説明

Fターム[5J079BA44]の内容

電気機械共振器を用いた発振回路 (23,106) | 目的、効果 (4,554) | 回路、構成の簡素化、小型化 (842)

Fターム[5J079BA44]の下位に属するFターム

Fターム[5J079BA44]に分類される特許

101 - 120 / 806


【課題】キャビティ内の気密を維持しつつ、導通不良のない貫通電極を形成することができるパッケージの製造方法、およびこの製造方法により製造された圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計を提供する。
【解決手段】、貫通電極形成工程S30Aは、ベース基板用ウエハ40(第1基板)に貫通孔30,31を形成する貫通孔形成工程S32と、貫通孔30,31内に第1ペースト材61を充填して仮乾燥させる第1ペースト材充填工程S35Aと、第1ペースト材61に重ねて貫通孔30,31内に第2ペースト材63を充填する第2ペースト材充填工程S35Bと、を有し、第1ペースト材61は第2ペースト材63よりも粘度が低いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】デバイス全体の低背化を図ると共に、振動片等との接続を安定させて基板の応力を抑制できる電子デバイスを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明の電子デバイス10は、振動片80と、一方の主面に振動片80が固定され、他方の主面に実装端子が形成され、引き出し配線が形成されている略矩形形状のベース基板12と、一方の主面に振動片80の周囲を囲むように配置された略矩形形状の枠体70と、枠体70の開口面を覆う蓋体72と、を備えた電子デバイスであって、ベース基板12の側面には、引き出し配線と電気的に接続された端子を有する側面凹部78が形成され、側面凹部78は、ベース基板12の側面のうち振動片80が固定される側に配置され、ベース基板12の一方の主面側からの平面視において枠体70の対向する外側の側面を通る2本の延長線により挟まれた領域に少なくとも一部が重なる位置に配置されていることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】基板を損傷することなく、基板の貫通孔に対して鋲体を迅速かつ確実に挿入することができるパッケージの製造方法と、この製造方法により製造された低コストな圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計を提供する。
【解決手段】平板状の土台部と、土台部の表面から法線方向に沿って立設される芯材部と、を有する導電性の鋲体7の芯材部を貫通孔30,31(凹部)に挿入する鋲体配置工程S33を有し、鋲体配置工程S33は、ベース基板用ウエハ40(第1基板)の第1面U(上面)に鋲体7を載置した後、ベース基板用ウエハ40の第2面L側(下面側)に配置した磁石部63(磁石)とベース基板用ウエハ40とを相対的に走査することにより行うことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】小型化が可能なMEMS素子を提供する。
【解決手段】本発明に係るMEMS素子100は、基板10と、基板10の上方に形成された空洞部32と、空洞部32に収容された第1振動子20aと、空洞部32に収容された第2振動子20bと、を含む。 (もっと読む)


【課題】小型な振動片であっても静電容量を大きくし、負荷容量の変化に対して発振周波数感度の低い圧電振動片、圧電振動子、および圧電発振器を提供する。
【解決手段】基部10と、前記基部10より延伸して形成され屈曲振動する振動腕20、30とを備え、圧電材料からなる振動片であって、前記振動腕の表裏面と側面とに形成された駆動電極と、前記振動腕の先端方向に前記駆動電極から離間して前記振動腕の表裏面に形成された非駆動電極と、を備える。 (もっと読む)


【課題】絶縁物のベース基板と絶縁物の蓋基板とを金属膜を介して安定的に陽極接合できる電子デバイスパッケージの製造方法を提供する。
【解決手段】蓋基板3の両面に互いに導通する金属膜を成膜する工程と、蓋基板3とベース基板2とをアライメントして重ね合せる工程と、ベース基板2における蓋基板3に接合される面とは反対の面全面に負電極板21を接触させ、蓋基板3におけるベース基板2に接合される面とは反対の面全面に正電極板22を接触させ、正電極板22と負電極板21との間に電圧を印加することでベース基板2と蓋基板3とを陽極接合する工程と、を備える (もっと読む)


【課題】圧電振動片が収容されたパッケージ内の真空度の低下を抑制できる圧電デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電デバイス100は、パッケージベース12と、パッケージベース12の第1キャビティーに収容された圧電振動片70と、第1キャビティーに収容され圧電振動片70を支持するリード31,32,33,34,35,36と、第1キャビティーを封止するリッドと、を含み、圧電振動片70に形成された振動片端子81,82,83,84,85,86と、リード31,32,33,34,35,36とは、金属間接合されており、リード31,32,33,34,35,36と、パッケージベース12に形成されたパッケージベース端子21,22,23,24,25,26とは、金属間接合されている。 (もっと読む)


【課題】圧電発振器の周波数変動(温度特性や経時変化)を、精度よく補正することを可
能とする発振回路を提供する。
【解決手段】この発振回路30は、水晶振動子(振動素子)1を含み発振信号8を出力す
る発振器(発振手段)2と、発振信号8の周波数に対応した電圧に変換するF/V変換器
(F/V変換手段)4と、発振信号8の周波数を補正するための周波数補正情報を記憶す
るメモリー(記憶手段)6と、をICパッケージ15に一体化したものである。そして、
ICパッケージには、発振出力端子8、周波数偏差電圧出力端子(F/V変換器出力端子
)12、メモリー出力端子9、11及び水晶振動子端子を備える。 (もっと読む)


【課題】基板を所望の形状に加熱成形することができるパッケージの製造方法、パッケージ、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。
【解決手段】成形工程は、貫通孔形成工程において、スルーホール30,31に相当する凸部53を有するスルーホール形成用型51でベース基板用ウエハ41を押圧しつつ、加熱することによりスルーホール30,31を形成する工程であり、スルーホール形成用型51は開気孔率が14%以上の材料で構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】接合材の腐食を抑制して、気密性に優れたパッケージ、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。
【解決手段】ベース基板2及びリッド基板3の間に、圧電振動片を封入可能なキャビティを備えたパッケージ10の製造方法であって、ベース基板2の接合面に形成されたアルミニウムを主成分とする材料からなるアルミ膜23aと、リッド基板3の接合面とを陽極接合する接合工程と、ベース基板2とリッド基板3との間から露出するアルミ膜23aを酸素プラズマで処理することによりアルミ膜を酸化させる酸化工程とを有していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 1つの水晶振動子で基本波発振とオーバートーン発振を実現すると共に、励振電流を基本波発振とオーバートーン発振に応じて最適化できる基本波/オーバートーン水晶発振器を提供する。
【解決手段】 基本波発振又はオーバートーン発振が可能な水晶振動子1と、水晶振動子1からの励振電流を増幅して発振周波数を出力する発振回路30とを備え、発振回路30のトランジスタTr31のベースにコンデンサCfとコンデンサCoが並列接続されて、エミッタに接続され、エミッタにコンデンサC32と抵抗R32が並列接続され、切替信号によってコンデンサCfを回路に接続又は切り離すためのスイッチSW31を設け、スイッチSW31が基本波で発振させる場合にはオンとなり、オーバートーンで発振させる場合にはオフするよう動作する基本波/オーバートーン水晶発振器である。 (もっと読む)


【課題】接合材の腐食を抑制して、気密性に優れたパッケージ、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。
【解決手段】リッド基板用ウエハ50の裏面に形成されたアルミニウムを主成分とする材料からなる接合材と、ベース基板用ウエハ40の表面とを陽極接合する接合工程と、接合材を酸化させる酸化工程とを有し、酸化工程では、接合材を所定温度に加熱した状態で、接合材から接合材を挟む何れかのウエハへの方向へ電流が流れるように電圧を印加することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ラム波デバイスの高周波特性を量産においても高い歩留まりで実現するために、製造ばらつきの影響を最小にする設計・製造の最適化を提供する。
【解決手段】圧電基板の一方の主面に設けられる複数の電極指を間挿してなるIDT電極20と、前記IDT電極20のラム波の伝播方向両側に配設される一対の反射器25,26と、を備えるラム波型共振子1であって、前記圧電基板の厚さtが、励振させる前記ラム波の波長をλとすると、0<t/λ≦3であらわされる範囲にあり、前記IDT電極の前記電極指の幅をWとしたときの、W/(λ/2)=ηで表されるメタライゼーションレシオηの基準値η0と、前記IDT電極の電極膜厚Hを前記波長λにより規格化したH/λの関係が以下を満たす。η0=−60416.6667(H/λ)4+8208.3333(H/λ)3−413.9583(H/λ)2+9.7292(H/λ)+0.4900 (もっと読む)


【課題】ラム波デバイスの高周波特性を量産においても高い歩留まりで実現するために、製造ばらつきの影響を最小にする設計・製造の最適化を提供する。
【解決手段】圧電基板の一方の主面に設けられる複数の電極指を間挿してなるIDT電極20と、前記IDT電極20のラム波の伝播方向両側に配設される一対の反射器25,26と、を備えるラム波型共振子1であって、前記圧電基板の厚さtが、励振させる前記ラム波の波長をλとすると、0<t/λ≦3で表される範囲にあり、前記IDT電極の前記電極指の幅をWとしたときの、W/(λ/2)=ηで表されるメタライゼーションレシオηの基準値η0と、前記IDT電極の電極膜厚Hを前記波長λにより規格化したH/λの関係が以下を満たす。η0=−691.6667(H/λ)3+1.3929(H/λ)2+1.5331(H/λ)+0.2081 (もっと読む)


【課題】高さ寸法を小さくした表面実装用の恒温型発振器を提供する。
【解決手段】水晶デバイス1とともに発熱用抵抗体5hを配設したセラミックからなる平板状の第1基板11aと、これと面対向して第1基板11aより平面外形が大きなガラスエポキシからなる矩形状の第2基板11bとを備え、第2基板11bは水晶デバイス1が挿入される開口部12を中央領域に有し、第1基板11aの表面外周及び第2基板11bの開口部12の周辺表面のそれぞれ対応する4箇所には端子部16aを有し、端子部16a同士は半田によって接続されており、第2基板11bの開口部12に挿入される水晶デバイス1の先端側頭部は開口部12の開口面内に位置し、第2基板11bの4箇所の端子部16aからはそれぞれ導電路が延出して第2基板11bの外側面を経て外部端子16cが外底面に形成された構成とする。 (もっと読む)


【課題】 出力波形の割れや抜けを無くし、回路の誤動作が防止される低電圧動作のレベルシフト回路を提供する。
【解決手段】 レベルシフト回路は、電源端子VDDにソースを接続した第1のPMOSトランジスタP1と、接地端子GNDにソースを接続したNMOSトランジスタN1と、PMOSP1のドレインとNMOSN1のドレインとの接続点に接続された出力端子OUTと、NMOSN1のゲートに接続された入力端子INと、電源端子VDDにソースを接続し、PMOSP1のゲートにドレイン及びゲートを接続し、このドレインを第2の抵抗R2を介して接地端子GNDに接続した第2のPMOSトランジスタP2とを有し、PMOSP1及びP2は、カレントミラー回路を構成している。レベルシフト回路の出力波形の割れや抜けが無くなって誤動作を防止することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】小型化された圧電振動片にも対応でき、2次振動モードなどの高調波振動モードでの発振を確実に抑制できる圧電振動片を提供する。
【解決手段】圧電振動片は、基部10と、基部10から延びる一対の振動腕11,12と、振動腕11,12に形成されている励振電極14a,14bと、振動腕11,12の基部10との接続部であり、屈曲振動により屈曲する第1屈曲部21と、第1屈曲部21より振動腕11,12の先端側であり、2次振動モードで屈曲する第2屈曲部22と、を有し、第2屈曲部22の少なくとも一部に、第2屈曲部22の周囲とは組織構造の異なる変質部30が形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】発振周波数の変動を防ぐ圧電デバイスを提供する。
【解決手段】圧電デバイス100は、長辺方向がX軸であり、短辺方向がZ’軸であり、厚み方向がY’軸である直方体状の圧電素板に励振用電極122を被着形成し、その励振用電極122から前記圧電素板に対して同じ長辺に位置するように引き出し電極123が形成されている圧電振動素子120と、前記圧電振動素子の引き出し電極に対向する位置に2個一対の搭載部113が設けられ、前記2個一対の搭載部113にそれぞれ2個一対の圧電振動素子搭載パッド114が設けられている素子搭載部材110と、前記圧電振動素子120を気密封止する蓋部材130と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】容易に周波数調整が可能な振動片の構成を提供する。
【解決手段】基部15と、基部15から延びる面外振動をする振動腕11,12,13と、振動腕11,12,13の共振周波数を調整する第1質量部51,52,53と、を有し、第1質量部51,52,53は振動腕11,12,13の面外振動により圧縮または伸長する第1面と、第1面が圧縮した時に伸長し第1面が伸長した時に圧縮する第2面とを有し、第1質量部51,52,53は第1面および第2面の少なくとも一方の面であって、振動腕11,12,13の基部15側の端部から先端部までの長さの略中心に形成されている。 (もっと読む)


【課題】貫通電極に凹部が生じることを防ぐこと。
【解決手段】第1のガラス材料からなる筒体6内に金属材料からなる芯材部7を挿入し筒体6を加熱することにより、筒体6を芯材部7に溶着させて電極部材8を形成する電極部材形成工程と、第2のガラス材料からなる貫通電極形成基板用ウエハ41に電極部材8を配置する孔部24を形成する孔部形成工程と、前記ウエハ41に形成された孔部24に電極部材8を配置する電極部材配置工程と、前記ウエハ41と電極部材8とを加熱して両者を溶着させる溶着工程と、前記ウエハ41と電極部材8とを冷却する冷却工程とを有し、溶着工程では、前記ウエハ41の表面に加圧型63を設置して加圧型63で前記ウエハ41を押圧すると共に、第1のガラス材料の軟化点および第2のガラス材料の軟化点より高温に前記ウエハ41と電極部材8とを加熱することにより、両者を溶着させるパッケージの製造方法を提供する。 (もっと読む)


101 - 120 / 806