部材を具備するフリッパーと、前記フリッパーによって回転した前記第1ピックアップユニットの前記第1吸着ノズルから前記ベアダイを再吸着してピックアップし、前記再吸着されたベアダイを基板に実装する複数の第2吸着ノズルを具備する第2ピックアップユニットと、を含む。 (もっと読む)


【課題】基板間のボイドの発生を抑制しつつ、基板同士の接合を適切に効率よく行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハWを吸着保持する上部チャック230と、上部チャック230の下方に設けられ、上面に下ウェハWを載置して吸着保持する下部チャック231と、を有している。上部チャック230には、上ウェハWの中心部を押圧する押動部材250が設けられている。押動部材250の押動ピン251において上ウェハW側の先端部には、上ウェハWを吸着保持して当該上ウェハWの水平方向の位置を固定し、鉛直方向に移動自在なガイド部材253が設けられている。下部チャック231の外周部には、ウェハW、W、重合ウェハWに対するストッパ部材262が設けられている。 (もっと読む)


【課題】この発明は不良チップをピックアップせず、良品チップだけを確実にピックアップできるピックアップ装置を提供することにある。
【解決手段】半導体ウエハを照明する光源44と、半導体ウエハの各チップを撮像する撮像カメラ43と、撮像カメラによってチップを撮像するとき、光源によって半導体ウエハを照明する照明光の光量を、ミラーチップからの反射光の影響を受ける部分ではその影響の度合に応じて影響を受けない部分よりも減少させる設定部42及び演算処理部47と、光量が制御された照明光によって半導体ウエハを照射して撮像カメラで撮像し、撮像カメラの撮像信号を閾値と比較してチップが良品チップ或いは不良チップであるかを判定する制御装置41の判定部48具備する。 (もっと読む)


【課題】基板間のボイドの発生を抑制しつつ、基板同士の接合を適切に効率よく行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハWを吸着保持する上部チャック230と、上部チャック230の下方に設けられ、上面に下ウェハWを載置して吸着保持する下部チャック231と、を有している。上部チャック230には、上ウェハWの中心部を押圧する押動部材250が設けられている。上部チャック230は、中心部から外周部に向けて複数の領域230a、230b、230cに区画され、当該領域230a、230b、230c毎に上ウェハWの真空引きを設定可能になっている。下部チャック231の外周部には、ウェハW、W、重合ウェハWに対するストッパ部材262が設けられている。 (もっと読む)


【課題】クリーンルーム内の単位面積当たりにおける生産数量を高めることができるウエーハ加工装置を提供する。
【解決手段】ウエーハ保持手段21とウエーハ10を加工する加工手段とを具備する加工機2a,2bと、カセット32に収容されたウエーハ10を搬出する搬出手段34および搬出されたウエーハの仮置き手段33とを具備するウエーハ搬出機3と、仮置き手段33に仮置きされたウエーハ10を加工機2a,2bのウエーハ保持手段21に搬送するウエーハ搬送機4とを含むウエーハ加工装置1であって、加工機2a,2bとウエーハ搬出手段34およびウエーハ搬送機4はそれぞれ独立して構成されており、少なくとも2台以上の加工機2a,2bとウエーハ搬出機3およびウエーハ搬送機4の台数を適宜選定して配置し、仮置き手段33に仮置きされたウエーハ10をウエーハ搬送機4によって2台以上の加工機2a,2bのウエーハ保持手段21に搬送する。 (もっと読む)


【課題】ダイシングシートに貼着されたダイをピックアップするダイピックアップ装置において、ダイ1個当たりのシート剥離に要する時間を短くしてタクトタイムを短縮する。
【解決手段】剥離ステージ18のシート吸引孔40は、複数のダイ21の貼着部分を同時に吸引できるように当該複数のダイ21の貼着部分に跨がるように形成されている。吸着ノズル30の下端部には、同時にピックアップする複数のダイ21の合計サイズとほぼ同一のサイズ又はそれより少し小さいサイズのパッド部30aが設けられている。吸着ノズル30のパッド部30aでダイシングシート上の複数のダイ21を吸着保持しながら、該複数のダイ21の貼着部分の手前側から剥離ステージ18を該複数のダイ21の貼着部分の真下へスライドさせることで、該複数のダイ21の貼着部分をシート吸引孔40で徐々にシート剥離した後、吸着ノズル30で同時に複数のダイ21をピックアップする。 (もっと読む)


【課題】接着シートの剥離により被着体が損傷することを回避でき、剥離に要する時間の短縮化を図ることができるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置10は、接着シートSが貼付された半導体ウエハWを支持する支持手段11と、剥離用テープPTを繰り出す繰出手段12と、接着シートSに剥離用テープPTを貼付する貼付手段13と、半導体ウエハWと剥離用テープPTとを相対移動させて半導体ウエハWから接着シートSを剥離可能な移動手段14と、移動手段14等を制御する制御手段16とを備えて構成されている。移動手段14は、接着シートSの剥離中に半導体ウエハWと剥離用テープPTとの相対移動速度を調整可能に設けられ、半導体ウエハWの端縁側から所定長さ接着シートSを剥離する工程に比べ、当該工程の後に接着シートSを剥離する工程の方が、前記相対移動速度を高速又は低速に設定できる。 (もっと読む)


【課題】従来の基板載置装置では、基板の平坦性を向上させることが困難である。
【解決手段】基板17が載置される面である載置面6aを有するテーブル6と、載置面6aよりも突出した状態で基板17を支持し、テーブル6内に退避した状態で基板17を載置面6aに載置させる複数のリフトピン8と、複数のリフトピン8に対向して設けられていて、基板17に向けて圧空を吹きかける圧空ノズル12と、を有する、ことを特徴とする基板載置装置。 (もっと読む)


【課題】装置全体のコンパクト化、処理時間の短縮化を図ることができるようにすること。
【解決手段】支持装置10は、半導体ウエハWが載置される載置面17を有する載置手段11と、半導体ウエハWのVノッチNの位置を検出する検出手段12と、半導体ウエハWの外縁に当接可能な複数の当接手段22と、当接手段22を回転して半導体ウエハWを周方向に回転可能な回動モータ23と、当接手段22を介して支持された半導体ウエハWを載置面17に離間接近可能に設けられた昇降手段25と、載置面17と平行な方向に当接手段22を移動可能な移動手段26とを備えて構成されている。当接手段22、回動モータ23、昇降手段25及び移動手段26は、載置手段11に組み込まれている。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハ等の板状部材を精度良く支持することができるようにすること。
【解決手段】支持装置10は、半導体ウエハWが載置される載置面19を有する載置手段11と、載置面19から離れる方向に突設されているとともに、載置面19に載置される半導体ウエハWの外方に位置するガイド手段12とを備えて構成されている。ガイド手段12は、案内部24を備え、この案内部24は、載置面19から離れるに従って平面視で半導体ウエハWの中心から離れる方向に延びるように傾斜している。 (もっと読む)


【課題】板状部材を処理する効率を向上することができるようにすること。
【解決手段】支持装置10は、半導体ウエハWが載置される載置面16を有する載置手段11と、半導体ウエハWの外縁側を検査する検査手段12と、半導体ウエハWの外縁に当接可能な複数の当接手段22と、当接手段22を回転して半導体ウエハWを周方向に回転可能な回動モータ23と、載置面16と平行な方向に当接手段22を移動可能な移動手段26とを備えて構成されている。各当接手段22は、回動モータ23を介して回転することにより、半導体ウエハWを周方向に回転すると同時に、半導体ウエハWを載置面16に離間接近する方向に移動可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化、制御の簡略化を図ることができるようにすること。
【解決手段】アライメント装置10は、半導体ウエハWを支持する支持手段12と、この支持手段12上の半導体ウエハWの外方に位置して面方向の移動を規制可能なガイド手段16と、半導体ウエハWを浮上させる浮上手段14と、半導体ウエハWと支持手段12とを相対変位させる変位手段15と、半導体ウエハWのVノッチNの位置を検出する検出手段13とを備えて構成されている。支持手段12に支持された半導体ウエハWを浮上させてから半導体ウエハWと支持手段12とを相対変位させることで、VノッチNと支持手段12等との重なりを解消することができる。 (もっと読む)


【課題】基板を素早くテーブルに載置するできる基板載置装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置面を有するテーブルと、前記テーブルに形成された貫通穴と、前記貫通穴を通るピンと、前記貫通穴と前記ピンとの隙間を介して、前記テーブルの前記載置面側から前記載置面と反対の面となる反対面側に向けて空気を吸引する空気吸引部と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】パワーデバイスをウエハ状態のまま検査することができるパワーデバイス用のウエハキャリアを提供する。
【解決手段】本発明のパワーデバイス用のウエハキャリア20は、パワーデバイスの電気的特性検査をウエハレベルで行う際に、検査装置10の載置台11上に吸着固定して用いられ且つ複数のパワーデバイスが形成されたウエハWを保持するもので、キャリア本体21と、キャリア本体21の第1の主面上にウエハの載置面として形成された導電性金属膜23と、載置面に形成された真空吸着用の溝20Aと、載置台11の真空吸着用の溝11Aと連通し且つ真空吸着用の溝20A内で開口する吸引孔20Bと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】処理装置内における基板の位置ズレを、処理装置の改造や機能追加なしに、低コストで実現する基板検査システム、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体を提供すること。
【解決手段】基板検査システムに、処理装置21で処理が施された基板の基板表面を撮影する撮影装置11と、撮像装置11で撮像された基板Wの表面の基板画像に関して上記処理が施された処理領域のエッジを抽出する画像処理部12と、基板画像のエッジに基づいて、処理装置21のあらかじめ定められた基板位置に対する基板Wの位置の位置ズレを測定する位置ズレ測定部13と、位置ズレ測定部13の出力に基づいて将来の位置ズレを予測する位置ズレ予測部14と、位置ズレ測定部13が測定した位置ズレを処理装置21の処理履歴と関連付けて時系列として出力する出力部15とを形成する。 (もっと読む)


【課題】アライメント後のウェハにおいても、処理を行う真空処理室を変更した際、変更先の真空処理室まで効率良くウェハを搬送し、搬送時間を短縮することで、生産性を向上した真空処理装置を提供する。
【解決手段】ウェハ200の処理を第一の真空処理室103aで行う場合、カセットから取り出したウェハ200のアライメントを第一のアライナー112にて行うが、何らかの事情で第一の真空処理室103aでの処理ができなくなり第二の真空処理室103bでの処理が必要となった場合、ウェハ200を第一のアライナー112に戻すのではなく、真空搬送中間室111にて、ロータリーアクチュエータ121を作動させウェハ200を載置したステージ123を回転させ、第二の真空処理室103bに適合したノッチ位置へとアライメントする。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハ又は基板を支持するための新規な装置を提供する。
【解決手段】基板容器は、基板を包囲するハウジングを備え、ハウジングはハウジングの包囲体の中にアクセスするための容器ドアを有する。ハウジングの中に配置された支持構造体は前記包囲体の中に延びる複数のタインを有する。タインは外縁を有する。複数のタインは水平方向に配置される。基板の張り出し部分はタインの外縁を越えて延び、基板に係合するアクセス領域を形成する。タインは基板を支持するための支持パッドを含む。タインのうちの1つの支持パッドのうちの1つは前記アクセス領域のうちの一方の側に配置され、タインのうちの1つの支持パッドのうちの他の1つは前記アクセス領域のうちの他方の側に配置される。 (もっと読む)


【課題】熱膨張に起因するアライメントへの悪影響を抑制することが可能な接合技術を提供する。
【解決手段】この接合技術においては、第1の被接合物と第2の被接合物との両被接合物が加熱された状態で、第1の被接合物と第2の被接合物とを水平方向において相対的に移動して第1の被接合物と第2の被接合物とが位置合わせされる(ステップS10,S11,S12)。その後、第1の被接合物と第2の被接合物との接触状態において、両被接合物が接合される(ステップS13,S19)。 (もっと読む)


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