アルコール類の製造方法
【課題】β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の工業的な製法を提供すること。
【解決手段】周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
で示されるアルコール類の製造方法。
【解決手段】周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
で示されるアルコール類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類は、例えば、高分子用モノマー、フロン代替用等の各種溶剤や、医農薬等の生物活性物質原料など多くの用途を持つ化合物である（例えば、特許文献１、特許文献２、非特許文献１参照。）。
【０００３】
かかるアルコール類の製造方法としては、一般的には、硫酸などの鉱酸の存在下、対応するエポキシ化合物と、水またはアルコールとの付加開環反応による方法が用いられている（例えば、非特許文献２参照。）。しかしながら、この方法は、鉱酸の除去に伴う操作が必要であったり、廃棄物が発生したり、オリゴマー成分が生成しやすかったりする、といった問題があるため、様々な改良法が開発されてきた。
【０００４】
例えば、活性化アルミナや強酸性イオン交換樹脂等の固体酸を用いる方法（例えば、非特許文献３、非特許文献４参照。）、過塩素酸鉄を用いる方法（例えば、非特許文献５参照。）、三塩化ビスマスを用いる方法（例えば、非特許文献６参照。）、テトラフルオロホウ酸銅（II）を用いる方法（例えば、非特許文献７参照。）などが知られている。しかしながら、固体酸を用いる方法では収率が十分ではなく、その他の方法に用いる触媒は、腐食性等の取扱いに関する問題があり、工業的に実施するにはさらなる改良が望まれていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１１７６８５号公報
【特許文献２】特許第２７８４５７８号公報
【非特許文献１】向山光昭 監訳「工業有機化学」東京化学同人、１４３〜１４９頁（１９７８年）
【非特許文献２】Ｈｅｔｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ ｗｉｔｈ Ｔｈｒｅｅ− ａｎｄ Ｆｏｕｒ−Ｍｅｍｂｅｒｅｄ Ｒｉｎｇｓ Ｐａｒｔ １，２７３〜３０８（１９６４）
【非特許文献３】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９９，８２０８（１９７７）
【非特許文献４】Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２８０（１９８１）
【非特許文献５】Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ， ３０， ２９６７（２０００）
【非特許文献６】Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ， ３０， ２３６５（２０００）
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ，４，２８１７（２００２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような状況の下、本発明者は、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の工業的な製法について鋭意検討したところ、入手の容易な周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、上記のようなエポキシ化合物と水またはアルコールとの付加開環反応を実施すれば、目的とするアルコール類を選択性よく与えることを見出し、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。これらの置換基のうち、任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
【化２】
（式中、Ｒ５は水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるアルコール類の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、入手の容易な金属または化合物から容易に調整できる金属含有シリケートを用いて、エポキシ化合物と、水またはアルコールとから、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類を比較的収率よく製造することができるので、工業的に有利である。かかる金属含有シリケートは腐食性等の取扱いに関する問題がなく、また、用いるシリケートの回収が容易で、リサイクル使用も可能であるため、大量の廃棄物が発生しない点においても有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１０】
本発明において、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケート（以下、金属含有シリケートと略記する。）とは、周期律表第５族元素、第６族元素またはその両方を構成要素として含んだシリケートであれば、特に限定されない。ここで、周期律表第５族元素としては、例えばバナジウム、ニオブ、タンタル等が挙げられ、周期律表第６族元素としては、例えばタングステン、モリブデン、クロム等が挙げられ、バナジウム、モリブテンおよびタングステンが好ましい。
【００１１】
かかる金属含有シリケートは、例えば、特開２００３−３００７２２号公報、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｇｅｎｅｒａｌ １７９，１１（１９９９）および Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２２３１（１９９５）等に記載の方法を用いて製造することができる。好ましくは、周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族元素を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種（以下、金属または化合物と略記する。）と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物（以下、金属酸化物と略記する。）と、ケイ素化合物とを、有機テンプレートの存在下に反応せしめ、得られた固体を洗浄処理または焼成処理せしめる方法が用いられる。以下、該調製方法について説明する。
【００１２】
周期律表第５族金属としては、例えばバナジウム金属、ニオブ金属、タンタル金属が挙げられ、第６族金属としては、例えばタングステン金属、モリブデン金属、クロム金属が挙げられる。また、第５族元素を含む化合物としては、例えば、酸化バナジウム、バナジン酸アンモニウム、バナジウムカルボニル錯体、硫酸バナジウム、硫酸バナジウムエチレンジアミン錯体等のバナジウム化合物；酸化ニオブ、塩化ニオブ、ニオブカルボニル錯体等のニオブ化合物；酸化タンタル、塩化タンタル等のタンタル化合物；などが挙げられ、第６族元素を含む化合物としては、例えば、ホウ化タングステン、炭化タングステン、酸化タングステン、タングステン酸アンモニウム、タングステンカルボニル錯体等のタングステン化合物；ホウ化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン、モリブデンカルボニル錯体等のモリブデン化合物；酸化クロム、塩化クロム等のクロム化合物；などが挙げられる。
【００１３】
かかる金属または化合物の中でも、タングステン金属、モリブデン金属、バナジウム金属、タングステン化合物、モリブデン化合物およびバナジウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。これらの金属または化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。また、金属または化合物のなかには、水和物が存在するものがあるが、本発明には、水和物を用いてもよいし、無水物を用いてもよい。
【００１４】
かかる金属または化合物と過酸化水素とを反応させることにより、金属酸化物が得られるが、過酸化水素としては、通常、水溶液が用いられる。もちろん、過酸化水素の有機溶媒溶液を用いてもよいが、取扱いがより容易であるという点で、過酸化水素水を用いることが好ましい。過酸化水素水もしくは過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には１〜６０重量％程度の範囲である。過酸化水素水は、通常、市販のものをそのままもしくは必要に応じて、希釈、濃縮等により濃度調整を行なったものを用いればよい。また過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素水溶液を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に蒸留処理する等の手段により、調製したものを用いればよい。
【００１５】
金属酸化物を調製する際の過酸化水素の使用量は、金属または化合物に対して、通常、３モル倍以上、好ましくは５モル倍以上であり、その上限は特にない。
【００１６】
金属または化合物と過酸化水素との反応は、通常、水溶液中で実施されるが、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒等の有機溶媒中または該有機溶媒と水との混合溶媒中で実施してもよい。
【００１７】
金属または化合物と過酸化水素との反応は、通常その両者を混合、接触させることにより行われ、金属または化合物と過酸化水素との接触効率を向上させるため、金属酸化物調製液中で金属または化合物が十分に分散するよう攪拌しながら反応を行うことが好ましい。金属酸化物の調製時の調製温度は、通常−１０〜１００℃の範囲である。
【００１８】
金属または化合物と過酸化水素とを水中、有機溶媒中もしくは水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させることにより、金属または化合物の全部もしくは一部が溶解し、金属酸化物を含む均一溶液もしくは懸濁液を調製することができるが、該金属酸化物を、例えば濃縮処理等により調製液から取り出して、本発明の金属含有シリケートを調製する原料として用いてもよいし、該調製液をそのまま用いてもよい。
【００１９】
ケイ素化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが通常は用いられる。その使用量は、通常、金属または化合物あるいはそれらと過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物中の金属原子１モルに対して、ケイ素原子が４モル倍以上であり、その上限は特にない。
【００２０】
有機テンプレートとしては、例えばアルキルアミン、第四級アンモニウム塩、ノニオン界面活性剤等が挙げられ、アルキルアミン、第四級アンモニウム塩が好ましい。アルキルアミンとしては、例えばオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、エイコシルアミン等の炭素数８〜２０のアルキル基で置換された一級アミン；前記一級アミンのアミノ基の窒素原子と結合する水素原子のうち一つが、例えばメチル基等のアルキル基で置換された、例えばメチルオクチルアミン等の二級アミン；前記二級アミンのアミノ基の窒素原子と結合する水素原子が、例えばメチル基等のアルキル基で置換された、例えばジメチルオクチルアミン等の三級アミン等が挙げられ、なかでも一級アミンがより好ましい。
【００２１】
第四級アンモニウム塩としては、アンモニウムイオン（ＮＨ４＋）の四つの水素原子が、同一もしくは相異なる四つの炭素数１〜１８のアルキル基で置換された第四級アンモニウムイオンと、例えば水酸化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン等のアニオンとから構成されるものが挙げられる。具体的には、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルオクチルアンモニウム等の水酸化第四級アンモニウム塩；塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化トリメチルオクチルアンモニウム等の塩化第四級アンモニウム塩；臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリメチルオクチルアンモニウム等の臭化第四級アンモニウム塩等が挙げられ、水酸化第四級アンモニウム塩が好ましい。
【００２２】
ノニオン界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコール類等が挙げられる。
【００２３】
かかる有機テンプレートは、そのまま用いてもよいし、後述する水や親水性溶媒と混合して用いてもよい。有機テンプレートの使用量は、ケイ素化合物に対して、通常０．０３〜１モル倍の範囲である。
【００２４】
有機テンプレートの存在下、前記金属酸化物と、ケイ素化合物との反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。溶媒としては、例えば水、親水性有機溶媒の単独または混合溶媒が挙げられ、好ましくは水単独および水と親水性有機溶媒との混合溶媒が挙げられる。親水性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の親水性アルコール溶媒；アセトニトリル等の親水性ニトリル溶媒；ジオキサン等の親水性エーテル溶媒；などが挙げられ、好ましくは親水性アルコール溶媒が挙げられ、なかでもメタノール、エタノールがより好ましい。かかる溶媒の使用量は、有機テンプレートに対して、通常１〜１０００重量倍程度の範囲である。
【００２５】
反応温度は、通常０〜２００℃程度の範囲である。
【００２６】
反応終了後、例えば、反応液から反応生成物を濾過等により分離すれば、金属含有シリケートを得ることができる。本発明には、反応液から分離した金属含有シリケートを、さらに洗浄処理または焼成処理に付してなる金属含有シリケートを用いることが好ましい。
【００２７】
分離した反応生成物を洗浄処理する場合の洗浄溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール溶媒、水等が挙げられ、その使用量は、特に制限されない。
【００２８】
分離した反応生成物を焼成処理する場合の焼成温度としては、通常３００〜７００℃、好ましくは５００〜６００℃である。焼成時間は、通常０．５〜２０時間である。なお、分離した反応生成物を洗浄処理した後、焼成処理してもよい。
【００２９】
かくして得られる金属含有シリケートは、通常、平均細孔径（窒素吸着法により測定した結果をＢＨＪ法により算出）が４〜１００オングストロームの細孔を有しており、また、その比表面積（窒素吸着法により測定した結果をＢＥＴ多点法（ｐ／ｐ０＝０．１）により算出）は、通常１００ｍ２／ｇ以上である。
【００３０】
次に、金属含有シリケートを触媒として、式（１）で示されるエポキシ化合物（以下、エポキシ化合物（１）と略記する。）と、式（２）で示される水またはアルコール（以下、水またはアルコール（２）と略記する。）とを反応させることによる、式（３）で示されるアルコール類（以下、アルコール類（３）と略記する。）の製造方法について説明する。
【００３１】
エポキシ化合物（１）の式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。また、これらの置換基のうち２つ以上が置換されていてもよいアルキル基である場合には、そのうち任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。
【００３２】
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基上に有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の置換されていてもよいアリール基；エテニル基、１−プロペニル基、１−メチルエテニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−デセニル基等のアルケニル基；カルボキシ基；ヒドロキシ基；などが例示される。かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシカルボニルメチル基、ベンジル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、ヒドロキシメチル基等が挙げられる。
【００３３】
これらの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに形成していてもよい環としては、例えばシクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環等が挙げられる。
【００３４】
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基が挙げられる。かかるアリール基上に有していてもよい置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；などが例示される。かかる置換基で置換されたアリール基としては、例えば２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等が挙げられる。
【００３５】
かかるエポキシ化合物（１）としては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド１，２−エポキシブタン、２，３−エポキシブタン、スチレンオキシド、シクロペンテンオキシド、シクロヘキセンオキシド、１，２−エポキシペンタン、４，４−ジメチル−１，２−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシヘプタン、１，２−エポキシオクタン、１，２−エポキシノナン、１，２−エポキシデカン、１，２−エポキシウンデカン、１，２−エポキシドデカン、１，２−エポキシトリデカン、１，２−エポキシテトラデカン、１，２−エポキシペンタデカン、１，２−エポキシヘキサデカン、１，２−エポキシオクタデカン、３，３−ジメチル−１，２−エポキシブタン、シクロペンチルエチレンオキシド、シクロヘキシルエチレンオキシド、３−シクロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）スチレンオキシド、３−フェニル−１，２−エポキシプロパン、４−メトキシスチレンオキシド、サフロールオキシド、３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、グリシドール、
【００３６】
２−メチル−１，２−エポキシプロパン、２−メチル−１，２−エポキシブタン、２，３−エポキシペンタン、２，３−エポキシヘキサン、２−メチル−１，２−エポキシヘキサン、３，４−エポキシヘキサン、２，３−エポキシヘプタン、３，４−エポキシヘプタン、２，３−エポキシオクタン、３，４−エポキシオクタン、４，５−エポキシオクタン、２，３−エポキシノナン、２−メチル−１，２−エポキシノナン、３，４−エポキシノナン、４，５−エポキシノナン、５，６−エポキシデカン、２−メチル−１，２−エポキシウンデカン、４−メチルシクロヘキセンオキシド、シクロヘプテンオキシド、シクロオクテンオキシド、シクロデセンオキシド、シクロドデセンオキシド、β−メチルスチレンオキシド、スチルベンオキシド、イソサフロールオキシド、１−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、β−ピネンオキシド、ノルボルネンオキシド、
【００３７】
２−メチル−２，３−エポキシペンタン、２−メチル−２，３−エポキシヘキサン、２−メチル−２，３−エポキシヘプタン、１−メチル−１，２−エポキシシクロペンタン、１−メチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、１−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−エポキシシクロヘキサン、１−イソプロピル−１，２−エポキシシクロヘキサン、２−カレンオキシド、３−カレンオキシド、α−ピネンオキシド、２，３−ジメチル−２，３−エポキシブタン、２，３，４−トリメチル−２，３−エポキシペンタン等が挙げられる。
【００３８】
かかるエポキシ化合物（１）の中には、その分子内に不斉炭素原子を有し、光学異性体が存在するものがあるが、本発明には、光学異性体の単独または混合物のいずれも用いることができる。
【００３９】
エポキシ化合物（１）は、例えば、タングステン含有触媒の存在下にオレフィン類を過酸化水素で酸化する方法（例えば、特開２００３−３００９７１号公報参照。）等の公知の方法により製造することができる。
【００４０】
水またはアルコール（２）の式中、Ｒ５は、水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。
【００４１】
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基上に有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の置換されていてもよいアリール基；エテニル基、１−プロペニル基、１−メチルエテニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−デセニル基等のアルケニル基；カルボキシ基；などが例示される。かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシカルボニルメチル基、ベンジル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等が挙げられる。
【００４２】
かかるアルコール（２）としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ペンタノール、シクロペンタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、１−ノナノール、１−デカノール、２−メチル−１−ヘキサノール、３−メチル−１−ヘキサノール、４−メチル−１−ヘキサノール、５−メチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、３−エチル−１−ヘキサノール、４−エチル−１−ヘキサノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、アリルアルコール、３−メチル−２−ブテノール、ベンジルアルコール、２−フルオロベンジルアルコール、３−フルオロベンジルアルコール、４−フルオロベンジルアルコール、２−クロロベンジルアルコール、４−クロロベンジルアルコール、４−ブロモベンジルアルコール、４−メトキシベンジルアルコール等が挙げられる。これらのアルコールは、通常、市販の化合物を用いることができる。
【００４３】
エポキシ化合物（１）に対して、金属含有シリケートを０．００１重量倍以上用いれば、通常、本発明の目的を達成することができる。金属含有シリケートの使用量の上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、エポキシ化合物（１）に対して５重量倍以下である。
【００４４】
水またはアルコール（２）の使用量は、エポキシ化合物（１）に対して、通常１モル倍以上であり、使用量の上限は特になく、反応溶媒を兼ねて大過剰量、例えばエポキシ化合物（１）に対して、５００モル倍を用いてもよい。
【００４５】
エポキシ化合物（１）と水またはアルコール（２）との反応は、通常は無溶媒または溶媒を兼ねて水またはアルコール（２）を過剰量用いて実施されるが、有機溶媒の存在下に実施してもよい。有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；などが挙げられる。有機溶媒の使用量は特に制限されないが、容積効率等を考慮すると、実用的には、エポキシ化合物（１）に対して、１００重量倍以下である。
【００４６】
エポキシ化合物（１）と水またはアルコール（２）との反応は、通常、エポキシ化合物（１）、水またはアルコール（２）および金属含有シリケートを接触、混合することにより実施され、その混合順序は特に制限されない。
【００４７】
通常は常圧条件下で反応を実施するが、減圧条件下や加圧条件下で実施してもよい。反応温度は、通常０〜１００℃の範囲である。
【００４８】
反応の進行は、例えばガスクロマトグラフィ、高速液体クロマトグラフィ、薄層クロマトグラフィ、核磁気共鳴スペクトル分析、赤外吸収スペクトル分析等の通常の分析手段により確認することができる。
【００４９】
反応終了後、例えば、反応液を濾過処理して、金属含有シリケートを分離した後、得られる濾液を濃縮処理もしくは晶析処理することにより、生成したアルコール類（３）を単離することができる。また、前記濾液に、必要に応じて水および／または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、アルコール類（３）を単離することもできる。水に不溶の有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、メチル ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；などが挙げられ、その使用量は特に制限されない。
【００５０】
得られたアルコール類（３）は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ等の手段によりさらに精製してもよい。
【００５１】
かくして得られるアルコール類（３）のうち、ビシナルジオール類としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ヘプタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ドデカンジオール、１−フェニル−１，２−エタンジオール、１−（４−メチルフェニル）−１，２−エタンジオール、３−フェニル−１，２−プロパンジオール、３−（４−メトキシフェニル）−１，２−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、３−エトキシ−１，２−プロパンジオール、３−ベンジルオキシ−１，２−プロパンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，２−シクロヘプタンジオール、１，２−シクロオクタンジオール、３−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、４−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、３，４−ジメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、３，４，５−トリメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、２，３−ヘキサンジオール、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジオール、
【００５２】
２−メチル−１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，２−ペンタンジオール、２，４，４−トリメチル−１，２−ペンタンジオール、２−エチル−１，２−ブタンジオール、２−フェニル−１，２−プロパンジオール、１，１−ジフェニル−１，２−エタンジオール、１−（ヒドロキシメチル）シクロブタノール、１−（ヒドロキシメチル）シクロペンタノール、１−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサノール、ビシクロ［４．１．１］−２−ヒドロキシメチル−６，６−ジメチルヘプタン−２−オール、２−メチル−２，３−ペンタンジオール、３−メチル−２，３−ヘキサンジオール、１−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、１−メチル−１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−ジメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、１，３，５−トリメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、３，４−カレンジオール、１，２−ジ（４−アセトキシフェニル）−１，２−ブタンジオール、ビシクロ［４．４．０］デカン−１，６−ジオール、１，１，２，２−テトラフェニルエチレングリコール、２，３−ジヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン等が挙げられる。
【００５３】
アルコール類（３）のうち、β−アルコキシアルコール類としては、例えば２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、２−メトキシ−１−メチルエタノール、２−メトキシ−２−メチルエタノール、２−エトキシ−１−メチルエタノール、２−エトキシ−２−メチルエタノール、２−プロポキシ−１−メチルエタノール、２−プロポキシ−２−メチルエタノール、２−イソプロポキシ−１−メチルエタノール、２−イソプロポキシ−２−メチルエタノール、２−ブトキシ−１−メチルエタノール、２−ブトキシ−２−メチルエタノール、２−ベンジルオキシ−１−メチルエタノール、２−ベンジルオキシ−２−メチルエタノール、２−メトキシ−１−エチルエタノール、２−メトキシ−２−エチルエタノール、２−エトキシ−１−プロピルエタノール、２−エトキシ−２−プロピルエタノール、２−メトキシ−１−ヘキサノール、２−ヒドロキシ−１−メトキシヘキサン、２−エトキシ−１−ヘプタノール、２−ヒドロキシ−１−エトキシヘプタン、２−プロポキシ−１−オクタノール、２−ヒドロキシ−１−プロポキシオクタン、２−メトキシ−１−ドデカノール、２−ヒドロキシ−１−メトキシドデカン、１−ヒドロキシ−２−フェニル−２−エトキシエタン、１−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニル）−２−エトキシエタン、１−ヒドロキシ−２−メトキシ−３−フェニルプロパン、２−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−フェニルプロパン、１−ヒドロキシ−２−エトキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−１−エトキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパン、１−ヒドロキシ−２−プロポキシ−３−クロロプロパン、２−ヒドロキシ−１−プロポキシ−３−クロロプロパン、１−ヒドロキシ−２−メトキシ−３−エトキシプロパン、２−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−エトキシプロパン、（３−ヒドロキシ−２−エトキシプロピル）ベンジルエーテル、（２−ヒドロキシ−３−エトキシエチル）ベンジルエーテル、
【００５４】
２−メトキシ−２−メチル−１−プロパノール、２，４，４−トリメチル−２−メトキシ−１−ペンタノール、２−エチル−２−エトキシ−１−ブタノール、２−メチル−２−プロポキシ−１−ペンタノール、２−メトキシ−２−フェニル−１−プロパノール、２，２−ジフェニル−２−ブトキシエタノール、１−メトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロブタン、１−エトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン、１−メトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、ビシクロ［３．１．１］−２−エトキシ−２−（ヒドロキシメチル）−６，６−ジメチルヘプタン、１−メトキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン、１−エトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、１−プロポキシ−２−ヒドロキシシクロヘプタン、１−ブトキシ−２−ヒドロキシシクロオクタン、１−メトキシ−２−ヒドロキシ−３−メチルシクロペンタン、１−エトキシ−２−ヒドロキシ−４−メチルシクロペンタン、１−プロポキシ−２−ヒドロキシ−３，４−ジメチルシクロヘキサン、１−ブトキシ−２−ヒドロキシ−３，４，５−トリメチルシクロヘキサン、２−メトキシ−３−ヒドロキシヘキサン、３−エトキシ−２−ヒドロキシヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−プロポキシ−３−オール、２−（２−プロペニルオキシ）−１−シクロヘキサノール、
【００５５】
２−メチル−２−メトキシ−３−ヒドロキシペンタン、３−メチル−３−エトキシ−２−ヒドロキシヘキサン、１−メチル−１−プロポキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン、１，３−ジメチル−１−ブトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、１，３，５−トリメチル−１−メトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、３−エトキシ−４−ヒドロキシカレン、２，３−ジメチル−２−メトキシ−３−ヒドロキシブタン、１，２−ジメチル−１−ヒドロキシ−２−エトキシシクロペンタン、１，２−ジメチル−１−エトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、ビシクロ［４．４．０］−１−プロポキシ−６−ヒドロキシデカン、１−プロポキシ−１−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２，３−ジメチルシクロペンタン、１−ヒドロキシ−１−（１−メトキシ−１−メチルエチル）−２，３−ジメチルシクロペンタン、１−メトキシ−１−（１−ヒドロキシシクロヘキシル）シクロヘキサン、１−エトキシ−１−ヒドロキシ−１，１，２，２−テトラフェニルエタン、２−プロポキシ−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン、２−ヒドロキシ−３−ブトキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン、２，３−ジ（４−アセトキシフェニル）−２−メトキシ−３−ヒドロキシブタン等が挙げられる。
【００５６】
なお、エポキシ化合物（１）として、光学活性体を用いた場合には、得られるアルコール類（３）も、通常は光学活性を示す。
【００５７】
また、反応液から分離した金属含有シリケートは、そのままもしくは必要に応じて濃縮処理等を行った後、エポキシ化合物（１）と、水またはアルコール（２）との反応に再使用することができる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、分析はガスクロマトグラフィ（以下、ＧＣと略記する。）により実施した。また、得られた金属含有シリケートの比表面積および平均細孔径は、いずれもＱｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ社製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−６を用い、１５０℃、１．３５×１０−５Ｋｇ／ｃｍ−２（０．０１３ｋＰａ相当）の脱気条件下で窒素吸着法により測定した。そして、比表面積についてはＢＥＴ多点法（ｐ／ｐ０＝０．１）を用い、平均細孔径についてはＢＨＪ法を用いて、それぞれ算出した。
【００５９】
参考例１＜第四級アンモニウム塩を用いたタングステン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、タングステン金属（粉末）５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で２時間保持し、タングステン酸化物含有溶液を得た。該タングステン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラブチルアンモニウム水溶液２０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、同温度で攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となった。そのまま同温度で２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で２４時間乾燥し、白色固体３８．０ｇを得た。この白色固体を５５０℃で６時間焼成し、白色のタングステン含有シリケート １６．５ｇを得た。
【００６０】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７７オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化タングステンに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７８，１６３８，１０７８，９６０，８０６、５５７ｃｍ−１
元素分析値；Ｗ：９．８％，Ｓｉ：３９．５％
比表面積：５４３ｍ２／ｇ、平均細孔径：１６オングストローム
【００６１】
参考例２＜第四級アンモニウム塩を用いたタングステン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、タングステン金属（粉末）５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で２時間保持し、タングステン酸化物含有溶液を得た。該タングステン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、１０重量％水酸化テトラプロピルアンモニウム水溶液４０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、同温度で攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となった。そのまま同温度で２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で２４時間乾燥し、白色固体３８．０ｇを得た。この白色固体を５５０℃で６時間焼成し、白色のタングステン含有シリケート１７．３ｇを得た。
【００６２】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７６オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化タングステンに帰属されるシャープなピークがわずかに見られた。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４８０，１６３８，１０７８，９５６，８００ｃｍ−１
元素分析値；Ｗ：１１．０％，Ｓｉ：３１．４％
比表面積：５７３ｍ２／ｇ、平均細孔径：２２オングストローム
【００６３】
参考例３＜アルキルアミンを用いたモリブデン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、モリブデン金属（粉末）２ｇとイオン交換水 ２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを１時間かけて滴下し、同温度で１時間保持し、モリブデン酸化物含有溶液を得た。該モリブデン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、ドデシルアミン１０ｇを １０分かけて滴下した。すぐに固体が析出してスラリー状となった。内温２５℃に冷却し、さらに２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１１０℃で６時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、白色のモリブデン含有シリケート１５．５ｇを得た。
【００６４】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．８オングストロームに頂点を持つブロードなピークと酸化モリブデンに帰属されるシャープなピークの混合したスペクトルであった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７０，１６４０，１０９０，９５６，９１５，８０２ｃｍ−１
元素分析値；Ｍｏ：１３．９％，Ｓｉ：３２．４％
比表面積：１７１ｍ２／ｇ、平均細孔径：７３オングストローム
これらの結果から、得られた白色のモリブデン含有シリケートには、酸化モリブデンが混じっていることがわかった。
【００６５】
参考例４＜第四級アンモニウム塩を用いたモリブデン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、モリブデン金属（粉末）２．５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを１時間かけて滴下し、同温度で１時間保持し、モリブデン酸化物含有溶液を得た。該モリブデン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラブチルアンモニウム水溶液２０ｇを１０分かけて滴下した。１５分程度経過すると固体が析出してスラリー状となった。イオン交換水２００ｇを加え、内温２５℃に冷却し、 ２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１１０℃で６時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、白色のモリブデン含有シリケート１５．９ｇを得た。
【００６６】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７９オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化モリブデンに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７０，１６４０，１０８０，９５６，９１３，７９６ｃｍ-1
元素分析値；Ｍｏ：５．２２％，Ｓｉ：３７．０％
比表面積：６４９ｍ２／ｇ、平均細孔径：２２オングストローム
【００６７】
参考例５＜第四級アンモニウム塩を用いたバナジウム含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、バナジウム金属（粉末）１．３ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、３０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で１時間保持し、バナジウム酸化物含有溶液を得た。該バナジウム酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム水溶液４０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となったが、同温度でさらに２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で８時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、褐色のバナジウム含有シリケート１６．０ｇを得た。
【００６８】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．８５オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化バナジウムに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：１０５０，９５６，７９４，６２９ｃｍ-1
元素分析値；Ｖ：５．５６％，Ｓｉ：３６．１％
比表面積：７０８ｍ２／ｇ、平均細孔径：２７オングストローム
【００６９】
実施例１
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例２で調製したタングステン含有シリケート４００ｍｇ、シクロヘキセンオキシド４．０ｇ、メタノール４０ｇを加え、内温６０℃で６時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液を、ろ過し、タングステン含有シリケートを固体として回収した後、溶液のＧＣ分析（内部標準法）により、２−メトキシ−１−シクロヘキサノールの収率を求めた。
２−メトキシ−１−シクロヘキサノール 収率：９９％。
【００７０】
実施例２
実施例１において、参考例２で調製したタングステン含有シリケートに代えて、実施例１で回収されたタングステン含有シリケートの全量を用いること以外は、実施例１と同様に実施した。
２−メトキシ−１−シクロヘキサノール 収率：９８％。
【００７１】
実施例３
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート２０ｍｇ、スチレンオキシド２４０ｍｇ、メタノール２．４ｇを加え、内温６０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にメタノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−メトキシ−２−フェニルエタノール 収率：９５％。
２−メトキシ−１−フェニルエタノール 収率：４％。
【００７２】
実施例４
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート１０ｍｇ、プロピレンオキシド２３２ｍｇ、メタノール２．３ｇを加え、２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にメタノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−メトキシ−１−メチルエタノール 収率：４０％。
２−メトキシ−２−メチルエタノール 収率：３５％。
原料プロピレンオキシドが、１８％回収された。
【００７３】
実施例５
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート６ｍｇ、グリシドール１５０ｍｇ、イソプロパノール１．５ｇを加え、８０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にイソプロパノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
３−イソプロポキシ−１，２−プロパンジオール 収率：２０％。
原料グリシドールが、７８％回収された。
【００７４】
実施例６
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート６０ｍｇ、スチレンオキシド６００ｍｇ、イソプロパノール１．８ｇを加え、８０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にイソプロパノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−イソプロポキシ−２−フェニルエタノール 収率：８５％。
【００７５】
実施例７
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例５で調製したバナジウム含有シリケート２０ｍｇ、スチレンオキシド２４０ｍｇ、水２．４ｇを加え、内温 ８０℃で４時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチルを１０ｇ加え、ろ過し、バナジウム含有シリケートを除去した後、有機層をＧＣ分析（内部標準法）し、収率を求めた。
１−フェニル−１，２−エタンジオール 収率：９７％。
【００７６】
実施例８
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート５８ｍｇ、プロピレンオキシド５８０ｍｇ、水３６０ｍｇを加え、内温２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
プロピレングリコール 収率：６３％。
原料プロピレンオキシドが、３０％回収された。
【００７７】
比較例１
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、アルドリッチ社製ナフィオン−Ｈ８０ｍｇ、プロピレンオキシド１０６０ｍｇ、水６６０ｍｇを加え、内温２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、ナフィオン−Ｈを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
プロピレングリコール 収率：２５％。
原料プロピレンオキシドが、２８％回収された。
【００７８】
実施例９
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート２０ｍｇ、シクロヘキセンオキシド２４０ｍｇ、アリルアルコール １１６０ｍｇを加え、内温６０℃で６時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−（２−プロペニルオキシ）−１−シクロヘキサノール 収率：９８％。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明は、高分子用モノマー、フロン代替用等の各種溶剤や、医農薬等の生物活性物質原料など多くの用途を持つ化合物である、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の工業的製法として利用可能である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類は、例えば、高分子用モノマー、フロン代替用等の各種溶剤や、医農薬等の生物活性物質原料など多くの用途を持つ化合物である（例えば、特許文献１、特許文献２、非特許文献１参照。）。
【０００３】
かかるアルコール類の製造方法としては、一般的には、硫酸などの鉱酸の存在下、対応するエポキシ化合物と、水またはアルコールとの付加開環反応による方法が用いられている（例えば、非特許文献２参照。）。しかしながら、この方法は、鉱酸の除去に伴う操作が必要であったり、廃棄物が発生したり、オリゴマー成分が生成しやすかったりする、といった問題があるため、様々な改良法が開発されてきた。
【０００４】
例えば、活性化アルミナや強酸性イオン交換樹脂等の固体酸を用いる方法（例えば、非特許文献３、非特許文献４参照。）、過塩素酸鉄を用いる方法（例えば、非特許文献５参照。）、三塩化ビスマスを用いる方法（例えば、非特許文献６参照。）、テトラフルオロホウ酸銅（II）を用いる方法（例えば、非特許文献７参照。）などが知られている。しかしながら、固体酸を用いる方法では収率が十分ではなく、その他の方法に用いる触媒は、腐食性等の取扱いに関する問題があり、工業的に実施するにはさらなる改良が望まれていた。
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１１７６８５号公報
【特許文献２】特許第２７８４５７８号公報
【非特許文献１】向山光昭 監訳「工業有機化学」東京化学同人、１４３〜１４９頁（１９７８年）
【非特許文献２】Ｈｅｔｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ ｗｉｔｈ Ｔｈｒｅｅ− ａｎｄ Ｆｏｕｒ−Ｍｅｍｂｅｒｅｄ Ｒｉｎｇｓ Ｐａｒｔ １，２７３〜３０８（１９６４）
【非特許文献３】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９９，８２０８（１９７７）
【非特許文献４】Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２８０（１９８１）
【非特許文献５】Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ， ３０， ２９６７（２０００）
【非特許文献６】Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ， ３０， ２３６５（２０００）
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｅｔｔｅｒｓ，４，２８１７（２００２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような状況の下、本発明者は、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の工業的な製法について鋭意検討したところ、入手の容易な周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、上記のようなエポキシ化合物と水またはアルコールとの付加開環反応を実施すれば、目的とするアルコール類を選択性よく与えることを見出し、本発明に至った。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。これらの置換基のうち、任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
【化２】
（式中、Ｒ５は水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるアルコール類の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、入手の容易な金属または化合物から容易に調整できる金属含有シリケートを用いて、エポキシ化合物と、水またはアルコールとから、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類を比較的収率よく製造することができるので、工業的に有利である。かかる金属含有シリケートは腐食性等の取扱いに関する問題がなく、また、用いるシリケートの回収が容易で、リサイクル使用も可能であるため、大量の廃棄物が発生しない点においても有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１０】
本発明において、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケート（以下、金属含有シリケートと略記する。）とは、周期律表第５族元素、第６族元素またはその両方を構成要素として含んだシリケートであれば、特に限定されない。ここで、周期律表第５族元素としては、例えばバナジウム、ニオブ、タンタル等が挙げられ、周期律表第６族元素としては、例えばタングステン、モリブデン、クロム等が挙げられ、バナジウム、モリブテンおよびタングステンが好ましい。
【００１１】
かかる金属含有シリケートは、例えば、特開２００３−３００７２２号公報、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｇｅｎｅｒａｌ １７９，１１（１９９９）および Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２２３１（１９９５）等に記載の方法を用いて製造することができる。好ましくは、周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族元素を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種（以下、金属または化合物と略記する。）と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物（以下、金属酸化物と略記する。）と、ケイ素化合物とを、有機テンプレートの存在下に反応せしめ、得られた固体を洗浄処理または焼成処理せしめる方法が用いられる。以下、該調製方法について説明する。
【００１２】
周期律表第５族金属としては、例えばバナジウム金属、ニオブ金属、タンタル金属が挙げられ、第６族金属としては、例えばタングステン金属、モリブデン金属、クロム金属が挙げられる。また、第５族元素を含む化合物としては、例えば、酸化バナジウム、バナジン酸アンモニウム、バナジウムカルボニル錯体、硫酸バナジウム、硫酸バナジウムエチレンジアミン錯体等のバナジウム化合物；酸化ニオブ、塩化ニオブ、ニオブカルボニル錯体等のニオブ化合物；酸化タンタル、塩化タンタル等のタンタル化合物；などが挙げられ、第６族元素を含む化合物としては、例えば、ホウ化タングステン、炭化タングステン、酸化タングステン、タングステン酸アンモニウム、タングステンカルボニル錯体等のタングステン化合物；ホウ化モリブデン、酸化モリブデン、塩化モリブデン、モリブデンカルボニル錯体等のモリブデン化合物；酸化クロム、塩化クロム等のクロム化合物；などが挙げられる。
【００１３】
かかる金属または化合物の中でも、タングステン金属、モリブデン金属、バナジウム金属、タングステン化合物、モリブデン化合物およびバナジウム化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。これらの金属または化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。また、金属または化合物のなかには、水和物が存在するものがあるが、本発明には、水和物を用いてもよいし、無水物を用いてもよい。
【００１４】
かかる金属または化合物と過酸化水素とを反応させることにより、金属酸化物が得られるが、過酸化水素としては、通常、水溶液が用いられる。もちろん、過酸化水素の有機溶媒溶液を用いてもよいが、取扱いがより容易であるという点で、過酸化水素水を用いることが好ましい。過酸化水素水もしくは過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限されないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的には１〜６０重量％程度の範囲である。過酸化水素水は、通常、市販のものをそのままもしくは必要に応じて、希釈、濃縮等により濃度調整を行なったものを用いればよい。また過酸化水素の有機溶媒溶液は、例えば過酸化水素水溶液を有機溶媒で抽出処理する、もしくは有機溶媒の存在下に蒸留処理する等の手段により、調製したものを用いればよい。
【００１５】
金属酸化物を調製する際の過酸化水素の使用量は、金属または化合物に対して、通常、３モル倍以上、好ましくは５モル倍以上であり、その上限は特にない。
【００１６】
金属または化合物と過酸化水素との反応は、通常、水溶液中で実施されるが、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒等の有機溶媒中または該有機溶媒と水との混合溶媒中で実施してもよい。
【００１７】
金属または化合物と過酸化水素との反応は、通常その両者を混合、接触させることにより行われ、金属または化合物と過酸化水素との接触効率を向上させるため、金属酸化物調製液中で金属または化合物が十分に分散するよう攪拌しながら反応を行うことが好ましい。金属酸化物の調製時の調製温度は、通常−１０〜１００℃の範囲である。
【００１８】
金属または化合物と過酸化水素とを水中、有機溶媒中もしくは水と有機溶媒の混合溶媒中で反応させることにより、金属または化合物の全部もしくは一部が溶解し、金属酸化物を含む均一溶液もしくは懸濁液を調製することができるが、該金属酸化物を、例えば濃縮処理等により調製液から取り出して、本発明の金属含有シリケートを調製する原料として用いてもよいし、該調製液をそのまま用いてもよい。
【００１９】
ケイ素化合物としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが通常は用いられる。その使用量は、通常、金属または化合物あるいはそれらと過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物中の金属原子１モルに対して、ケイ素原子が４モル倍以上であり、その上限は特にない。
【００２０】
有機テンプレートとしては、例えばアルキルアミン、第四級アンモニウム塩、ノニオン界面活性剤等が挙げられ、アルキルアミン、第四級アンモニウム塩が好ましい。アルキルアミンとしては、例えばオクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、エイコシルアミン等の炭素数８〜２０のアルキル基で置換された一級アミン；前記一級アミンのアミノ基の窒素原子と結合する水素原子のうち一つが、例えばメチル基等のアルキル基で置換された、例えばメチルオクチルアミン等の二級アミン；前記二級アミンのアミノ基の窒素原子と結合する水素原子が、例えばメチル基等のアルキル基で置換された、例えばジメチルオクチルアミン等の三級アミン等が挙げられ、なかでも一級アミンがより好ましい。
【００２１】
第四級アンモニウム塩としては、アンモニウムイオン（ＮＨ４＋）の四つの水素原子が、同一もしくは相異なる四つの炭素数１〜１８のアルキル基で置換された第四級アンモニウムイオンと、例えば水酸化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン等のアニオンとから構成されるものが挙げられる。具体的には、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化テトラプロピルアンモニウム、水酸化テトラブチルアンモニウム、水酸化トリメチルオクチルアンモニウム等の水酸化第四級アンモニウム塩；塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラプロピルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化トリメチルオクチルアンモニウム等の塩化第四級アンモニウム塩；臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラプロピルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリメチルオクチルアンモニウム等の臭化第四級アンモニウム塩等が挙げられ、水酸化第四級アンモニウム塩が好ましい。
【００２２】
ノニオン界面活性剤としては、例えばポリエチレングリコール類等が挙げられる。
【００２３】
かかる有機テンプレートは、そのまま用いてもよいし、後述する水や親水性溶媒と混合して用いてもよい。有機テンプレートの使用量は、ケイ素化合物に対して、通常０．０３〜１モル倍の範囲である。
【００２４】
有機テンプレートの存在下、前記金属酸化物と、ケイ素化合物との反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。溶媒としては、例えば水、親水性有機溶媒の単独または混合溶媒が挙げられ、好ましくは水単独および水と親水性有機溶媒との混合溶媒が挙げられる。親水性有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の親水性アルコール溶媒；アセトニトリル等の親水性ニトリル溶媒；ジオキサン等の親水性エーテル溶媒；などが挙げられ、好ましくは親水性アルコール溶媒が挙げられ、なかでもメタノール、エタノールがより好ましい。かかる溶媒の使用量は、有機テンプレートに対して、通常１〜１０００重量倍程度の範囲である。
【００２５】
反応温度は、通常０〜２００℃程度の範囲である。
【００２６】
反応終了後、例えば、反応液から反応生成物を濾過等により分離すれば、金属含有シリケートを得ることができる。本発明には、反応液から分離した金属含有シリケートを、さらに洗浄処理または焼成処理に付してなる金属含有シリケートを用いることが好ましい。
【００２７】
分離した反応生成物を洗浄処理する場合の洗浄溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール溶媒、水等が挙げられ、その使用量は、特に制限されない。
【００２８】
分離した反応生成物を焼成処理する場合の焼成温度としては、通常３００〜７００℃、好ましくは５００〜６００℃である。焼成時間は、通常０．５〜２０時間である。なお、分離した反応生成物を洗浄処理した後、焼成処理してもよい。
【００２９】
かくして得られる金属含有シリケートは、通常、平均細孔径（窒素吸着法により測定した結果をＢＨＪ法により算出）が４〜１００オングストロームの細孔を有しており、また、その比表面積（窒素吸着法により測定した結果をＢＥＴ多点法（ｐ／ｐ０＝０．１）により算出）は、通常１００ｍ２／ｇ以上である。
【００３０】
次に、金属含有シリケートを触媒として、式（１）で示されるエポキシ化合物（以下、エポキシ化合物（１）と略記する。）と、式（２）で示される水またはアルコール（以下、水またはアルコール（２）と略記する。）とを反応させることによる、式（３）で示されるアルコール類（以下、アルコール類（３）と略記する。）の製造方法について説明する。
【００３１】
エポキシ化合物（１）の式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。また、これらの置換基のうち２つ以上が置換されていてもよいアルキル基である場合には、そのうち任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。
【００３２】
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基上に有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の置換されていてもよいアリール基；エテニル基、１−プロペニル基、１−メチルエテニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−デセニル基等のアルケニル基；カルボキシ基；ヒドロキシ基；などが例示される。かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシカルボニルメチル基、ベンジル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、ヒドロキシメチル基等が挙げられる。
【００３３】
これらの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに形成していてもよい環としては、例えばシクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環等が挙げられる。
【００３４】
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基が挙げられる。かかるアリール基上に有していてもよい置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基；フェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１０のアリール基；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；などが例示される。かかる置換基で置換されたアリール基としては、例えば２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等が挙げられる。
【００３５】
かかるエポキシ化合物（１）としては、例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド１，２−エポキシブタン、２，３−エポキシブタン、スチレンオキシド、シクロペンテンオキシド、シクロヘキセンオキシド、１，２−エポキシペンタン、４，４−ジメチル−１，２−エポキシペンタン、１，２−エポキシヘキサン、１，２−エポキシヘプタン、１，２−エポキシオクタン、１，２−エポキシノナン、１，２−エポキシデカン、１，２−エポキシウンデカン、１，２−エポキシドデカン、１，２−エポキシトリデカン、１，２−エポキシテトラデカン、１，２−エポキシペンタデカン、１，２−エポキシヘキサデカン、１，２−エポキシオクタデカン、３，３−ジメチル−１，２−エポキシブタン、シクロペンチルエチレンオキシド、シクロヘキシルエチレンオキシド、３−シクロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）スチレンオキシド、３−フェニル−１，２−エポキシプロパン、４−メトキシスチレンオキシド、サフロールオキシド、３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、グリシドール、
【００３６】
２−メチル−１，２−エポキシプロパン、２−メチル−１，２−エポキシブタン、２，３−エポキシペンタン、２，３−エポキシヘキサン、２−メチル−１，２−エポキシヘキサン、３，４−エポキシヘキサン、２，３−エポキシヘプタン、３，４−エポキシヘプタン、２，３−エポキシオクタン、３，４−エポキシオクタン、４，５−エポキシオクタン、２，３−エポキシノナン、２−メチル−１，２−エポキシノナン、３，４−エポキシノナン、４，５−エポキシノナン、５，６−エポキシデカン、２−メチル−１，２−エポキシウンデカン、４−メチルシクロヘキセンオキシド、シクロヘプテンオキシド、シクロオクテンオキシド、シクロデセンオキシド、シクロドデセンオキシド、β−メチルスチレンオキシド、スチルベンオキシド、イソサフロールオキシド、１−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１，２−エポキシプロパン、β−ピネンオキシド、ノルボルネンオキシド、
【００３７】
２−メチル−２，３−エポキシペンタン、２−メチル−２，３−エポキシヘキサン、２−メチル−２，３−エポキシヘプタン、１−メチル−１，２−エポキシシクロペンタン、１−メチル−１，２−エポキシシクロヘキサン、１−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１，２−エポキシシクロヘキサン、１−イソプロピル−１，２−エポキシシクロヘキサン、２−カレンオキシド、３−カレンオキシド、α−ピネンオキシド、２，３−ジメチル−２，３−エポキシブタン、２，３，４−トリメチル−２，３−エポキシペンタン等が挙げられる。
【００３８】
かかるエポキシ化合物（１）の中には、その分子内に不斉炭素原子を有し、光学異性体が存在するものがあるが、本発明には、光学異性体の単独または混合物のいずれも用いることができる。
【００３９】
エポキシ化合物（１）は、例えば、タングステン含有触媒の存在下にオレフィン類を過酸化水素で酸化する方法（例えば、特開２００３−３００９７１号公報参照。）等の公知の方法により製造することができる。
【００４０】
水またはアルコール（２）の式中、Ｒ５は、水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。
【００４１】
アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−デシル基、シクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メンチル基等の直鎖状、分枝鎖状または環状の炭素数１〜２０のアルキル基が挙げられる。かかるアルキル基上に有していてもよい置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基等の置換されていてもよいアリール基；エテニル基、１−プロペニル基、１−メチルエテニル基、１−ブテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−デセニル基等のアルケニル基；カルボキシ基；などが例示される。かかる置換基で置換されたアルキル基の具体例としては、クロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、メトキシカルボニルメチル基、ベンジル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等が挙げられる。
【００４２】
かかるアルコール（２）としては、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ペンタノール、シクロペンタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、１−ノナノール、１−デカノール、２−メチル−１−ヘキサノール、３−メチル−１−ヘキサノール、４−メチル−１−ヘキサノール、５−メチル−１−ヘキサノール、２−エチル−１−ヘキサノール、３−エチル−１−ヘキサノール、４−エチル−１−ヘキサノール、２，２−ジメチル−１−プロパノール、アリルアルコール、３−メチル−２−ブテノール、ベンジルアルコール、２−フルオロベンジルアルコール、３−フルオロベンジルアルコール、４−フルオロベンジルアルコール、２−クロロベンジルアルコール、４−クロロベンジルアルコール、４−ブロモベンジルアルコール、４−メトキシベンジルアルコール等が挙げられる。これらのアルコールは、通常、市販の化合物を用いることができる。
【００４３】
エポキシ化合物（１）に対して、金属含有シリケートを０．００１重量倍以上用いれば、通常、本発明の目的を達成することができる。金属含有シリケートの使用量の上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、エポキシ化合物（１）に対して５重量倍以下である。
【００４４】
水またはアルコール（２）の使用量は、エポキシ化合物（１）に対して、通常１モル倍以上であり、使用量の上限は特になく、反応溶媒を兼ねて大過剰量、例えばエポキシ化合物（１）に対して、５００モル倍を用いてもよい。
【００４５】
エポキシ化合物（１）と水またはアルコール（２）との反応は、通常は無溶媒または溶媒を兼ねて水またはアルコール（２）を過剰量用いて実施されるが、有機溶媒の存在下に実施してもよい。有機溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル溶媒；などが挙げられる。有機溶媒の使用量は特に制限されないが、容積効率等を考慮すると、実用的には、エポキシ化合物（１）に対して、１００重量倍以下である。
【００４６】
エポキシ化合物（１）と水またはアルコール（２）との反応は、通常、エポキシ化合物（１）、水またはアルコール（２）および金属含有シリケートを接触、混合することにより実施され、その混合順序は特に制限されない。
【００４７】
通常は常圧条件下で反応を実施するが、減圧条件下や加圧条件下で実施してもよい。反応温度は、通常０〜１００℃の範囲である。
【００４８】
反応の進行は、例えばガスクロマトグラフィ、高速液体クロマトグラフィ、薄層クロマトグラフィ、核磁気共鳴スペクトル分析、赤外吸収スペクトル分析等の通常の分析手段により確認することができる。
【００４９】
反応終了後、例えば、反応液を濾過処理して、金属含有シリケートを分離した後、得られる濾液を濃縮処理もしくは晶析処理することにより、生成したアルコール類（３）を単離することができる。また、前記濾液に、必要に応じて水および／または水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、得られる有機層を濃縮処理することにより、アルコール類（３）を単離することもできる。水に不溶の有機溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ジエチルエーテル、メチル ｔｅｒｔ−ブチルエーテル等のエーテル溶媒；酢酸エチル等のエステル溶媒；などが挙げられ、その使用量は特に制限されない。
【００５０】
得られたアルコール類（３）は、例えば蒸留、カラムクロマトグラフィ等の手段によりさらに精製してもよい。
【００５１】
かくして得られるアルコール類（３）のうち、ビシナルジオール類としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキサンジオール、１，２−ヘプタンジオール、１，２−オクタンジオール、１，２−ドデカンジオール、１−フェニル−１，２−エタンジオール、１−（４−メチルフェニル）−１，２−エタンジオール、３−フェニル−１，２−プロパンジオール、３−（４−メトキシフェニル）−１，２−プロパンジオール、３−クロロ−１，２−プロパンジオール、３−エトキシ−１，２−プロパンジオール、３−ベンジルオキシ−１，２−プロパンジオール、１，２−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，２−シクロヘプタンジオール、１，２−シクロオクタンジオール、３−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、４−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、３，４−ジメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、３，４，５−トリメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、２，３−ヘキサンジオール、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジオール、
【００５２】
２−メチル−１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，２−ペンタンジオール、２，４，４−トリメチル−１，２−ペンタンジオール、２−エチル−１，２−ブタンジオール、２−フェニル−１，２−プロパンジオール、１，１−ジフェニル−１，２−エタンジオール、１−（ヒドロキシメチル）シクロブタノール、１−（ヒドロキシメチル）シクロペンタノール、１−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサノール、ビシクロ［４．１．１］−２−ヒドロキシメチル−６，６−ジメチルヘプタン−２−オール、２−メチル−２，３−ペンタンジオール、３−メチル−２，３−ヘキサンジオール、１−メチル−１，２−シクロペンタンジオール、１−メチル−１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−ジメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、１，３，５−トリメチル−１，２−シクロヘキサンジオール、３，４−カレンジオール、１，２−ジ（４−アセトキシフェニル）−１，２−ブタンジオール、ビシクロ［４．４．０］デカン−１，６−ジオール、１，１，２，２−テトラフェニルエチレングリコール、２，３−ジヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン等が挙げられる。
【００５３】
アルコール類（３）のうち、β−アルコキシアルコール類としては、例えば２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−イソプロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−ベンジルオキシエタノール、２−メトキシ−１−メチルエタノール、２−メトキシ−２−メチルエタノール、２−エトキシ−１−メチルエタノール、２−エトキシ−２−メチルエタノール、２−プロポキシ−１−メチルエタノール、２−プロポキシ−２−メチルエタノール、２−イソプロポキシ−１−メチルエタノール、２−イソプロポキシ−２−メチルエタノール、２−ブトキシ−１−メチルエタノール、２−ブトキシ−２−メチルエタノール、２−ベンジルオキシ−１−メチルエタノール、２−ベンジルオキシ−２−メチルエタノール、２−メトキシ−１−エチルエタノール、２−メトキシ−２−エチルエタノール、２−エトキシ−１−プロピルエタノール、２−エトキシ−２−プロピルエタノール、２−メトキシ−１−ヘキサノール、２−ヒドロキシ−１−メトキシヘキサン、２−エトキシ−１−ヘプタノール、２−ヒドロキシ−１−エトキシヘプタン、２−プロポキシ−１−オクタノール、２−ヒドロキシ−１−プロポキシオクタン、２−メトキシ−１−ドデカノール、２−ヒドロキシ−１−メトキシドデカン、１−ヒドロキシ−２−フェニル−２−エトキシエタン、１−ヒドロキシ−２−（４−メチルフェニル）−２−エトキシエタン、１−ヒドロキシ−２−メトキシ−３−フェニルプロパン、２−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−フェニルプロパン、１−ヒドロキシ−２−エトキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−１−エトキシ−３−（４−メトキシフェニル）プロパン、１−ヒドロキシ−２−プロポキシ−３−クロロプロパン、２−ヒドロキシ−１−プロポキシ−３−クロロプロパン、１−ヒドロキシ−２−メトキシ−３−エトキシプロパン、２−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−エトキシプロパン、（３−ヒドロキシ−２−エトキシプロピル）ベンジルエーテル、（２−ヒドロキシ−３−エトキシエチル）ベンジルエーテル、
【００５４】
２−メトキシ−２−メチル−１−プロパノール、２，４，４−トリメチル−２−メトキシ−１−ペンタノール、２−エチル−２−エトキシ−１−ブタノール、２−メチル−２−プロポキシ−１−ペンタノール、２−メトキシ−２−フェニル−１−プロパノール、２，２−ジフェニル−２−ブトキシエタノール、１−メトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロブタン、１−エトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロペンタン、１−メトキシ−１−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサン、ビシクロ［３．１．１］−２−エトキシ−２−（ヒドロキシメチル）−６，６−ジメチルヘプタン、１−メトキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン、１−エトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、１−プロポキシ−２−ヒドロキシシクロヘプタン、１−ブトキシ−２−ヒドロキシシクロオクタン、１−メトキシ−２−ヒドロキシ−３−メチルシクロペンタン、１−エトキシ−２−ヒドロキシ−４−メチルシクロペンタン、１−プロポキシ−２−ヒドロキシ−３，４−ジメチルシクロヘキサン、１−ブトキシ−２−ヒドロキシ−３，４，５−トリメチルシクロヘキサン、２−メトキシ−３−ヒドロキシヘキサン、３−エトキシ−２−ヒドロキシヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−プロポキシ−３−オール、２−（２−プロペニルオキシ）−１−シクロヘキサノール、
【００５５】
２−メチル−２−メトキシ−３−ヒドロキシペンタン、３−メチル−３−エトキシ−２−ヒドロキシヘキサン、１−メチル−１−プロポキシ−２−ヒドロキシシクロペンタン、１，３−ジメチル−１−ブトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、１，３，５−トリメチル−１−メトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、３−エトキシ−４−ヒドロキシカレン、２，３−ジメチル−２−メトキシ−３−ヒドロキシブタン、１，２−ジメチル−１−ヒドロキシ−２−エトキシシクロペンタン、１，２−ジメチル−１−エトキシ−２−ヒドロキシシクロヘキサン、ビシクロ［４．４．０］−１−プロポキシ−６−ヒドロキシデカン、１−プロポキシ−１−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２，３−ジメチルシクロペンタン、１−ヒドロキシ−１−（１−メトキシ−１−メチルエチル）−２，３−ジメチルシクロペンタン、１−メトキシ−１−（１−ヒドロキシシクロヘキシル）シクロヘキサン、１−エトキシ−１−ヒドロキシ−１，１，２，２−テトラフェニルエタン、２−プロポキシ−３−ヒドロキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン、２−ヒドロキシ−３−ブトキシ−２，３−ジメチル−４−メトキシインダン、２，３−ジ（４−アセトキシフェニル）−２−メトキシ−３−ヒドロキシブタン等が挙げられる。
【００５６】
なお、エポキシ化合物（１）として、光学活性体を用いた場合には、得られるアルコール類（３）も、通常は光学活性を示す。
【００５７】
また、反応液から分離した金属含有シリケートは、そのままもしくは必要に応じて濃縮処理等を行った後、エポキシ化合物（１）と、水またはアルコール（２）との反応に再使用することができる。
【実施例】
【００５８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、分析はガスクロマトグラフィ（以下、ＧＣと略記する。）により実施した。また、得られた金属含有シリケートの比表面積および平均細孔径は、いずれもＱｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ社製Ａｕｔｏｓｏｒｂ−６を用い、１５０℃、１．３５×１０−５Ｋｇ／ｃｍ−２（０．０１３ｋＰａ相当）の脱気条件下で窒素吸着法により測定した。そして、比表面積についてはＢＥＴ多点法（ｐ／ｐ０＝０．１）を用い、平均細孔径についてはＢＨＪ法を用いて、それぞれ算出した。
【００５９】
参考例１＜第四級アンモニウム塩を用いたタングステン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、タングステン金属（粉末）５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で２時間保持し、タングステン酸化物含有溶液を得た。該タングステン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラブチルアンモニウム水溶液２０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、同温度で攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となった。そのまま同温度で２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で２４時間乾燥し、白色固体３８．０ｇを得た。この白色固体を５５０℃で６時間焼成し、白色のタングステン含有シリケート １６．５ｇを得た。
【００６０】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７７オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化タングステンに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７８，１６３８，１０７８，９６０，８０６、５５７ｃｍ−１
元素分析値；Ｗ：９．８％，Ｓｉ：３９．５％
比表面積：５４３ｍ２／ｇ、平均細孔径：１６オングストローム
【００６１】
参考例２＜第四級アンモニウム塩を用いたタングステン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、タングステン金属（粉末）５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で２時間保持し、タングステン酸化物含有溶液を得た。該タングステン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、１０重量％水酸化テトラプロピルアンモニウム水溶液４０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、同温度で攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となった。そのまま同温度で２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で２４時間乾燥し、白色固体３８．０ｇを得た。この白色固体を５５０℃で６時間焼成し、白色のタングステン含有シリケート１７．３ｇを得た。
【００６２】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７６オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化タングステンに帰属されるシャープなピークがわずかに見られた。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４８０，１６３８，１０７８，９５６，８００ｃｍ−１
元素分析値；Ｗ：１１．０％，Ｓｉ：３１．４％
比表面積：５７３ｍ２／ｇ、平均細孔径：２２オングストローム
【００６３】
参考例３＜アルキルアミンを用いたモリブデン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、モリブデン金属（粉末）２ｇとイオン交換水 ２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを１時間かけて滴下し、同温度で１時間保持し、モリブデン酸化物含有溶液を得た。該モリブデン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、ドデシルアミン１０ｇを １０分かけて滴下した。すぐに固体が析出してスラリー状となった。内温２５℃に冷却し、さらに２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１１０℃で６時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、白色のモリブデン含有シリケート１５．５ｇを得た。
【００６４】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．８オングストロームに頂点を持つブロードなピークと酸化モリブデンに帰属されるシャープなピークの混合したスペクトルであった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７０，１６４０，１０９０，９５６，９１５，８０２ｃｍ−１
元素分析値；Ｍｏ：１３．９％，Ｓｉ：３２．４％
比表面積：１７１ｍ２／ｇ、平均細孔径：７３オングストローム
これらの結果から、得られた白色のモリブデン含有シリケートには、酸化モリブデンが混じっていることがわかった。
【００６５】
参考例４＜第四級アンモニウム塩を用いたモリブデン含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、モリブデン金属（粉末）２．５ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、６０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを１時間かけて滴下し、同温度で１時間保持し、モリブデン酸化物含有溶液を得た。該モリブデン酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラブチルアンモニウム水溶液２０ｇを１０分かけて滴下した。１５分程度経過すると固体が析出してスラリー状となった。イオン交換水２００ｇを加え、内温２５℃に冷却し、 ２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１１０℃で６時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、白色のモリブデン含有シリケート１５．９ｇを得た。
【００６６】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．７９オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化モリブデンに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：３４７０，１６４０，１０８０，９５６，９１３，７９６ｃｍ-1
元素分析値；Ｍｏ：５．２２％，Ｓｉ：３７．０％
比表面積：６４９ｍ２／ｇ、平均細孔径：２２オングストローム
【００６７】
参考例５＜第四級アンモニウム塩を用いたバナジウム含有シリケートの調製＞
誘導攪拌器付き５００ｍＬフラスコに、バナジウム金属（粉末）１．３ｇとイオン交換水２５ｇを加え、内温４０℃に昇温した後、３０重量％過酸化水素水溶液１５ｇを３０分かけて滴下し、同温度で１時間保持し、バナジウム酸化物含有溶液を得た。該バナジウム酸化物含有溶液に、イオン交換水７５ｇおよびエタノール８０ｇを加えた後、内温４０℃で、テトラエトキシシラン４１．６ｇを１０分かけて仕込んだ後、４０重量％水酸化テトラ−ｎ−プロピルアンモニウム水溶液４０ｇを１０分かけて滴下した。その後、内温２５℃まで冷却し、攪拌を継続していると、３０分程度で固体が析出してスラリー状となったが、同温度でさらに２４時間攪拌、保持した。得られたスラリー液から、固体を濾取し、イオン交換水１００ｇで２回洗浄し、１３０℃で８時間乾燥し、次いで５５０℃で６時間焼成し、褐色のバナジウム含有シリケート１６．０ｇを得た。
【００６８】
ＸＲＤスペクトル：ｄ値３．８５オングストロームに頂点を持つブロードなピークを示した。酸化バナジウムに帰属されるシャープなピークは見られなかった。
ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
νｍａｘ：１０５０，９５６，７９４，６２９ｃｍ-1
元素分析値；Ｖ：５．５６％，Ｓｉ：３６．１％
比表面積：７０８ｍ２／ｇ、平均細孔径：２７オングストローム
【００６９】
実施例１
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例２で調製したタングステン含有シリケート４００ｍｇ、シクロヘキセンオキシド４．０ｇ、メタノール４０ｇを加え、内温６０℃で６時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液を、ろ過し、タングステン含有シリケートを固体として回収した後、溶液のＧＣ分析（内部標準法）により、２−メトキシ−１−シクロヘキサノールの収率を求めた。
２−メトキシ−１−シクロヘキサノール 収率：９９％。
【００７０】
実施例２
実施例１において、参考例２で調製したタングステン含有シリケートに代えて、実施例１で回収されたタングステン含有シリケートの全量を用いること以外は、実施例１と同様に実施した。
２−メトキシ−１−シクロヘキサノール 収率：９８％。
【００７１】
実施例３
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート２０ｍｇ、スチレンオキシド２４０ｍｇ、メタノール２．４ｇを加え、内温６０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にメタノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−メトキシ−２−フェニルエタノール 収率：９５％。
２−メトキシ−１−フェニルエタノール 収率：４％。
【００７２】
実施例４
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート１０ｍｇ、プロピレンオキシド２３２ｍｇ、メタノール２．３ｇを加え、２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にメタノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−メトキシ−１−メチルエタノール 収率：４０％。
２−メトキシ−２−メチルエタノール 収率：３５％。
原料プロピレンオキシドが、１８％回収された。
【００７３】
実施例５
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート６ｍｇ、グリシドール１５０ｍｇ、イソプロパノール１．５ｇを加え、８０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にイソプロパノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
３−イソプロポキシ−１，２−プロパンジオール 収率：２０％。
原料グリシドールが、７８％回収された。
【００７４】
実施例６
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート６０ｍｇ、スチレンオキシド６００ｍｇ、イソプロパノール１．８ｇを加え、８０℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液にイソプロパノールを１０ｇ加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−イソプロポキシ−２−フェニルエタノール 収率：８５％。
【００７５】
実施例７
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例５で調製したバナジウム含有シリケート２０ｍｇ、スチレンオキシド２４０ｍｇ、水２．４ｇを加え、内温 ８０℃で４時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチルを１０ｇ加え、ろ過し、バナジウム含有シリケートを除去した後、有機層をＧＣ分析（内部標準法）し、収率を求めた。
１−フェニル−１，２−エタンジオール 収率：９７％。
【００７６】
実施例８
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート５８ｍｇ、プロピレンオキシド５８０ｍｇ、水３６０ｍｇを加え、内温２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
プロピレングリコール 収率：６３％。
原料プロピレンオキシドが、３０％回収された。
【００７７】
比較例１
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、アルドリッチ社製ナフィオン−Ｈ８０ｍｇ、プロピレンオキシド１０６０ｍｇ、水６６０ｍｇを加え、内温２５℃で５時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、ナフィオン−Ｈを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
プロピレングリコール 収率：２５％。
原料プロピレンオキシドが、２８％回収された。
【００７８】
実施例９
磁気回転子および還流冷却管を付した５０ｍＬフラスコに、参考例３で調製したモリブデン含有シリケート２０ｍｇ、シクロヘキセンオキシド２４０ｍｇ、アリルアルコール １１６０ｍｇを加え、内温６０℃で６時間攪拌、保持し、反応させた。得られた反応液に酢酸エチル１０ｇを加え、ろ過し、モリブデン含有シリケートを除去した後、ＧＣ分析（内部標準法）により収率を求めた。
２−（２−プロペニルオキシ）−１−シクロヘキサノール 収率：９８％。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明は、高分子用モノマー、フロン代替用等の各種溶剤や、医農薬等の生物活性物質原料など多くの用途を持つ化合物である、β位にヒドロキシ基またはアルコキシ基を有するアルコール類の工業的製法として利用可能である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。これらの置換基のうち、任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
【化２】
（式中、Ｒ５は水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるアルコール類の製造方法。
【請求項２】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートが、バナジウム、モリブテンおよびタングステンからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートが、周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族金属を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物と、ケイ素化合物とを、有機テンプレートの存在下に反応せしめてなる金属含有シリケートである請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
金属含有シリケートが、反応終了後、反応生成物を反応液から分離し、分離した反応生成物を洗浄処理または焼成処理して得られる金属含有シリケートである請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族元素を含む化合物が、タングステン金属、モリブデン金属、バナジウム金属、タングステン化合物、モリブデン化合物およびバナジウム化合物である請求項３または４に記載の製造方法。
【請求項６】
有機テンプレートが、アルキルアミン、第四級アンモニウム塩またはノニオン系界面活性剤である請求項３に記載の製造方法。
【請求項７】
有機テンプレートが、アルキルアミンまたは第四級アンモニウム塩である請求項３に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の製造方法において、式（３）で示されるアルコール類の製造後に、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートを回収し、該シリケートをリサイクル使用する方法。
【請求項１】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートの存在下に、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ同一または相異なって、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアリール基または水素原子を表す。これらの置換基のうち、任意の２つの置換されていてもよいアルキル基同士が結合して、その結合炭素原子とともに環を形成していてもよい。）
で示されるエポキシ化合物と、式（２）
【化２】
（式中、Ｒ５は水素原子または置換されていてもよいアルキル基を表す。）
で示される水またはアルコールとを反応させることを特徴とする式（３）
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ上記と同じ意味を表す。）
で示されるアルコール類の製造方法。
【請求項２】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートが、バナジウム、モリブテンおよびタングステンからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートである請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートが、周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族金属を含む化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種と過酸化水素とを反応せしめてなる金属酸化物と、ケイ素化合物とを、有機テンプレートの存在下に反応せしめてなる金属含有シリケートである請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
金属含有シリケートが、反応終了後、反応生成物を反応液から分離し、分離した反応生成物を洗浄処理または焼成処理して得られる金属含有シリケートである請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
周期律表第５族金属、第６族金属、第５族元素を含む化合物および第６族元素を含む化合物が、タングステン金属、モリブデン金属、バナジウム金属、タングステン化合物、モリブデン化合物およびバナジウム化合物である請求項３または４に記載の製造方法。
【請求項６】
有機テンプレートが、アルキルアミン、第四級アンモニウム塩またはノニオン系界面活性剤である請求項３に記載の製造方法。
【請求項７】
有機テンプレートが、アルキルアミンまたは第四級アンモニウム塩である請求項３に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載の製造方法において、式（３）で示されるアルコール類の製造後に、周期律表第５族元素および第６族元素からなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を構成要素として含有するシリケートを回収し、該シリケートをリサイクル使用する方法。
【公開番号】特開２００６−１９３５０８（Ｐ２００６−１９３５０８Ａ）
【公開日】平成１８年７月２７日（２００６．７．２７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−３３３７５７（Ｐ２００５−３３３７５７）
【出願日】平成１７年１１月１８日（２００５．１１．１８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年７月２７日（２００６．７．２７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年１１月１８日（２００５．１１．１８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]