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Fターム[5F031PA02]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | 工程管理,生産管理 (1,703) | 搬送の制御 (1,015)

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【課題】プラズマ処理装置の小型化ないし設置面積の低減を図る。
【解決手段】ドライエッチング装置1は基板2を収容した搬送可能なトレイ3を収納したカセット62を含むストック部13を備える。トレイ3の搬送機構15を収容した搬送部12内に、回転ステージ33が設けられている。ドライエッチング前のトレイ3を載置した回転ステージ33を回転させ、ノッチ検出センサー44によりノッチ3cを検出することでトレイ3の回転角度位置調整を行う。 (もっと読む)


【課題】基板搬送装置のバキューム機構に用いられるパッドからの基板のずれを検出可能な基板搬送方法を提供する。
【解決手段】この基板搬送方法では、複数の載置部のうちの一の載置部の基板を保持部で受け取って保持し、保持部に保持される基板を一の載置部から搬出し、保持部に保持される基板の保持部に対する位置(第1の位置)を検出し、保持部に保持される基板を他の載置部に臨む場所まで搬送し、その場所において、保持部に保持される基板の保持部に対する位置(第2の位置)を検出し、第1の位置及び第2の位置に基づいて、搬送前後において生じた、基板の保持部に対する位置ずれ量を算出し、算出された位置ずれ量が所定の範囲に入るか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】一度に複数の基板を一つのロボットアームで搬送する場合であっても、各基板の温度履歴を同じにすることが可能で、基板同士の間で温度ムラが発生することを防止でき、複数の基板を均一に仕上げることができると共に、搬送を迅速に行うことが可能な基板の搬送装置及びこれを備えた基板の加工装置を提供する。
【解決手段】加熱ステージ10には、2枚のガラス基板1a,1bを、ロボットアーム3の移動方向に沿って直列に並べて配置し、加熱ステージには、ガラス基板を、同じ高さに持ち上げるために上昇されかつ下降されてロボットアームに受け渡す昇降手段を設けると共に、ロボットアームの温度上昇過程でガラス基板を同じ温度にてロボットアームに受け渡しするために、ガラス基板のロボットアームへの受け渡しを、当該ロボットアームのフォーク16の先端16a側で先に行いかつ基端16b側で後に行うための、昇降手段制御装置を備えた。 (もっと読む)


【課題】基板搬送機構の保持部材に基板を水平に保持し、昇降部材を介して載置台に基板を受け渡すにあたって、受け渡しに要する時間を短縮できる技術を提供すること。
【解決手段】保持部材23の保持部に水平に保持されたウエハWa(Wb)を昇降ピン37a(37b)を介して載置台3a(3b)に受け渡すにあたって、保持部材23上のウエハWa、Wbの位置を検出し、その検出結果に基づいて保持部材23を移動させると共に、昇降ピン37a(37b)の上昇のタイミングを求め、保持部材23を移動させながら昇降ピン37a(37b)を突き上げてウエハWa(Wb)を受け取るようにしている。そしてウエハWa(Wb)を昇降ピン37a(37b)に受け渡す動作が安定するように減速区間を設定し、それ以外の区間では、従来通り高速で保持部材23を移動させる。 (もっと読む)


【課題】この発明は所定長さに切断された粘着テープの切断部の頭出し精度が低下するのを防止した粘着テープの貼着装置を提供することにある。
【解決手段】離型テープの供給リール11と、供給リールから離型テープを所定の長さずつ間欠的に引き出して走行させる送り機構20と、送り機構によって引き出されて走行する離型テープに貼着された粘着テープを所定の長さに切断する切断機構31と、切断機構によって切断されて貼着位置に位置決めされた所定の長さの粘着テープを貼着位置で待機するTCPに加圧加熱して貼着する加圧ツール48と、離型テープの走行方向の送り機構よりも上流側で、貼着手段よりも下流側において離型テープに残留する粘着テープを除去する残留物除去手段53を具備する。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置100は、インデクサブロック11、第1の処理ブロック12、第2の処理ブロック13およびインターフェイスブロック14を備える。インデクサブロック11は、一対のキャリア載置部111a,111bおよび搬送部112を含む。キャリア載置部111a,111bには、複数の基板Wを多段に収容するキャリア113がそれぞれ載置される。搬送部112には、搬送機構IR1,IR2が設けられる。搬送機構IR1,IR2は、互いに並行して基板Wを搬送する。 (もっと読む)


【課題】占有スペースの削減、装置全体としての動作不能時間の短縮を可能にし、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を減圧雰囲気下で処理する複数の処理室が周囲に設けられており、該処理室との間で基板を搬入出する搬送機構を内部に有する複数の真空搬送室と、各真空搬送室に夫々設けられたロードロック室と、外部から供給された基板を一の前記ロードロック室へ搬送する第1大気搬送機構と、該第1大気搬送機構から基板を受け取り、受け取った該基板を他の前記ロードロック室へ搬送する第2大気搬送機構とを備え、前記第2大気搬送機構を前記一のロードロックが設けられている真空搬送室の上側又は下側に配し、前記複数の真空搬送室を、前記第2大気搬送機構による基板の搬送方向に沿って直列的に配する。 (もっと読む)


【課題】装置寸法の増加を抑制しつつも、収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理ユニット11と収納器収容・搬送ユニット7との間に収納器収容ユニット9を備え、搬送ロボット19によりロードポート5と棚配列33との間の搬送を行う。搬送ロボット31により、棚配列33と棚配列69と載置部27との間における搬送とを行う。ロードポート5と棚配列33との間の搬送と、棚配列69と、棚配列33と、載置部27との間の搬送とをほぼ並行できる。よって、FOUP3の搬送効率を向上させて、スループットを向上できる。その上、収納器収容・搬送ユニット7と基板処理ユニット11との間に収納器収容ユニット9を配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制でき、FOUP3の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。 (もっと読む)


【課題】あるユニットに障害が発生したときでも、基板搬送を継続可能とする。
【解決手段】基板処理装置は、処理ユニット1〜3と、処理ユニット1〜3との間で基板を受け渡しすることができ、基板をそれぞれ保持するための複数のハンド11,12を有する搬送ロボット6と、処理ユニット1〜3に発生した障害を検知するセンサ類1S,2S,3Sと、センサ類1S,2S,3Sによって障害発生が検知されている処理ユニットに基板を渡さないように搬送ロボット6を制御する制御装置7とを含む。制御装置7は、一つの処理ユニットに搬入すべき基板を一つのハンドで保持しているときに当該処理ユニットに障害が発生した場合に、当該一つのハンドで当該基板を保持したまま当該処理ユニットへの基板の搬入を停止し、残りのハンドで他の処理ユニットとの間で基板を受け渡しするように搬送ロボット6を制御する。 (もっと読む)


【課題】基板が少ない枚数のロットも効率的に搬送することができるとともに、ロット内に基板の抜けがあっても各基板の間隔を一定にすることができる基板移載装置を提供する。
【解決手段】FOUPに収納可能な基板Wの枚数より少なく、かつ2個以上の支持アーム17を備えている。3個の支持アーム17により、FOUP内の不等間隔で収容されていた3枚の基板を、姿勢変換部に一度に搬送するとともに、3枚の基板の間隔を一定にすることができる。したがって、基板が少ない場合であっても複数の支持アーム17によって効率的に搬送することができる。また、処理部における処理を3枚の基板について均一化することができる。 (もっと読む)


【課題】加熱された基板を、より均一かつ迅速に冷却する冷却方法、および真空処理装置を提供する。
【解決手段】実施形態の基板冷却方法は、減圧状態が維持可能な処理室において加熱された基板を、前記処理室から減圧状態が維持可能なロードロック室内に搬送するステップと、前記ロードロック室内に搬送された前記基板の外周を前記ロードロック室内に設けられたガイド機構に支持させるステップと、前記ガイド機構に支持された前記基板の主面に冷却体を接触させずに接近させて、前記基板の温度が前記ロードロック室内に搬送された直後の温度Tよりも低い温度Tになるまで前記基板を冷却するステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット10は、マスクMを保持するマスクステージ21と、フラットパネルディスプレイ用基板W1,W2をそれぞれ保持する第1及び第2のワークチャック22,23を備える基板ステージ24と、第1及び第2のワークチャック22,23に保持された基板W1,W2がマスクMと対向するように、第1及び第2のワークチャック22,23を同期して移動可能なステージ移動機構25と、マスクMを介して基板W1,W2に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置11と、基板W1、W2をそれぞれ保持し、且つ、第1及び第2のワークチャック22,23に対して基板W1,W2を搬入及び搬出可能な第1及び第2の搬送装置12,13と、基板W1,W2の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第1及び第2の搬送装置12,13を制御する制御部20と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ウエハから良品のダイを取り出して基板に実装する際の実装時間を短縮することができる電子部品実装装置及び電子部品実装方法を提供する。
【解決手段】電子部品実装装置は、ウエハ全体の画像から、それぞれのダイの位置情報を取得する。また、それぞれのダイの良否情報を取得する。さらに、それぞれのダイの位置情報と良否情報から、良品のダイの位置情報を取得する。そして、取得した良品のダイの位置情報に基づいて、ウエハから良品のダイを取り出して基板に実装する。そのため、従来のように、それぞれのダイを撮像する必要がない。従って、ウエハから良品のダイを取り出して基板に実装する際の実装時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、2種類の半導体素子を1個のワークに装着する半導体素子装着装置において、1種類の半導体素子のみを装着する場合においても、より生産効率の高い半導体素子装着装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、各ワークを所定間隔毎に設けられた複数の送り爪で係止し凹状の搬送路を間欠送りし、前記所定間隔で規定される所定のピッチで前記送り爪を往復動作させて搬送し、最大N個(2≦Nの整数)の前記ワークを同時に前記送り爪にそれぞれ1個ずつ係止できるように前記搬送路に供給し、最大N個の前記ワークにそれぞれ半導体素子を装着することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板10上に吐出装置3aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置5に浮上搬送機構6により搬送する塗布装置1であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構42を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 (もっと読む)


【課題】調整治具を使用することなく搬送位置調整を行うことが可能な基板搬送装置の位置調整方法を提供する。
【解決手段】基板を搬送する基板搬送部により基板を保持し、基板の位置を検出する第1検出ステップと、基板搬送部により保持される基板を、基板を保持して回転する基板回転部へ搬送するステップと、基板回転部に保持される基板を、基板回転部により所定の角度だけ回転するステップと、基板回転部により回転された基板を、基板搬送部から受け取るステップと、基板搬送部が受け取った当該基板の位置を検出する第2検出ステップと、第1検出ステップで求めた基板の位置と、第2検出ステップで求めた基板の位置とに基づいて、基板回転部の回転中心位置を把握するステップと、把握された回転中心位置に基づいて、基板搬送部の位置を調整するステップとを含む基板搬送装置の位置調整方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】インライン生産工程の各検査装置の待ち時間をできるだけ少なくして検査装置全体のスループットを向上させ、生産効率の向上を図る。
【解決手段】ガラス基板に下からエアを吹き付けてガラス基板を浮上させるステージ手段と、この浮上させたガラス基板をステージ手段に沿って搬送する搬送手段と、この搬送手段で搬送している途中の通過するガラス基板を検査する検査手段とを備えたガラス基板をインラインで検査する装置において、搬送手段に、ステージ手段で浮上させた第1のガラス基板を保持し検査手段を通過して搬送する第1の搬送部と、ステージ手段で浮上させた第2のガラス基板を保持し検査手段を通過して搬送する第2の搬送部とを備え、第2の搬送部は第1の搬送部が移動しているときにこの第1の搬送部と逆方向に第1の搬送部を跨ぐようにまたは潜るようにして移動するように構成した。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ14の搬送において、移載禁止されたスロットに移載しないで、前記移載禁止されたスロット以外のスロットにウェーハ14を保持させてボート30に対するウェーハ14の搬送を実現する。
【解決手段】ウェーハ14を載置部に保持するボート30と、複数のスロットにウェーハ14を配置するポッド16と、複数枚又は一枚のウェーハ14を搬送するように構成されている基板移載機28と、特定の載置部に移載禁止指定を受けつけると、複数枚または一枚のどちらか選択しながら前記ウェーハ14を前記特定の載置部を除く他の載置部に保持させつつ前記ボート30に移載させるコントローラ152を有する。 (もっと読む)


【課題】露光装置において、マスクを基板に近接させる時に、両者に空気圧が発生し、マスクが変形して、これが平坦(露光可能な状態)に戻るまでに時間を要するために、マスク近接速度向上の妨げとなり、高スループット化の妨げとなる可能性がある。
【解決手段】マスクをガラス基板に近接させる時の速度プロファイルを、加速時の加速度を減速時の加速度より大きくするように制御することにより前記空気圧力上昇を小さくでき、マスクの変形量を小さくできる。その結果、マスク近接速度を向上できるので、スループットを向上できる。 (もっと読む)


【課題】クリーンルーム内の単位面積当たりにおける生産数量を高めることができるウエーハ加工装置を提供する。
【解決手段】ウエーハ保持手段21とウエーハ10を加工する加工手段とを具備する加工機2a,2bと、カセット32に収容されたウエーハ10を搬出する搬出手段34および搬出されたウエーハの仮置き手段33とを具備するウエーハ搬出機3と、仮置き手段33に仮置きされたウエーハ10を加工機2a,2bのウエーハ保持手段21に搬送するウエーハ搬送機4とを含むウエーハ加工装置1であって、加工機2a,2bとウエーハ搬出手段34およびウエーハ搬送機4はそれぞれ独立して構成されており、少なくとも2台以上の加工機2a,2bとウエーハ搬出機3およびウエーハ搬送機4の台数を適宜選定して配置し、仮置き手段33に仮置きされたウエーハ10をウエーハ搬送機4によって2台以上の加工機2a,2bのウエーハ保持手段21に搬送する。 (もっと読む)


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