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Fターム[5F041CB15]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (4,083) | 素子構造 (4,083) | 反射面を有するもの (1,115)

Fターム[5F041CB15]に分類される特許

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【課題】製造歩留まりを向上することができる窒化物半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る窒化物半導体素子の製造方法は、成長用基板と、前記成長用基板の上に形成されたバッファ層と、前記バッファ層の上に形成された窒化物半導体層と、前記窒化物半導体層の第1部分の上に形成された層間絶縁膜と、前記窒化物半導体層の第2部分の上に形成された電極と、前記窒化物半導体層の上に形成された層間絶縁膜及び電極と、を有する構造体の、前記層間絶縁膜及び前記電極の上に支持基板を接合した後、第1の処理材を用いて前記成長用基板を除去する工程と、前記成長用基板を除去する前記工程の後に、前記層間絶縁膜をエッチングストップ層として前記窒化物半導体層をパターニングする工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第1半導体層と、発光層と、第2半導体層と、低屈折率層と、透明電極と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第1半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第1半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第2半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第1半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆い、一部または全部が前記第1半導体層に埋め込まれている。前記透明電極は、前記光取り出し面および前記低屈折率層を覆い前記発光層から放出される光に対して透光性を有する。 (もっと読む)


【課題】効率良く射出し、複数の射出面の間隔が大きい発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置100の第1利得領域160は第1面130の垂線Pに対して一方側に傾いて第1面130と接続し、第2利得領域170は垂線Pに対して他方側に傾いて第1面130と接続し、第1利得領域160の第1面130側の第1端面180と、第2利得領域170の第1面130側の第3端面184とは、第1面130において重なり、第1利得領域160及び第2利得領域170は、同じ傾きで第2面132と接続する。曲線形状の第1利得部分162及び第2利得部分172と、直線形状の第3利得部分164及び第4利得部分174とは、第5利得部分166及び第6利得部分176を介して接続され、第5利得部分166及び第6利得部分176と接する場所の絶縁層116の屈折率がスロープ形状もしくは階段形状である第1接続部分140及び第2接続部分150を有する。 (もっと読む)


【課題】再現性よく光取り出し効率を向上させることができる半導体発光素子、ウェーハ、および窒化物半導体結晶層の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施態様によれば、第1半導体層と、発光層と、第2半導体層と、低屈折率層と、を備えた半導体発光素子が提供される。前記第1半導体層は、光取り出し面を形成する。前記発光層は、前記第1半導体層の上に設けられ活性層を有する。前記第2半導体層は、前記発光層の上に設けられている。前記低屈折率層は、前記第1半導体層の屈折率よりも低い屈折率を有し、前記光取り出し面を部分的に覆う。 (もっと読む)


【課題】製造歩留まりを向上することができる窒化物半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る窒化物半導体素子の製造方法は、成長用基板と、前記成長用基板との間に空隙を形成する第1凹凸形状を有するバッファ層と、前記バッファ層の前記第1凹凸形状の上に形成された窒化物半導体層と、を有する構造体の、前記窒化物半導体層の側に支持基板を接合した後、第1の処理材を用いて前記成長用基板を除去する工程と、前記成長用基板を除去した後、前記第1の処理材とは異なる第2の処理材を用いて前記バッファ層及び前記窒化物半導体層の厚さを減少させて、前記窒化物半導体層に前記第1凹凸形状を反映した凹第2凸形状を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】高い光取出し効率を実現でき、かつ、製造が容易で低コストな発光ダイオード用基板及び発光ダイオードを提供する。
【解決手段】表面sに発光層7を含む半導体層3が形成される発光ダイオード用基板であって、サファイア基板からなり、表面sには、発光層7が発光する光を乱反射するランダムに配置された凹凸が形成され、かつ、凹凸は結晶方位を反映して形成されており、凹凸の高さが1μm以上5μm以下であり、表面のX線回折ロッキングカーブ半値幅が60秒以下である。 (もっと読む)


【課題】発光領域への電流注入密度、および発光効率が高められた半導体発光素子を提供する。
【解決手段】半導体発光素子は、支持基板と、第1電極と、第1導電形層と、発光層と、第2導電形層と、第2電極と、を有する。前記第1導電形層は、第1コンタクト層、前記第1コンタクト層の不純物濃度よりも低い不純物濃度を有する窓層、第1クラッド層、を有する。前記第2導電形層は、第2クラッド層、電流拡散層、第2コンタクト層、を有する。前記第2電極は、前記第2コンタクト層の上に延在する細線部と、前記第2コンタクト層の非形成領域に設けられ前記細線部と電気的に接続されたパッド部と、を有する。前記第1コンタクト層および前記窓層のバンドギャップエネルギーは、前記発光層のバンドギャップエネルギーよりもそれぞれ大きい。前記第1コンタクト層は、前記窓層と前記第1電極との間に選択的に設けられ、上方からみて、前記第1コンタクト層と、前記第2コンタクト層と、は、重ならないように設けられたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】窒化物半導体の無極性面または半極性面を機械的に加工する工程を含みながらも、該加工に起因する発光効率の低下が防止される、無極性または半極性の窒化物系LEDの製造方法を提供する。
【解決手段】無極性または半極性の窒化物半導体基板を含む窒化物半導体積層体を準備する第1工程と、該窒化物半導体積層体の底面を機械的に削ることによって該窒化物半導体積層体の厚さを減じる第2工程と、該第2工程で生じる着色部が除去されるように該窒化物半導体積層体の底面をドライエッチする第3工程と、を有し、該第3工程では、エッチバック法を用いることによって該窒化物半導体積層体の底面の平坦性を改善する、窒化物系LEDの製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率が向上した半導体発光素子を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体発光素子は、半導体層と、前記半導体層の上面に配置された第1電極と、前記半導体層の下面に配置された第2電極と、を備える半導体発光素子であって、前記半導体層の上面は第1領域と、前記第1領域よりも前記半導体層の厚みが厚い第2領域とを有し、前記第1電極はパッド電極と、前記パッド電極から延伸する補助電極と、を備え、前記第1電極は前記第2領域上にあり、前記第2領域は、前記補助電極に沿ったものと、前記補助電極と異なる方向に延伸するものと、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子の順方向電圧の上昇を抑制してライフ特性を改善する。
【解決手段】第一半導体層と、第一半導体層と異なる導電性を有する第二半導体層と、第一半導体層及び第二半導体層の間に設けられる活性領域と、第一半導体層上に設けられる透光性導電層13と、透光性導電層13の上に設けられる反射構造20と、反射構造20の上に設けられ、第一半導体層と電気的に接続される第一電極とを備える半導体発光素子であって、反射構造20が、少なくとも反射層16を有し、透光性導電層13と反射構造20との間に、中間層17を介在させており、中間層17を、反射層16よりもイオン化傾向の大きい材料で構成している。これにより、半導体発光素子の使用の経過と共に順方向電圧が上昇する事態を、透光性導電層13と反射構造20との間に介在された中間層17によって抑制でき、信頼性及び耐久性を向上できる利点が得られる。 (もっと読む)


【課題】サファイア基板を有するLED素子を備えたLED装置であっても、パッケージの小型化にあたり部材の種類を減らし製造しやすくする。
【解決手段】LED装置10は、サファイア基板14と突起電極18,19を有するLED素子16を備えている。サファイア基板14の上面に蛍光体シート11が配置され、蛍光体シート11とサファイア基板14とを接着層13で接着する。LED素子16の側部は白色反射部材17で覆われている。LED素子16の突起電極18,19がマザー基板に対する接続電極となっている。 (もっと読む)


【課題】新たな構造を有する発光素子パッケージを提供すること。
【解決手段】本発明は発光素子パッケージに対するものであって、このパッケージはキャビティが形成されているセラミック胴体と、上記キャビティの内に形成された紫外線発光ダイオードと、上記セラミック胴体の上に形成され、上記キャビティを囲む支持部材と、上記支持部材と結合し、上記キャビティを覆うガラスフィルムとを備える。したがって、紫外線発光素子パッケージにおいて、セラミック胴体を適用して放熱性が向上し、セラミック胴体の上に直接ガラスフィルムを付着して他の構成要素無しで製造工程が単純化されて製造費用が低減する。 (もっと読む)


【課題】光取出し面おける電流密度分布の偏りを小さくすることを目的とする
【解決手段】本発明に係る発光素子100は、第1主面及び第2主面を有する半導体部10と、第1主面上に配置された第1電極20と、第2主面上に配置された第2電極30と、を備える発光素子であって、第1主面の形状は矩形であり、第1電極20は矩形の対向する一対の辺のうち一方の辺12a側に設けられた第1接続部21及び第2接続部22と、第1接続部から他方の辺に向かって延伸する第1延伸部23と、第2接続部から他方の辺に向かって延伸する第2延伸部24と、第1延伸部から第2延伸部に向かって延伸する2つの第3延伸部25と、2つの第3延伸部で挟まれた領域において第2延伸部から第1延伸部に向かって延伸する第4延伸部26と、を有し、第3延伸部25と第4延伸部26との間隔は、第1及び第2接続部から離れるに従って狭くなる。 (もっと読む)


【課題】耐薬品に優れた金属基板を用い、金属基板のレーザー切断時に生成するデブリの低減と金属基板に適したレーザー照射の位置決めの両方の目的を同時に果たす工程を含む発光ダイオードの製造方法、切断方法及び発光ダイオードを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る発光ダイオードの製造方法は、複数の金属板と該複数の金属板の少なくとも上面及び下面を覆う金属保護膜とからなる金属基板と、化合物半導体層とを備えたウェハを作製する工程と、化合物半導体層の切断予定ライン上の部分を、エッチングによって除去する工程と、金属保護膜のうち化合物半導体層を備えた面とは反対側の面の少なくとも一つの膜の少なくとも一部を、エッチングによって除去して位置決めマークを形成する工程と、位置決めマークに基づいて、化合物半導体層を備えた面とは反対側の面にレーザーを照射して金属基板を切断する工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】出力を向上可能な発光素子及び発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光素子10において、p側電極体160は、電極層200と、絶縁体層210と、反射層220と、を備える。絶縁体層210は、電極層200上に形成され、電気的絶縁性を有するSiOによって構成されている。反射層220は、絶縁体層210上に形成され、発光層130から放出される出射光を反射するAlCuによって構成される。 (もっと読む)


【課題】リードフレームとモールド樹脂との密着性を向上させることのできる樹脂成形フレームとリードフレームとモールド樹脂の剥離が発生し難い、信頼性の高い光半導体装置を提供する。

【解決手段】本発明の樹脂成形フレームは、リードフレームとモールド樹脂で構成される樹脂成形フレームであって、絶縁樹脂部と、境界樹脂部と、アンカー樹脂部とを備えることを特徴とする。また、本発明の光半導体装置は、その樹脂成形フレームで製造されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】III族窒化物半導体発光素子の光出力を特定の方向において強く、光の取り出し効率を向上させる。
【解決手段】サファイア基板上に発光層を有するIII族窒化物半導体からなる積層構造が形成されたIII族窒化物半導体発光素子において、サファイア基板の積層構造側の表面に、発光層から出力された光に対して光強度の干渉パターンを生じる周期で2次元配列された凸部の周期構造を設けた。これにより、この2次元周期構造で反射された光、又は、透過した光は干渉パターンを有する。この干渉パターンにおける光強度の強い領域に光が集光されているので、この領域の光を外部に効果的に出力させることで、所望の指向性を得ることができると共に、取り出し効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】反射膜のマイグレーションを防止すること。
【解決手段】図1に示すフリップチップ型のIII 族窒化物半導体発光素子は、サファイア基板10と、サファイア基板10上に順に形成されたn型層11、発光層12、p型層13を有している。p型層13表面には、n型層11に達する深さの孔14が複数設けられている。p型層13表面のほぼ全面に、ITO電極15が設けられ、ITO電極15上にSiO2 からなる絶縁膜16が設けられている。また、絶縁膜16中に埋め込まれたAgからなる反射膜19を有している。反射膜19の上部には、絶縁膜16を介して導電膜23が形成されている。また、導電膜23は、p型層13上に設けられたITO電極15に接続されている。このような構成により、反射膜19は等電位な領域に位置することとなり、マイグレーションが防止される。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率を向上させること。
【解決手段】平面視においてn電極17の配線状部17Bおよび、p電極18の配線状部18Bに重なる領域には、p型層13表面からn型層11に達する深さの溝14が設けられている。溝14の側面、底面、p型層13上、ITO電極15上に連続して、絶縁膜16が設けられている。絶縁膜16中であって、n電極17、p電極18の下側(サファイア基板10側)にあたる領域には、反射膜19が形成されている。そのうち、n電極17の配線状部17B、p電極18の配線状部18Bの下側にあたる領域の反射膜19は、発光層12よりも下側に位置している。n電極17、p電極18上は、絶縁膜22によって覆われている。絶縁膜22中であって、配線状部17B、18Bの上部にあたる領域には、反射膜23が埋め込まれている。反射膜23は、発光層12よりも下側に位置している。 (もっと読む)


【課題】 光取り出し効率を向上した発光素子を提供する。
【解決手段】 本発明の発光素子は、基板2と、基板2の第1主面2Aに、平面視して、格子状に引いた仮想直線5同士の交点位置に重なるように配置された複数の第1突起3a、および第1突起3aと重ならない位置に配置された、基板2と異なる材料からなる第2突起3bを有する突起群3と、突起群3を埋めるように基板2の第1主面2A上に設けられた光半導体層4とを有する。このように基板2上に第2突起3bを有していることから、発光素子1の光取り出し効率を向上させることができる。 (もっと読む)


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