説明

Fターム[5F041CA22]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 結晶構造 (914) | 単結晶 (825)

Fターム[5F041CA22]の下位に属するFターム

Fターム[5F041CA22]に分類される特許

161 - 180 / 342


【課題】高出力で所望の色彩を有する発光波長を放出可能な、耐候性に優れた発光装置を実現できる発光素子及びこれを備える発光装置を提供する。
【解決手段】発光層8を有する半導体構造11と、半導体構造11の一方の主面側に設けられた光取り出し面18と、半導体構造11の他方の主面側に備えられ、半導体構造11に電気的に接続される電極3と、を有する発光素子であって、半導体構造11と電極3との間に反射構造4が形成されており、反射構造4は、発光層8からの光の波長に対応する中心波長を反射する第1反射層4aと、中心波長とは異なる波長を中心波長とする第2反射層4bとから構成され、第1反射層4aと第2反射層4bの少なくとも一方の中心波長が、可視光域である。 (もっと読む)


【課題】静電気放電耐圧を向上させたIII族窒化物半導体発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、n型ドーパントがドーピングされた第1窒化物半導体層30aと、前記第1窒化物半導体層よりも低いドーピング濃度を有するとともに、10nmを超える厚さを有する第2窒化物半導体層30bとが交互に複数回積層された構造を含むn型窒化物半導体層30と、p型窒化物半導体層500と、前記n型窒化物半導体層と前記p形窒化物半導体層との間に位置し、電子と正孔の再結合により光を生成する活性層400と、前記n型窒化物半導体層に電気的に連結されるn側電極800と、前記p型窒化物半導体層に電気的に連結されるp側電極700とを含む。 (もっと読む)


発光ダイオードのための多重量子井戸(MQW)構造と、発光ダイオードのためのMQW構造を作製する方法とを提供する。MQW構造は複数の量子井戸構造を含み、個々の量子井戸構造が、バリア層と、バリア層上に形成され量子ドットナノ構造を組み込んだ井戸層とを含み、これらのバリア層及び井戸層が第1の金属窒化物ベースの材料を含み、量子井戸構造の少なくとも1つが、井戸層上に形成されたキャッピング層をさらに含み、このキャッピング層が、第1の金属窒化物ベースの材料と比較して異なる金属元素を有する第2の金属窒化物ベースの材料を含む。 (もっと読む)


III−V族n型窒化物構造物を製作する方法は、成長Si基板を製作することと、次いで、第一の所定の値に設定された流量においてシランガス(SiH)を前駆物質として用いて、III−V族n型層をSi基板の上に堆積させる(210)こととを包含する。その後、SiH流量は、n型層の製作の間に第二の所定の流量まで低減される(220)。この方法はまた、n型層の上に多重量子井戸活性領域を形成することも含む。加えて、流量は、所定の期間にわたって低減され、第二の所定の値は、n型層と該活性領域との界面から十分に短い所定の距離において達せられる(230)。
(もっと読む)


【課題】自己補償効果を緩和し、p型化を行いやすくしたZnO系半導体及びZnO系半導体素子を提供する。
【解決手段】
窒素がドープされたMgZn1−XO(0<X<1)結晶体で構成されたZnO系半導体を、絶対温度12ケルビンにおけるフォトルミネッセンス測定を行って、スペクトル分布曲線を形成し、3.3eV以上の前記分布曲線の積分強度A、2.7eV以上の前記分布曲線の積分強度Bとした場合、(A/B)≧0.3 を満たすようにZnO系半導体が形成されているので、自己補償効果が低減されてp型化しやすくなる。 (もっと読む)


【課題】活性層への不純物の拡散に基づく発光出力の低下を抑えた信頼性の高い半導体ウエハ及び発光装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体ウエハは、第1導電型の不純物を添加した第1クラッド層と活性層との間に、ヘテロ接合界面を含む複数の拡散抑止層を有して形成される第1の拡散抑止多層構造層と、第2導電型の不純物を添加した第2クラッド層と活性層との間に、ヘテロ接合界面を含む複数の拡散抑止層を有して形成される第2の拡散抑止多層構造層とを備える。 (もっと読む)


【課題】貫通転移などの欠陥が少ない柱状構造体を用いて、放熱特性を改善できる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子100は、基板1と、基板1側から第1導電型の半導体領域11、半導体発光領域12、第2導電型の半導体領域13をこの順に含み、基板1の主面上に立設している複数の柱状構造体20と、少なくとも半導体発光領域12の側面12Sを覆い、酸化シリコンよりも大きな熱伝導率を有している被覆材料からなる被覆膜5と、複数の柱状構造体20の第1導電型の半導体領域11と電気的に接続された第1電極4と、複数の柱状構造体20の第2導電型の半導体領域13と電気的に接続された第2電極3と、を備える。 (もっと読む)


【課題】第1の面にLED積層薄膜が固着され、第2の面に蛍光体を形成した透光性を備える第1の基板と、第1の面に反射層を形成した透光性を備える第2の基板とを対向して配置することによって、極めて薄く、発光光量を大きくすることができるようにする。
【解決手段】透光性の第1の基板と、第1の基板の第1の面に固着されたLED積層薄膜と、LED積層薄膜を駆動して発光させるアノードドライバIC及びカソードドライバICと、第1の基板の第1の面と対向する第2の面に形成された蛍光体と、透光性の第2の基板と、第2の基板の第1の面に形成された反射層とを有し、第2の基板の第1の面と対向する第2の面と、第1の基板の第1の面とを対向配置する。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体単結晶層の割れ(クラック)、結晶欠陥等の発生を抑制し、かつ、窒化物半導体単結晶層の結晶性の向上を図ることができる化合物半導体基板の提供。
【解決手段】結晶面方位が{111}面であるSi単結晶基板100上に形成され、3C−SiC単結晶層110aと、TiC、TiN、VC、VNのうちいずれか一種で構成された金属化合物層110bとがこの順で互いに積層され、最上層αが3C−SiC単結晶層110aまたは金属化合物層110bのいずれかで構成された第1の中間層110を備える。 (もっと読む)


【課題】極めて十分に再現可能な素子特性を以て技術的に簡単な量産を保証する半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体基体1は半導体多層構造7を有し、該半導体多層構造は半導体発光素子の作動中、少なくとも青色のスペクトル領域から成るビームを含む、第1の波長領域の電磁ビームを放射し、ルミネセンス変換エレメント6は、第1の波長領域に由来するビームを該第1の波長領域とは異なる第2の波長領域のビームに変換して放射し、半導体発光素子は第1の波長領域の可視のビームと第2の波長領域の可視のビームとからなる混色の白色光を放射し、該混色の白色光のスペクトルは青色のスペクトル領域において相対的な強度最大値と有し、且つ黄色光の波長において相対的な強度最大値を有し、少なくとも700nmの波長まで延びている。 (もっと読む)


【課題】 高効率な紫外線発生源として用いられ得るとともに、導電性基板を採用することにより、プロセスコストも顕著に低減可能である発光素子およびその製造方法を提供すること
【解決手段】 酸化ガリウム単結晶基板上に、窒化ガリウム柱状結晶を形成してなることを特徴とする発光素子。酸化ガリウム単結晶基板上に、温度650〜750℃、ガス流量80〜120sccm、時間1〜30分の条件でアンモニアをフローさせ、前記酸化ガリウム単結晶基板表面を窒化させる窒化工程と、前記窒化工程後、800〜1000℃の表面温度の前記酸化ガリウム単結晶基板上で金属ガリウムとアンモニアとを反応させ、前記酸化ガリウム単結晶基板上に窒化ガリウム柱状結晶を成長させる工程とを有することを特徴とする発光素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ファセットを形成し維持しながら窒化ガリウムを成長させるファセット成長法では、ファセット面からなるピット中央部から転位がモヤモヤと広がり、面状欠陥が放射状に生成されるという欠点があった。またどこにピットができるのか制御不可能であったのでその上にデバイスを設計することができなかった。それらの難点を克服した単結晶窒化ガリウム基板を提供する。
【解決手段】下地基板21の上に規則正しくストライプマスクパターンを設けてその上にファセット26よりなる直線状のV溝(谷)24を形成しこれを維持しながらGaN22をファセット成長させファセット面26よりなるV溝(谷)底部に欠陥集合領域H25を形成しそこへ転位を集めてその周囲の低欠陥単結晶領域ZとC面成長領域を低転位化する。欠陥集合領域H25は閉じているので、転位を閉じ込め再び解き放つということがない。 (もっと読む)


【課題】 同一面側に電極が形成された発光素子をパッケージ凹部のリード電
極に対し、安定性良くフリップチップ実装することが可能な発光装置を提供する

【解決手段】 凹部を有し、その凹部の底面に正負一対のリード電極が露出す
るようインサート成形されてなるパッケージと、リード電極上にフェイスダウン
実装されてなる発光素子とを有する発光装置であって、リード電極と発光素子と
の間に、発光素子を実装可能なサブマウントを有し、サブマウントは少なくとも
表面に導電性部材を有し、導電性部材は、発光素子およびリード電極と導電性接
合部材によって電気的に接続されてなることを特徴とする発光装置。
(もっと読む)


【課題】発光層の材料としてAlGaInN系の材料、特に、AlGaN系の材料を用いつつ、深紫外光の発光強度を高めるための要素技術を提供する。
【解決手段】まず、サファイア面上にAlN層を成長する。このAlN層はNHリッチな条件下で成長を行う。TMAlのパルス供給のシーケンスは、AlGaN層の成長を10秒間行った後に、NHを除くために5秒の成長中断を行い、その後にTMAlを1sccm、5秒間導入した。その後は、再び5秒の成長中断を行った。以上のシーケンスを1周期として合計で5周期分だけ成長を行った。このように成長を行うことにより、Alがリッチの極性を持たせることができる。尚、上記シーケンスは例示であり、種々の変形が可能であるが、基本的に、成長中断と、Alソースの供給とを繰り返す工程により、Al極性を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】直列抵抗を減らすと共に発光層でのキャリア密度を上げ、内部量子効果を向上させることを可能とする。
【解決手段】基板11上にn型層14、発光層15、p型層16の順番で積層された複数のナノコラム13を有する半導体発光素子である。ナノコラム13は、n型層14は基板11から離れるにつれて径が細くされ、発光層15における部分の径が最小であり、p型層16は基板11から離れるにつれて径が太くされている。 (もっと読む)


【課題】矩形のチップとして分割され、且つ歩留まりの低下を抑制できる六方晶構造の半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】六方晶構造の酸化亜鉛系半導体からなり、極性面である第1の主面111、及びその第1の主面111に対し直交する基準の非極性面と40度乃至50度の角をなして第1の主面111と直交する4つの側面を第1の主面111に隣接させた基板1と、第1の主面111上に配置された半導体層2とを備える。 (もっと読む)


【課題】発光素子から発せられた偏向光の乱れを防止することができる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置1は、直線偏光成分が均等ではなく偏りをもった偏向光20を発する発光素子2と、この発光素子が実装された実装ベース3とを備える。この発光素子は非極性面又は半極性面を主面とする窒化物半導体により構成される。また実装ベースはリフレクタ30Rを兼ねた断面凹型形状の実装面30を備え、この実装面及びリフレクタの表面は鏡面となるようにメタルコーティング面35とする。 (もっと読む)


【課題】実装が容易で、演色性に優れた低コストの窒化物半導体発光ダイオードであって、放射角による色合変化の少ない窒化物半導体発光ダイオードを提供する。
【解決手段】窒化物半導体発光ダイオードにおいて、Al及びNがドーピングされた6H型SiC単結晶蛍光体からなるSiC層と、発光波長が408nm以下である窒化物半導体層と、を備え、前記SiC層は、前記窒化物半導体層からの1次光により励起され、可視領域の2次光を発するようにした。 (もっと読む)


半導体発光装置は、n型領域71とp型領域73との間に配された発光層72を含むウルツ鉱III族窒化物半導体構造を含んでいる。テンプレート層18及び転位曲げ層20は、発光層72の前に成長される。テンプレート層18は、前記テンプレート層内の前記転位の少なくとも70%がエッジ転位29、30、31、32であるように、成長される。前記テンプレート層内のエッジ転位29、30、31、32の少なくとも一部は、前記転位曲げ層内まで続いている。転位曲げ層20は、テンプレート層18とは異なる大きさの歪みを有するように成長される。テンプレート層18と転位曲げ層20との間の界面における歪みの変化は、前記テンプレート層のエッジ転位29、30、31、32の少なくとも一部を、前記転位曲げ層内の異なる方位に曲げさせる。曲げエッジ転位33よりも上方に成長される半導体材料は、減少された歪みを呈し得る。
(もっと読む)


【課題】長時間使用しても発光効率および出力の低下が少なく、安定して使用可能な発光装置を提供する。
【解決手段】導電性ペースト28によって導電部材に接続固定された発光素子10と、この発光素子を封止するシリコーン樹脂などの第1の樹脂20とを有する発光装置であって、前記発光素子の側面12を凸部14および凹部16からなる粗面とし、その凹部16を、前記第1の樹脂と異なるエポキシ樹脂などの第2の樹脂22によって被覆する。 (もっと読む)


161 - 180 / 342