説明

タッチパネル用画像高精細性フィルム

【課題】 手や指による押圧により発生するニュートンリングを防止し、画面上のぎらつきを防止することができるタッチパネル用画像高精細性フィルムを提供する。
【解決手段】 表面を修飾されたシリカにて微細な凹凸が形成されたフィルムであって、微細な凹凸を形成する化合物として、(メタ)アクリルシランにより表面を修飾されたシリカを用いる。形成する際は、放射線硬化型樹脂の表面処理されたシリカを分散し、溶剤にて適宜粘度調整したものをフィルムに塗布し、紫外線、電子線などを照射して硬化させる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は透明なタッチパネル等に好適なフィルムに関し、詳しくはニュートンリングの発生を防止できるタッチパネル用画像高精細性フィルムに関する。
【背景技術】
【0002】
近年、画像表示素子として液晶表示装置が注目されており、携帯用の電子手帳、情報端末機などに利用されている。これらの入力装置としては、液晶表示素子の上に透明なタッチパネルを載せたものが知られており、構造的には、透明導電性フィルムと基盤とが適当な隙間を設けて隔てられ、タッチ側のパネル面を指やペン等で押圧すると、必要な情報が電気的な信号として入力され、その結果は画面に表示されるようになっている。
【0003】
しかしながら、指やペン等による押圧操作によりタッチパネルと基盤とが密着した際、どちららかの表面に歪みが生じ、反射光の干渉に起因して、タッチ点を中心に虹色の縞模様、いわゆるニュートンリングと称せられる干渉縞が見られ、視認性が悪くなることがある。
【0004】
このような問題に対処するため、透明導電性フィルムに使用される透明高分子フィルムには、その裏面にエンボス加工により特定範囲の中心線平均粗さ(Ra)、及び最大高さ(Rmax)を有する微細な凹凸を無数に賦形し、干渉縞の発生を抑制する方法や、また、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などをバインダー成分として、酸化アルミ、酸化チタン、シリカ等の微粉末を混合し、フィルム裏面に塗布、乾燥、硬化することで微細な凹凸を形成し、干渉縞を抑制する方法が開示されている。
【特許文献1】特開2004−284117号公報
【特許文献2】特開平5−162261号公報
【特許文献3】特開2002−148405号公報
【特許文献4】特開2002−22961号公報
【特許文献5】特開平10−180950号公報
【特許文献6】特開2002−3751号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、エンボス加工といった物理的手段を用いると設備的に大がかりになり、また、微粉末を混入した塗料を用いると、硬化後の粒子の均一性が悪く、画面上でのぎらつきが生じるといった問題があった。このぎらつきは高精細化されたカラー画面の特に白色部分で顕著であり、利用者に不快感を与えていた。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明はかかる状況に鑑み検討されたもので、操作者による手や指による押圧により発生するニュートンリングを防止するフィルムを提供することを目的とするもので、透明フィルムの裏面に、微細凹凸層が塗工により形成されたタッチパネル用画像高精細性フィルムであって、該微細凹凸層が(メタ)アクリルシランにより表面を修飾されたシリカと樹脂バインダーを含有する層を硬化させて形成することを特徴とし、該シリカの平均粒子径が0.1〜5μmであることを特徴とするタッチパネル用画像高精細性フィルムである。
【発明の効果】
【0007】
本発明では、シリカの表面を(メタ)アクリルシラン化合物により修飾処理したものを樹脂バインダーと混合し、フィルムに塗布して形成した微細な凹凸は、反射光を分散する層となり、ニュートンリングの発生を抑制できる上、しかも表面修飾されたシリカは分散性が著しく高く、フィルム上の粒子分布状態を均一化することができ、画面上のぎらつきを防止することができる。
【0008】
以下、本発明について詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
本発明において用いられるフィルムは、透明なプラスチックフィルムであれば特に限定はなく、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルテンペンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。なかでも、耐候性、加工性、寸法安定性などの点から二軸延伸処理されたポリエステルフィルムが好ましく用いられる。フィルムの厚みは概ね25μm〜250μmであればよい。
【0010】
前記のフィルムには、樹脂との密着性を向上させる目的で、プライマー処理を施したり、サンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などの表面処理を施すことができる。その他、フィルムの表面はタッチパネル用途として傷が付きにくくするためハードコート処理や、外光の反射を抑制するため防眩処理等が施される。
【0011】
本発明に用いる微細凹凸を形成するために用いられる表面修飾されたシリカは、乾式シリカ、湿式シリカ等のシリカ微粒子の表面を、(メタ)アクリルシランにより修飾したものであり、(メタ)アクリルシランにより修飾したことにより樹脂中での分散性が著しく向上し、フィルム上の粒子分布状態を均一化することができ、画面上のぎらつきを防止することができる。
【0012】
前記の乾式シリカ、湿式シリカの内でも湿式シリカの方が表面に多数の水酸基を有しているため特に好ましく、湿式シリカの表面を有機物により修飾させることにより沈降安定性、分散性が向上し、凝集を防ぐものとなる。シリカの平均粒子径は0.1〜5μm、好ましくは0.2〜3.0μmのものが用いられ、形状は特に制約を受けない。平均粒子径の大きいシリカを用いた場合は、ディスプレイ表面から見た外観が劣るだけでなく、本発明で目的とする良好なアンチニュートン性を発現することができない。また、平均粒子径の小さいシリカを用いた場合も、アンチニュートン性を発現することができない。
【0013】
前記のシリカの表面を修飾するために用いられる(メタ)アクリルシランは、硬化皮膜の粒子の均一化、粒子の密着性の向上、耐擦傷性の付与が可能であり、シリカ(微)粒子表面のシラノール基と反応可能な官能基および少なくとも1以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物を反応せしめてなるものである。具体的には、N―(3―(メタ)アクリロキシ―2―ヒドロキシプロピル)―3―アミノプロピルトリエトキシシラン、ビス((メタ)アクリロキシプロピル)―1,1,3,3―テトラメチルジシロキサン、2―(メタ)アクリロキシエチルジメチル(3―(トリメトキシシリル)プロピル)アンモニウムクロライド、(メタ)アクリロキシプロピルビス(トリメチルシロキシ)メチルシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルペンタメチルジシロキサン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリス(メトキシエトキシ)シラン、3―(メタ)アクリロキシトリス(トリメチルシロキシ)シラン、2―(トリメチルシロキシ)エチル(メタ)アクリレート、トリメチルシリル(メタ)アクリレート等が挙げられるが、好ましくは、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3―(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【0014】
乾式シリカ、湿式シリカ等のシリカと(メタ)アクリルシランとを反応させる際の配合比は、シリカに対して0.2〜3重量%である。下限に満たないと粒子安定性が低下するだけでなく、硬化後の粒子分布状態が不均一となり高精細な画像が得られない。また上限を超えると硬化皮膜の性能が低下し、硬度、耐擦傷性が低下する。
【0015】
(メタ)アクリルシランにより表面修飾されたシリカのコールターカウンター法による平均粒子径は、好ましくは0.1〜5μm、好ましくは0.2〜3μmである。下限に満たないと、フィルム表面に凹凸が十分に付与されないために防眩性能を十分に発揮できず、また、上限を超えると、表面修飾シリカの樹脂バインダー中に占める割合が多くなり、粒子の結着能力の低下を来たし、塗膜強度が低下するため好ましくない。
【0016】
フィルムに0.1〜5μm程度の微細な凹凸を形成する手段としては、樹脂バインダーとして放射線硬化型樹脂を用い(メタ)アクリルシラン処理したシリカを、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類等の溶剤に分散し適宜粘度調整した塗工液をグラビアコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法など通常公知の方法で塗布し、乾燥後、電子線あるいは紫外線を照射して硬化させる。
【0017】
電子線を照射する場合は、走査型あるいはカーテン型の電子線加速器を用い、加速電圧1000keV以下、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を照射し、紫外線を照射する場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプ等を用い、100〜400nm、好ましくは200〜400nmの波長領域で、50〜300mJ/cmのエネルギーを有する紫外線を照射する。硬化阻害を防止するため、窒素ガス等の不活性ガス下で照射を行ってもよい。
【0018】
配合割合は樹脂バインダーの固形分100重量部に対して、(メタ)アクリルシラン処理シリカ0.1〜10重量部とするのが望ましく、下限に満たないと十分なアンチニュートン性が得られず、上限を超えると粒子密度が高く、ヘイズ向上の要因となり、高精細な画像が得られない。
【0019】
樹脂バインダーとして用いる放射線硬化型樹脂としては、放射線硬化型アクリルウレタン系樹脂、放射線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、放射線硬化型エポキシアクリレート系樹脂等を挙げることができる。とりわけ、硬度が高く、変色の観点より放射線硬化型アクリルウレタン樹脂を用いるのが好ましい。
【0020】
放射線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー若しくはプレポリマーを反応させ、得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する有するアクリレート又はメタクリレート系のモノマーを反応させたものを用いることができる。
【0021】
とりわけ多官能(メタ)アクリレートを用いることが望まく、(メタ)アクリレート密度を上げ、有機物の架橋度を上げることで硬さ特性を付与することができるからである。官能基数は3〜6が望ましく、6官能より多いと低照射量での硬化が可能となるが塗工、硬化後に不飽和基が残存し変色など耐光性に欠け、逆に3官能より少ないと高照射量が必要となり架橋密度低下につながりシリカの硬さ特性を引き出すことが困難となる。
【0022】
多官能(メタ)アクリレートは、分子中に2個以上のアクリロイル基及び/またはメタクロイル基を有する化合物であり、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、単独、または混合して使用しても良い。また必要に応じ単官能(メタ)アクリレートを混合し使用することもできる。
【0023】
単官能(メタ)アクリレートとしてヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアミル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートや、エトキシエチル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられ、これらは1種単独であるいは2種以上併用することができる。
【0024】
放射線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、ポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有する有するアクリレート又はメタクリレート系のモノマーを反応させたものを用いることができる。
【0025】
又、放射線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤を添加し、反応させたものをものを用いることができる。
【0026】
紫外線や電子線の電離放射線による重合の際に用いる開始剤としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドなどが挙げられ、市販品としてはイルガキュア184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61(以上、チバガイギー製);LucirinLR8728(BASF製);Darocure1116、1173(以上、メルク製);ユベクリルP36(UCB製)などが挙げられる。
【0027】
その他、必要に応じて帯電防止剤、導電性高分子、金属酸化物等を添加してもよく、帯電防止剤としてポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミド、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレン脂肪酸ソルビタンエステル、脂肪酸グリセリンエステル、アルキルポリエチレンイミン等を挙げることができる。カチオン系としてアルキルアミン塩、アルキル第4級アンモニウム塩、アルキルイミダゾリン誘導体等を挙げることができる。またエチレンオキサイドを骨格に持つアクリレート化合物なども使用することができる。
【0028】
導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ3,4−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体を使用することができる。
【0029】
金属酸化物としては、アンチモンドープ型酸化錫(ATO)、錫ドープ型酸化インジウム(ITO)、アルミニウムドープ型酸化亜鉛、アンチモン副酸化物などを使用することができる。
【0030】
また、その他にリチウムイオンなどの金属イオンを混合するイオン伝導型の帯電防止剤も用いることができる。
【0031】
以下、本発明を実施例、比較例に基づき詳細に説明するが、具体例を示すものであって特にこれらに限定するものではない。
【実施例】
【0032】
実施例1
塗工液(A)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びアクリルシラン処理シリカ1重量部(平均粒子径1.9μm、商品名:SE6050−SYB アドマテックス株式会社製)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(A)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が1.5μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0033】
実施例2
塗工液(B)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びアクリルシラン処理シリカ5重量部(平均粒子径1.0μm、商品名:SC4050−SYE アドマテックス株式会社製)、光開始剤3重量部(商品名 Irgacure184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(B)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が1.5μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0034】
実施例3
塗工液(C)
MEK50重量部に対し、テトラメチロールメタントリアクリレート50重量部(固形分100%商品名:A−TMM−3LM−N 新中村化学工業株式会社製)及びアクリルシラン処理シリカ1重量部(平均粒子径1.9μm、商品名:SE6050−SYB アドマテックス株式会社製)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(C)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が1.5μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0035】
実施例4
塗工液(D)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びアクリルシラン処理シリカ2.5重量部(平均粒子径3.5μm 商品名:UF−320 株式会社トクヤマ製をアクリルシラン(KBM−5103:3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン:信越化学工業株式会社)により表面処理)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(D)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が2.0μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0036】
実施例5
塗工液(E)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びアクリルシラン処理シリカ2.5重量部(平均粒子径3.5μm 商品名:UF−320 株式会社トクヤマ製をメタクリルシラン(KBM−503:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン:信越化学工業株式会社)により表面処理)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(E)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が2.0μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0037】
実施例6
塗工液(F)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びメタクリルシラン処理シリカ1重量部(平均粒子径3.1μm 商品名:サイリシア420 富士シリシア化学株式会社製をメタクリルシラン(KBM−502:3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン:信越化学工業株式会社)により表面処理 固形分50%)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌を行う。次いで、塗工液(F)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が2.0μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0038】
実施例7
塗工液(G)
MEK50重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート50重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びメタクリルシラン処理シリカ1重量部(平均粒子径1.3μm 商品名:UF−105 株式会社トクヤマ製をメタクリルシラン(KBE−503:3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン:信越化学工業株式会社)により表面処理)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(G)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が2.0μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行いタッチパネル用画像高精細性フィルムを得た。
【0039】
比較例1
実施例1において、シリカを未処理シリカ(平均粒径1.3μm 商品名:UF−105 株式会社トクヤマ製)にした以外は同様に実施した。
【0040】
比較例2
実施例1において、シリカを未処理シリカ(平均粒径2.7μm 商品名:UF−305 株式会社トクヤマ製)にし、シリカ配合量を2.5重量部に変更した以外は同様に実施した。
【0041】
比較例3
実施例1において、シリカをエポキシ処理シリカ(平均粒径0.6μm 商品名:SC−2050MNJ アドマテックス株式会社製)に変更した以外は同様に実施した。
【0042】
比較例4
実施例1において、シリカ量を7.5重量部に変更した以外は同様に実施した。
【0043】
比較例5
実施例1において、シリカ量を0.025重量部に変更した以外は同様に実施した。
【0044】
比較例6
実施例1において、シリカを未処理シリカ(平均粒径8μm 商品名:サイリシア450 富士シリシア化学株式会社製)に変更した以外は同様に実施した。
【0045】
比較例7
実施例6において、シリカを未処理シリカ(平均粒径8μm 商品名:サイリシア450 富士シリシア化学株式会社製)に変更した以外は同様に実施した。
【0046】
比較例8
塗工液(H)
MEK70重量部に対し、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート30重量部(固形分100%商品名:KAYARAD DPHA 日本化薬株式会社製)及びコロイダルシリカ溶液0.75重量部(平均粒子径0.03μm 固形分50% 商品名:MEK−ST 日産化学工業株式会社製)、光開始剤3重量部(商品名 イルガキュア184 チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製)を混合し攪拌した。次いで、塗工液(H)を188μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(商品名 ルミラー 東レ(株)製)にドライ膜厚が2μmとなるように塗布し、80℃で2分乾燥後、80W/cmの水銀灯で、300mJ/cmの紫外線処理を行った。
【0047】
実施例、比較例の配合を表1に示す。
【0048】
【表1】

【0049】
評価結果を表2に示す。
【0050】
【表2】

【0051】
評価方法
凝集;硬化させた塗工フィルムの表面を実体顕微鏡により観察し、粒子の分布状態を確認した。
光干渉による色縞(色縞);透明タッチパネルを作製し、表面シート側から指で圧した場合の目視判定により行った。
ぎらつき;全面に緑色を表示させた液晶ディスプレイ表面上に作成した高精細フィルムを置き、30cm離れたところから見て特定の部分の輝度が高くなる不自然な「輝き」を目視により確認した。
1:不自然な輝きが全くない。
2:不自然な輝きが極めて少ない。
3:不自然な輝きが少ない。
4:不自然な輝きがあるが画面が見づらくはない。
5:不自然な輝きがあり、画面中に見づらい個所があり、実用上、問題が生じるレベルである。
6:不自然な輝きが多く、全体的に画面が見づらい。


【特許請求の範囲】
【請求項1】
透明フィルムの裏面に、微細凹凸層が形成されたタッチパネル用画像高精細性フィルムであって、該微細凹凸層が、(メタ)アクリルシランにより表面を修飾されたシリカと樹脂バインダーを含有する層を硬化させてなることを特徴とするタッチパネル用画像高精細性フィルム。
【請求項2】
該シリカの平均粒子径が0.1〜5μmであることを特徴とする請求項1記載のタッチパネル用画像高精細性フィルム。


【公開番号】特開2007−72735(P2007−72735A)
【公開日】平成19年3月22日(2007.3.22)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−258619(P2005−258619)
【出願日】平成17年9月7日(2005.9.7)
【出願人】(000100698)アイカ工業株式会社 (566)
【Fターム(参考)】