【課題】透明体からなる板状物であっても輪郭を明確に特定する形状認識装置を提供する。
【解決手段】板状物１０の輪郭を検出する形状認識装置６であって、板状物１０を保持する保持テーブル３と、保持テーブル３上に保持され板状物１０を撮像する撮像手段６１と、撮像手段６１下側に配設された照明手段６２と、照明手段６２によって照射され保持テーブル３上に保持された板状物１０で反射した反射光のうち撮像手段６１による撮像領域の正反射光を遮蔽する遮蔽手段６３とを具備している。 （もっと読む）

【課題】ワークにそりや局部的な変形を発生させない吸着装置を提供する。
【解決手段】ワーク５を吸着する吸着装置２０であって、吸着板２１と、吸着板２１に設けられワーク５の外形に沿って額縁状に形成された多孔質の多孔質吸着部２２と、多孔質吸着部２２に連通された負圧発生部２５と、を備えている。このため、ワーク５を吸着する部分がワーク５の外形付近であり、吸着する面積が広いためワーク５にそりや局部的な変形を与えることなく吸着ができる。そして、ワーク５に不要な応力をかかることがなく、ワーク５の割れを防止できる。 （もっと読む）

【課題】高精度な位置合わせ装置は調整範囲が狭いので、その調整範囲に収まるように予備的に位置合わせをすることが望ましいが、予備的な位置合わせをしてから高精度な位置合わせ装置に搬入されるまでに、位置ずれが生じてしまう可能性があった。
【解決手段】ウェハと、ウェハを保持した状態で搬送されるウェハホルダと、ウェハを、ウェハホルダに対し載置方向に配置した状態で、載置面の側から照明する照明部と、照明部により照明されたウェハの外周部を、載置面とは反対の面の側から撮像することによりウェハの位置を同定する位置同定部と、ウェハホルダを搬送する搬送部と、ウェハを保持したウェハホルダを２組用い、互いのウェハを位置合わせして重ね合わせる重ね合わせステージとを備える重ね合わせ装置。 （もっと読む）

【課題】プリアライメント装置での基板の交換を効率的に行うことができる露光装置ユニット及びその基板交換方法を提供する。
【解決手段】搬送用ロボット１５が、プリアライメント装置１２でプリアライメントされた基板Ｗ１を第１のハンド３１で受け取る動作と、第２のハンド３２に支持されたプリアライメントされる基板Ｗ２をプリアライメント装置１２に受け渡す動作と、を同時に行う。 （もっと読む）

【課題】有効領域の面付けが異なる基板であっても、有効領域におけるゆがみの発生を抑制することができる基板吸着方法および基板吸着装置を提供する。
【解決手段】ステージ１０１に複数設けられた吸着穴１１０，１２０から、有効領域５０１を有する基板を吸引し、ステージ１０１に基板を吸着する方法であって、少なくとも一つの吸着穴１１０，１２０を含む吸着穴の群１５１〜１５５、１６１〜１６５毎に、吸着穴１１０，１２０からの吸引動作を互いに独立して制御することにより、有効領域５０１を避けて基板を吸引し、ステージ１０１に基板を吸着する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】 基板に対するパターン形成を迅速且つ正確に行うことができるパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 基板ｗに対してパターン形成を行うパターン形成装置１であって、支持板２と、支持板２を回動する駆動手段８と、支持板２の回動により検出位置Ｄに搬送された基板ｗの位置を検出する基板位置検出手段２０と、支持板２の回動により加工位置Ｐに搬送された基板ｗに対してパターン形成を行う加工手段３０とを備え、支持板２の各装着部４，４は、基板位置検出手段２０の検出に基づいて基板ｗの位置を修正する位置修正手段５を備えており、駆動手段８は、支持板２を正逆両方向に１８０°回動して各装着部４，４が検出位置Ｄと加工位置Ｐとの間で移動するように制御される。 （もっと読む）

【課題】保持面に形成した吸着溝に保持面の外周から負圧を伝達して接着フィルムを保持する場合においても、接着フィルムに支持されるチップ同士の間隔に影響を与えることなく接着フィルムを保持すること。
【解決手段】環状フレームの開口部にテープ１０３を介して支持されて互いに所定の間隔をもった複数のチップ１０４が貼着された接着フィルム１０５をテープ１０３を介して保持する保持面３４と、この保持面３４に形成された吸着溝３４１と、保持面３４の外周側に形成された吸着溝３４１に連通する吸引口３３２とを有する接着フィルム保持機構において、吸引口３３２は、保持面３４の外周の片側に偏在して形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アライメント動作に要する時間を短縮して、スループットを向上することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 （もっと読む）

【課題】保持面に形成した吸着溝により伝達される負圧によってワークを保持する場合においても、ワークが適切に保持されていない状態となるのを事前に検出すること。
【解決手段】環状フレーム１０１の開口部１０２にテープ１０３を介してワークＷを支持した形態のワークユニット１０のワークＷをテープ１０３を介して保持する保持面３４とこの保持面３４に形成された吸着溝３４１とを有するワーク保持部３を有するワーク保持機構において、環状フレーム１０１の内周とワークＷの外周との間に位置するテープ１０３に対応する位置に吸着溝３４１を囲むように形成された環状のリーク検出溝３３１と、リーク検出溝３３１に負圧を発生させる吸引部３２３と、リーク検出溝３３１と吸引部３２３との間に配設された圧力センサ３２４とを有し、リーク検出溝３３１の断面積を吸着溝３４１の断面積よりも大きくしたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】ギャップセンサ１７によってマスクＭ及びワークＷとの間のギャップを４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで測定し、４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによって画成される四角形ＡＢＣＤの各辺の中点Ｋ，Ｌ，Ｍ，Ｎの４箇所の座標のうち、３箇所の中点Ｋ、Ｌ、Ｍの座標における各ギャップが一様になるようにＺ−チルト調整機構４３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部のフレームの熱変形を抑制して、露光精度を向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージベース１１は、複数の中空フレーム９１〜９４によって構成されており、中空フレーム９１〜９４の内部には、サーマルチャンバ８０内に供給されるエアと共に温調されたエアが供給される。 （もっと読む）

【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板６３を搬送する基板搬送機構は、基板６３を保持した状態で移送される基板支持機構５０を撮影するＣＣＤカメラ１０３を有しており、ＣＣＤカメラ１０３によって撮影された映像から基板支持機構５０が基板６３を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構５０を検出する。 （もっと読む）

【課題】基板の直径が大きくなる傾向にある近年において、回路が形成された２枚の基板を、接合すべき電極同士が接触するように高い精度で位置合わせするために、その２枚の基板をそれぞれ保持する２枚の基板ホルダを精密に管理する機構が求められている。
【解決手段】基板ホルダを収容するホルダラックと、ホルダラックから取り出される基板ホルダを清掃する清掃装置とを備え、ホルダラックは、清掃装置を含む処理部に着脱できるホルダメンテナンス装置。 （もっと読む）

【課題】横並びに複数配置された載置台上の搬送容器から基板搬送機構により基板を取り出して処理を行うにあたり、載置台上の搬送容器内の基板の高さ位置を正確に求めること。
【解決手段】載置台１１を複数配置すると共に、少なくとも２つの載置台１１の並びに沿って前記大気搬送室２２内を移動自在な撮像ユニット４１を設けて、載置台１１上のＦＯＵＰ１内においてウエハＷが収納される収納領域２全体を撮像ユニット４１により一括して撮像し、この撮像結果に基づいて前記ＦＯＵＰ１内のウエハＷの高さ位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】基板収納容器の各スロットに収納されている基板の収納状態を定量的に表す指標として少なくとも基板の飛び出し量及び基板の垂れ量を簡易な構成で速やかに検出する。
【解決手段】基板１１の配列方向及び基板１１の搬出方向に交差する方向から見た各スロットに収納されている基板１１の開口部１９側の端部の画像を撮像する撮像手段３と、撮像手段３により撮像された画像に基づいて、各スロットに収納されている基板１１の収納状態を定量的に表す指標として、所定の収納位置から開口部１９の前方へと飛び出している基板１１の飛び出し量と開口部１９側の端部が垂れている基板１１の垂れ量とを検出するとともに、検出された基板１１の飛び出し量及び垂れ量を出力する基板収納状態検出手段６１と、を備える基板収納状態検出装置。 （もっと読む）

【課題】主に、小径ウエハを確実にアライメントすることができること、ウエハを搬送してくるロボットハンドの形状に影響されることなくウエハの受け渡しが可能であることを課題とする。
【解決手段】リフト機構１７のリフトピン１８の上下動の動作が、ウエハ２０の載置部１１がＸ軸移動機構１５とＹ軸移動機構１４とによって動作する平面方向との移動動作とは無関係におこなわれるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】アライメント装置の小型化を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】アライメント装置は、被接合物９１を保持するステージ１２と、ステージ１２を摺動可能に支持する支持部材と、ステージ１２の側方から押圧力を加えることによって、ステージ１２を略水平平面に平行な方向に移動する位置調整機構５０とを備える。位置調整機構５０は、押圧点ＰＴ１１においてステージ１２をＸ方向に押圧する押圧力付与部５１と、押圧点ＰＴ１２においてステージ１２をＹ方向に押圧する押圧力付与部５２と、押圧点ＰＴ１３においてステージ１２をＹ方向に押圧する押圧力付与部５３とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置又は電子部品等のデバイスの姿勢矯正を、機械的接触なしに行なうことで、デバイスの品種ごとに部品交換を不要とするとともに、デバイスへの接触ダメージや矯正主体の磨耗によるトラブルを防止しつつ、位置決め精度を高めた位置補正装置及びそれを備えたハンドラを提供する。
【解決手段】吸着保持機構Ｖの先端部分に回転可能に取り付けられ、デバイスを直接的に保持する吸着ノズルＮを備えたフランジ３１と、吸着保持機構Ｖの直下に設けられた筒状の補正ブロック８と、この補正ブロック８にモータの動力を伝達し回転制御するベルト８１及び第１のプーリー８２と、フランジ３１の筒状の開口部８４を通してデバイスを下方より撮像する撮像機構９とからなる。 （もっと読む）

【課題】この発明は通常使用されるサイズよりも大きなサイズの半導体ウエハを使用することができる半導体チップの供給装置を提供することにある。
【解決手段】分割された１つの分割ウエハを保持したウエハリング８が供給されて水平方向に駆動位置決めされる供給テーブル４と、供給テーブルを水平方向に駆動しながら供給テーブルに供給保持された分割ウエハを上方から撮像する撮像カメラ４１と、撮像カメラによって撮像された分割ウエハの撮像信号を処理する画像二値化処理部４３と、画像二値化処理部で処理された撮像信号に基づいて供給テーブルに供給保持された分割ウエハが半導体ウエハのどの位置の部分のものであるかを判定する判定部５７と、判定部の判定に基づいて供給テーブルの水平方向の駆動を制御し供給テーブルに保持された分割ウエハの複数の半導体チップを順次ピックアップ位置に位置決めする駆動制御部４６を具備する。 （もっと読む）