【課題】ピラーを確実に配置することが可能な半導体装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる半導体装置３０は、内部回路領域２０と、内部回路領域２０の外側に設けられたＩ／Ｏ領域１０と、を備える半導体チップ１と、半導体チップ１とフリップチップ接続されたパッケージ基板６と、半導体チップ１とパッケージ基板６との間に配置され、半導体チップ１の最上層配線層１２に含まれる２本以上の接地配線１２ａ上に形成されて、２本以上の接地配線１２ａを接続する導電性のピラー４と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】隣接する２つのトランジスタ同士が接続された構成を有し、省スペースと電流集中による信頼性の低下の抑制とを両立させた半導体装置を実現できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、第１のトランジスタ１０１と接続された第１のバス１１１、第２のトランジスタ１０２と接続された第２のバス１１２と、第１のバス１１１と第２のバス１１２との間に形成され、第１のバス１１１と第２のバス１１２とを接続するバス間配線１２１とを備えている。バス間配線１２１は、第１のバス１１１における第２のバス１１２と対向する辺の一部及び第２のバス１１２における第１のバス１１１と対向する辺の一部と接続されている。第１のコンタクトパッド１３１は、第１のバス１１１の一部と接続され、第２のコンタクトパッド１３２は、第２のバス１１２の一部と接続されている。 （もっと読む）

【課題】マルチフィンガーＦＥＴセル内のループ発振を抑制させ、かつチップ面積の増大を抑制する。
【解決手段】ユニットフィンガーの並列接続からなるマルチフィンガー単位ＦＥＴセルと、マルチフィンガー単位ＦＥＴセルのゲートフィンガーを並列接続する指定ゲートバスラインと、指定ゲートバスラインに接続されたゲート引き出しラインとを備え、ゲート引き出しラインと指定ゲートバスラインの接続点をマルチフィンガー単位ＦＥＴセル内の中心からずらすことによって、接続点の一方に接続されたゲートフィンガー数が、他方に接続されたゲートフィンガー数よりも多くする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体集積回路を備えた半導体装置および半導体集積回路の設計方法に関し、ＩＯ領域を有効に利用しつつパッケージの高さ寸法の増大を有効に抑えた接続を可能とする。
【解決手段】半導体基板の表面の第１の辺に沿って、第１のＩＯセルと、第２のＩＯセルとを交互に配置したＩＯ領域を有し、第１のＩＯセルは、第１の辺から所定の距離の位置に配置されたボンディングパッドを有し、第２のＩＯセルは、第１のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置にボンディングパッドを有し、かつ、第１のＩＯセルの少なくとも１つは、第１の辺から所定の距離の位置に配置された第１のボンディングパッドに加えて、第２のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置に、第２のボンディングパッドを有する第３のＩＯセルに置きかえられている。 （もっと読む）

【課題】実装上の自由度を低下させることのない螺旋状インダクタを実現する技術を提供する。
【解決手段】半導体装置１００は、実質的に平行に配置された第１半導体基板１及び第２半導体基板２と、第１半導体基板１の第２半導体基板２に対向する面である第１対向面１ａに形成され、相互に略平行となる複数の第１パターン３と、第２半導体基板２の第１半導体基板１に対向する面である第２対向面２ａに形成され、相互に略平行となる複数の第２パターン４と、複数の第１パターン３と複数の第２パターン４を交互に導通させることで螺旋状インダクタLを形成する複数のバンプ電極５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ナノ物体を外部電気システムに接続する素子、及びその素子を作る方法を提供する。
【解決手段】特に分子の特性評価に適用される本発明によると、以下を備える素子が作られる：ナノ物体（２）に接続される上部接触パッド（８）を備えた上部層（１６）；外部電気システム（４）に接続される下部接触パッド（１２）を備えた下部層（１８）；前記下部層上にあり、前記下部パッドと接触する電気的貫通ビア（２２）を備えた接着層（２０）；前記接着層と前記上部層の間にあり、前記上部パッドを前記下部パッドに接続するための導電ライン（２５）及び電気的ビア（２６）を備えた少なくとも２つの層（２２、２４）。 （もっと読む）

【課題】ゲート電極の電界集中を緩和して耐圧の更なる向上を実現することに加え、デバイス動作速度を向上させ、アバランシェ耐量が大きく、サージに対して強く、例えばインバータ回路等に適用する場合に外部のダイオードを接続することを要せず、ホールが発生しても安定動作を得ることができる信頼性の高い高耐圧の化合物半導体装置を実現する。
【解決手段】化合物半導体積層構造２に形成された電極用リセス２Ｃを、ゲート絶縁膜６を介して電極材料で埋め込むようにゲート電極７を形成すると共に、化合物半導体積層構造２に形成されたフィールドプレート用リセス２Ｄをｐ型半導体で埋め込み、化合物半導体積層構造２とｐ型半導体層８ａで接触するフィールドプレート８を形成する。 （もっと読む）

【課題】キャパシタ構造の信号線およびＧＮＤ電極を抵抗成分やインダクタンス成分を最小限にできる構造の配線基板を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】信号線の一部を構成する中心導体２ｃの周囲に誘電体２ｂを介して同心円状にシールド線を構成する外側導体２ａを備えるキャパシタ構造部２を有した構成とする。そして、２つのスルーホール３内に設けた各キャパシタ構造部２の中心導体２ｃについては、配線基板の表面側で各中心導体２ｃが上面配線５に電気的に接続され、裏面側でもう一方のキャパシタ構造部２の中心導体２ｃと第１下面配線６を介して電気的に接続され、さらに、各キャパシタ構造部２の外側導体２ａについては、配線基板の裏面側に全面に一様に形成された第２下面配線７で覆われた状態で電気的に接続されるようにする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成でありながら正確に同期したクロックを各基板に分配することができる電子回路を提供すること。
【解決手段】第１コイルＬ１と第１キャパシタＣ１による第１共振回路を含む第１発振器２１を有する第１基板１１と、第２コイルＬ２と第２キャパシタＣ２による第２共振回路を含む第２発振器２２を有する第２基板１２とを備え、前記第１コイルＬ１と第２コイルＬ２が誘導結合して前記第１発振器２１と第２発振器２２が結合共振することを特徴とする電子回路。 （もっと読む）

【課題】内側のセル列と外側のセル列とでセルの形状が同じ場合において、内側のセル列におけるセルの配列ピッチを外側のセル列におけるセルの配列ピッチより大きくしなくても外側のセル列のセルに接続される配線のための領域を確保することができる。
【解決手段】半導体集積回路は、半導体チップの外周１１に沿って配置される複数の第１セル４０と、複数の第１セル４０の内側で外周１１に沿って配置される複数の第２セル４０とを具備する。複数の第１セル４０及び複数の第２セル４０は同一の長方形形状に形成される。複数の第１セル４０のそれぞれの長辺４ａは外周１１に平行である。複数の第２セル４０のそれぞれの長辺４ａは外周１１に垂直である。 （もっと読む）

【課題】コストのかかる空間をとらずに電子部品内に個別パッシブ部品を組み込むことが可能な垂直集積システムを提供する。
【解決手段】集積回路システム１００は、半導体ダイ１１０の前面上に製造された第一のアクティブ層と、半導体ダイ１１０の裏面上の第二の予め製造された層とを含み、その第二の予め製造された層は、その中に埋め込まれた電気部品を有し、その電子部品は、少なくとも一つの個別パッシブ部品１４０を含む。また、集積システム１００は、第一のアクティブ層及び第二の予め製造された層を結合する少なくとも一つの電気経路１５０も含む。 （もっと読む）

【課題】規格により規定された速度による信号の転送を実現し、半導体装置やそれを内蔵した電子機器の誤動作を防止する。
【解決手段】第１の半導体素子１０１の導体配線層１０６に、パッケージ基板１００の信号端子１０３と第２の半導体素子１０２の信号端子１１７とを接続する信号線導体１１３ａと、パッケージ基板１００の電源端子１０４と第２の半導体素子１０２の電源端子１１８とを接続する電源導体１１４とを、信号線導体１１３ａが導体配線層１０６において、信号線導体１１３ａとの間に水平方向に一定の間隔をあけて隣接する電源導体１１４に挟まれるように形成する。 （もっと読む）

【課題】積層されたチップの面積を効率的に使用し、リペア動作のための非同期パラメータを減少させることができるようにした半導体集積回路及びその制御方法を提供する。
【解決手段】半導体集積回路１００は、マスターチップである第１チップ及び第１チップに積層されたスレーブチップである第２チップを備え、第２チップに第１メモリ領域ＢＫ０〜ＢＫ７が形成されるとともに、第１チップに前記第１メモリ領域の不良をリペアするための第２メモリ領域ＢＫ０ＳＲＡＭ〜ＢＫ７ＳＲＡＭが形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マイクロ波帯やミリ波帯において、１つの集積回路で複数の機能を実現する集積回路と、その集積回路が表面実装される中継基板とに関し、特性の劣化の原因となる広帯域設計をすることなく、多様に異なる帯域に柔軟に対応可能とすることを目的とする。
【解決手段】基板上に個別に形成された複数の回路と、前記基板上で前記複数の回路に隔たって形成され、前記複数の回路の何れにも接続され得る特定の回路とを備え、前記特定の回路と前記複数の回路とは、表面実装型の中継基板との突起電極を介する接続に供されるパッドを有する。 （もっと読む）

【課題】過大電流による素子の破壊を防止することができる、半導体回路、半導体装置、及び電池監視システムを提供する。
【解決手段】短絡保護回路３０のＰＭＯＳトランジスタＭＰ３により短絡状態の場合は、電源電圧ＶＤＤからＦＥＴゲート電圧出力端子ＦＥＴ＿ＰＡＤ（外部ＦＥＴ０）に電流が流れる経路をＰＭＯＳトランジスタＭＰ０及び短絡電流検出用抵抗素子Ｒ０を経由する経路から、ＰＭＯＳトランジスタＭＰ１及び抵抗素子Ｒｐｕを経由する抵抗値が大きい経路に切り替えるため、短絡電流を制限することができ、従って、短絡により、電池監視ＩＣ１４が破壊されるのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】兼用パッドのサイズを専用パッドよりも大きくするとともに、半導体装置のサイズ増大を抑制する。
【解決手段】半導体装置は、第１の方向に延伸された第１のエッジＥ１と、第１の方向と実質的に直交する第２の方向に延伸された第２のエッジＥ２とを含む半導体チップ１０と、半導体チップ上に形成され、互いに第２の方向に沿った長さが実質的に等しい複数の第１グループパッドＧＰ１と、半導体チップ上に形成され、第２の方向に沿った長さが、複数の第１グループパッドの第２の方向に沿った長さよりも長い、第２グループパッドＧＰ２と、を備える。複数の第１グループパッドと第２グループパッドとは、第２グループパッドと第２のエッジとの間に複数の第１グループパッドのいずれをも含まずに、第１の方向に沿って一列に並んで配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＳＤ保護回路および入出力回路を持たない構造の集積回路チップ間のチップ間通信を行う多重集積回路チップ構造を提供する。
【解決手段】多重集積回路チップ構造は、テストおよびバーン・イン手順中に外部テスト・システムと通信するためのＥＳＤ保護回路３８７および入出力回路３８９を有するインターフェース回路３８５をテストするため集積回路の内部回路を選択的に接続するチップ間インターフェース回路３６０を有する。多重配線集積回路チップ構造は、集積回路チップを相互に物理的かつ電気的に接続するため１つ以上の第２の集積回路チップ３１０へ取付けられた第１の集積回路チップ３０５を有する。 （もっと読む）

【課題】電源ノイズを一層効果的に解消する技術を提供する。
【解決手段】半導体装置１は、所定動作を実行するための内部回路６と、内部回路６に対して高電位電圧を供給するための電源ライン７と、内部回路６に対して低電位電圧を供給するためのグラウンドライン８と、ウェハテスト用電極パッド９と、ウェハテスト用電極パッド９を内部回路６に接続するための電気線１０と、電気線１０を内部回路６に対して非導通状態にすると共に、電気線１０を電源ライン７とグラウンドライン８のうち何れか一方に対して選択的に導通状態とする接続切替部１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】段間の整合状態を観測して整合回路の調整を行うことのできる高周波半導体モジュールを提供する。
【解決手段】複数の半導体増幅素子７、８を直列に接続して増幅を行う多段型の高周波半導体モジュールであって、パッケージ３内に配置される回路基板４、５，６に、半導体増幅素子７、８間の段間における高周波信号をモニタするためのモニタ回路を具備する。 （もっと読む）

【課題】大量生産が可能で、かつ従来の小型素子とは異なる構造を有する半導体装置を提供する。また、強度を向上させることが可能であり、作製段階における素子の破壊を抑制することができ、信頼性及び歩留まりの高い半導体装置の構造、及び半導体装置の作製方法を提供することを目的としている。
【解決手段】集積回路を有する層と、集積回路を有する層上に形成され、集積回路を有する層と電気的に接続された第１の端子と、第１の端子上に形成され、第１の端子と電気的に接続されたアンテナとして機能する導電層と、集積回路を有する層上に形成され、集積回路を有する層と、アンテナとして機能する導電層と、第１の端子と電気的に接続されていない第２の端子を有する。 （もっと読む）