シンコナアルカロイドを基本構造とする二官能触媒を用いた不斉マイケル付加およびアルドール付加反応
ひとつの側面から見ると、本発明は、キニンおよびキニジンに基づく触媒に関する。別の側面から見ると、本発明は、キニンまたはキニジンの誘導体に基づく触媒の調製法に関し:1)キニンまたはキニジンに5当量の塩基および適切な脱離基を有する化合物を反応させ、さらに、2)環状メトキシ基を水酸基に転換させる段階を含む。さらに別の側面から見ると、本発明は、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法に関し、:触媒の存在下、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンに求核剤を反応させ、それによってキラル非ラセミ化合物を生成させるが、ここで、該触媒はキニンまたはキニジンの誘導体である。また別の側面から見ると、本発明は動力学的分割法に関し、キニンまたはキニジン誘導体の存在下、ラセミキラルアルケンを求核剤と反応させる段階を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記の構造式Iで表される化合物。
【化1】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項2】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項1記載の化合物。
【請求項3】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項4】
nは0であることを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項5】
mは0であることを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項6】
下記の構造式IIで表される化合物。
【化2】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項7】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項6記載の化合物。
【請求項8】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項9】
nは0であることを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項10】
mは0であることを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項11】
下記のスキーム1で表されるシンコナアルカロイド誘導体触媒の調製法。
【化3】
(ここで、それぞれ別異に、
Xは、Cl、Br、I、OSO2CH3またはOSO2CF3を表し;
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;
塩基はブレンステッド塩基である。)
【請求項12】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項11記載の方法。
【請求項13】
下記のスキーム2で表されるシンコナアルカロイド誘導体触媒の調製法。
【化4】
(ここで、それぞれ別異に、
Xは、Cl、Br、I、OSO2CH3またはOSO2CF3を表し;
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、アルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;
塩基はブレンステッド塩基である。)
【請求項14】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項13記載の方法。
【請求項15】
プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法であって:
触媒の存在下、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンを求核剤と反応させ;それによってキラル非ラセミ化合物を生成する工程を含み;前記触媒は下記の構造式Iで表されることを特徴とする方法。
【化5】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、H、あるいは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項16】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項15記載の方法。
【請求項17】
Rは、H、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項18】
前記求核剤は、二級または三級求核剤であることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項19】
前記求核剤は、マロネートまたはβ−ケトエステルであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項20】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アルキルアセタートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項21】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アリールアセタートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項22】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ニトロアルケンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項23】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ジアルキルアゾジカルボキシラートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項24】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルスルホンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項25】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルケトンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項26】
プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法であって:
触媒の存在下、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンを求核剤と反応させ;それによってキラル非ラセミ化合物を生成する;工程を含み、前記触媒は下記の構造式IIで表されることを特徴とする方法。
【化6】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、H、あるいは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、アルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項27】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項26記載の方法。
【請求項28】
Rは、H、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項29】
前記求核剤は、二級または三級求核剤であることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項30】
前記求核剤は、マロネートまたはβ−ケトエステルであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項31】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アルキルアセタートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項32】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アリールアセタートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項33】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ニトロアルケンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項34】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ジアルキルアゾジカルボキシラートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項35】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルスルホンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項36】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルケトンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項1】
下記の構造式Iで表される化合物。
【化1】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項2】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項1記載の化合物。
【請求項3】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項4】
nは0であることを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項5】
mは0であることを特徴とする請求項2記載の化合物。
【請求項6】
下記の構造式IIで表される化合物。
【化2】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項7】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項6記載の化合物。
【請求項8】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項9】
nは0であることを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項10】
mは0であることを特徴とする請求項7記載の化合物。
【請求項11】
下記のスキーム1で表されるシンコナアルカロイド誘導体触媒の調製法。
【化3】
(ここで、それぞれ別異に、
Xは、Cl、Br、I、OSO2CH3またはOSO2CF3を表し;
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;
塩基はブレンステッド塩基である。)
【請求項12】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項11記載の方法。
【請求項13】
下記のスキーム2で表されるシンコナアルカロイド誘導体触媒の調製法。
【化4】
(ここで、それぞれ別異に、
Xは、Cl、Br、I、OSO2CH3またはOSO2CF3を表し;
Rは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、アルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;
塩基はブレンステッド塩基である。)
【請求項14】
Rは、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項13記載の方法。
【請求項15】
プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法であって:
触媒の存在下、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンを求核剤と反応させ;それによってキラル非ラセミ化合物を生成する工程を含み;前記触媒は下記の構造式Iで表されることを特徴とする方法。
【化5】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、H、あるいは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、置換または未置換のアルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項16】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項15記載の方法。
【請求項17】
Rは、H、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項18】
前記求核剤は、二級または三級求核剤であることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項19】
前記求核剤は、マロネートまたはβ−ケトエステルであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項20】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アルキルアセタートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項21】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アリールアセタートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項22】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ニトロアルケンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項23】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ジアルキルアゾジカルボキシラートであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項24】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルスルホンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項25】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルケトンであることを特徴とする請求項16記載の方法。
【請求項26】
プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法であって:
触媒の存在下、プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンを求核剤と反応させ;それによってキラル非ラセミ化合物を生成する;工程を含み、前記触媒は下記の構造式IIで表されることを特徴とする方法。
【化6】
(ここで、それぞれ別異に、
Rは、H、あるいは、置換または未置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、複素環もしくはヘテロシクロアルキルを表し;
R1は、アルキルもしくはアルケニルを表し;
R2およびR3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、水酸基、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホナート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒドまたはエステルを表し;
nは、0〜5までの整数であり;
mは、0〜8までの整数であり;さらに、
R4は、−OH、−OTf、−ONf、−SH、−NH2、−NHR2、−NH(C=O)NR2R3、−NH(SO2)R2、−NH(C=O)OR2または−NH(C=O)R2を表す。)
【請求項27】
R4は−OHを表すことを特徴とする請求項26記載の方法。
【請求項28】
Rは、H、アリールまたはアラルキルを表すことを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項29】
前記求核剤は、二級または三級求核剤であることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項30】
前記求核剤は、マロネートまたはβ−ケトエステルであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項31】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アルキルアセタートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項32】
前記求核剤は、アルキル2−シアノ−2−アリールアセタートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項33】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ニトロアルケンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項34】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、ジアルキルアゾジカルボキシラートであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項35】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルスルホンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【請求項36】
前記プロキラル電子欠損アルケンもしくはアゾ化合物、あるいはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンは、アルケニルケトンであることを特徴とする請求項27記載の方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【公表番号】特表2008−501689(P2008−501689A)
【公表日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−515463(P2007−515463)
【出願日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【国際出願番号】PCT/US2005/018973
【国際公開番号】WO2005/121137
【国際公開日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【出願人】(502361511)ブランデイス ユニヴァーシティー (8)
【Fターム(参考)】
【公表日】平成20年1月24日(2008.1.24)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年5月27日(2005.5.27)
【国際出願番号】PCT/US2005/018973
【国際公開番号】WO2005/121137
【国際公開日】平成17年12月22日(2005.12.22)
【出願人】(502361511)ブランデイス ユニヴァーシティー (8)
【Fターム(参考)】
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