ハンドリング治具
【課題】被ハンドリング体を支持する際、当接部材からの異物の発生量を低減するとともに、当接部材に取り付けられる衝撃緩衝部材を容易に交換することの可能なハンドリング治具の提供する。
【解決手段】 ハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０を保持する固定アーム４及び回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５に取り付けられ、フォトマスク用基板１０と当接する当接部材としての爪６とを有し、爪６が、フォトマスク用基板１０を係止する係止溝と、この係止溝にフォトマスク用基板１０を導く線状の突起部と、フォトマスク用基板１０と当接するＯリングとを備える。
【解決手段】 ハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０を保持する固定アーム４及び回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５に取り付けられ、フォトマスク用基板１０と当接する当接部材としての爪６とを有し、爪６が、フォトマスク用基板１０を係止する係止溝と、この係止溝にフォトマスク用基板１０を導く線状の突起部と、フォトマスク用基板１０と当接するＯリングとを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハンドリング治具に関し、特に、フォトマスク用基板などの被ハンドリング体を支持する際、当接部材からの異物の発生量を低減するとともに、当接部材に取り付けられる衝撃緩衝部材を容易に交換することの可能なハンドリング治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、半導体装置，表示装置，撮像装置、あるいは、これらの製造におけるリソグラフィー工程において用いられるフォトマスク，磁気記録媒体等の電子デバイスは、各製造工程ごとに異なる複数の製造装置を用いて製造される。たとえば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスク用基板に遮光膜を成膜する成膜装置，遮光膜上にレジストを塗布する塗布装置，レジスト膜にパターン描画を施す描画装置，レジストを現像する現像装置，遮光膜をエッチングするエッチング装置，洗浄装置，各種検査装置など、多数の装置が用いられる。各装置においては、処理部へ移送するための移送手段（ローダー）を備えているのが一般的であるが、装置どうしを連結する連結移送手段を備えていない。このため、作業者が、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用基板，フォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材），及びフォトマスク等（以下、これらフォトマスクを製造する段階を含めた基板を、フォトマスク基板と総称する。）を移動させ、各装置の移送手段に取付け及び取外しを行っている。
【０００３】
また、上記のような電子デバイスは、異物が付着することによって品質が低下することから、クリーンルームにて製造される。しかしながら、クリーンルームにおいても、異物が完全に排除できるわけではなく、異物の付着に注意を払う必要がある。
例えば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスクの製造過程、すなわち、フォトマスク用基板やフォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材）の状態で異物が付着することで、フォトマスクのパターン欠陥につながってしまう。さらに、フォトマスクの完成後に付着した異物は、デバイスのリソグラフィー工程において異物が転写され、デバイス欠陥を引き起こす。したがって、フォトマスク用基板の取扱いにおいて、異物の付着を防止する必要がある。
さらに、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用基板を支持する際、フォトマスク用基板をアーム先端に取り付けられた当接部材に容易に係止するとともに、フォトマスク用基板に衝撃を与えないように支持する必要がある。また、支持したフォトマスク用基板の向きを、たとえば、水平方向から垂直方向に傾けても、フォトマスク用基板が当接部材から滑り落ちないように支持する必要もある。
これら要望を満足すべく、様々なハンドリング治具が開発されてきた。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、被搬送用平板（被ハンドリング体）の側部を保持するための保持部（当接部材）に先端が固定され、被搬送用平板上領域の外側に位置するような形状の第１腕部及び第２腕部が回転支点軸を枢軸として接続された鋏状構造を有するハンドリング治具の技術が開示されている。
このハンドリング治具の保持部は、直方体状のブロックの側面に、被搬送用平板の縁部が係止される係止溝を水平方向に形成し、係止溝の反対側の側面に、アームが嵌入される嵌入溝を垂直方向に形成した構成としてある。また、係止溝の底面に、滑り止めブッシュを突設し、被搬送用平板が保持部から滑り落ちるのを防止するとともに、係止溝の対向する側面を、外方向に向かって幅広に成形しガイド面とすることにより、被搬送用平板を容易に支持することができる。
【特許文献１】特開２０００−１７４１０７号公報 （段落００１６、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１のハンドリング治具は、係止溝に被ハンドリング体を装入する際、ガイド面と被ハンドリング体が線接触した状態で擦れるので、線接触の状態に応じて磨耗粉が多く発生するといった問題があった。特に、被ハンドリング体が、たとえば、フォトマスク用基板のようにクリーンルーム内で製造される場合には、係止溝の上方のガイド面と被ハンドリング体が擦れると、発生した磨耗粉が被ハンドリング体の上面に落下するので、異物付着に起因する不良を低減することができないといった問題があった。
また、滑り止めブッシュ（滑り止め部材）を交換する際、ブロック固定ビスをゆるめて滑り止めブッシュを取り外し、ブロック固定ビスを締めつけて滑り止めブッシュを取り付ける必要があり、作業性が悪いといった問題があった。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決すべく、被ハンドリング体を支持する際、当接部材からの異物の発生量を低減するとともに、当接部材に取り付けられる衝撃緩衝部材を容易に交換することの可能なハンドリング治具の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のハンドリング治具は、板状の被ハンドリング体を端面から挟持するアームと、このアームに取り付けられ、前記被ハンドリング体と当接する当接部材とを有するハンドリング治具であって、前記当接部材が、前記被ハンドリング体を端面付近で係止する係止溝と、被ハンドリング体の係止溝への挿入口であって被ハンドリング体の上面及び／又は下面に対向して形成された、挿入方向に対して傾斜したガイド面とを有し、前記ガイド面のうち少なくとも一面に、被ハンドリング体の挿入方向に延びた線状の突起部を備えた構成としてある。
このようにすると、被ハンドリング体が係止溝に装入される際、たとえば、従来技術においては、係止溝に被ハンドリング体を導くガイド面と被ハンドリング体が線接触の状態で擦れるのに対し、線状の突起部により、被ハンドリング体と点接触の状態で擦れるので、接触部分から発生する異物の発生量を最小限に抑えることができる。
【０００８】
また、本発明のハンドリング治具は、前記突起部は、少なくとも被ハンドリング体の上面に対向して形成されたガイド面に備えられた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク用基板の上面に落下する異物を低減することができるので、異物付着に起因するフォトマスク用基板の品質低下を防止できる。
【０００９】
また、本発明のハンドリング治具は、前記係止溝の内底面に、前記ハンドリング体と当設する弾性部材を備えた構成としてある。
このようにすると、弾性部材とハンドリング体が当接することにより、異物の発生量を低減することができる。
【００１０】
また、本発明のハンドリング治具は、前記弾性部材がＯリングであり、前記Ｏリングの真下に、該Ｏリングと交差するように取外し溝を設けた構成としてある。
このようにすると、取外し溝に、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入してＯリングを摘むことができ、Ｏリングを容易かつ異物を発生させずに取り外すし、交換することができる。
【００１１】
また、本発明のハンドリング治具は、前記当接部材を、前記アームに交換可能に取り付けた構成としてある。
このようにすると、被ハンドリング体に応じた当接部材に交換する際、容易に交換することができる。
【００１２】
また、本発明のハンドリング冶具は、前記被ハンドリング体を、フォトマスク用基板とした構成としてある。
このようにすると、フォトマスク用基板を被ハンドリング対として使用することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のハンドリング治具は、被ハンドリング体を支持する際、線状の突起部により、被ハンドリング体と点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。また、衝撃緩衝部材としてのＯリングの弾性を利用して、Ｏリングを着脱容易に当接部材に取り付けることができ、Ｏリングを交換する際の作業性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、この固定アーム４と対をなす、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５の先端に取り付けられる爪（当接部材）６とからなっている。
なお、ハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０をハンドリングする治具としてあるが、被ハンドリング体としては、フォトマスク用基板１０に限定されるものではない。
【００１５】
（グリップ）
グリップ２は、樹脂製の四角棒としてあり、被ハンドリング体側の上端部に、固定アーム４が二本のねじ４１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の上端部に溝２１を形成し、この溝２１に固定アーム４の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）４１を用いて固定してある（図３（ａ）参照）。このようにすると、固定アーム４が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、固定アーム４を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００１６】
（レバー）
レバー３は、被ハンドリング体側の端部がグリップ２に回動自在に軸支され、四角棒３１がグリップ２とほぼ平行に手前側に延設された構造としてある。
また、レバー３は、被ハンドリング体側の下端部に、回動アーム５が二本のねじ５１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の下端部に溝３２を形成し、この溝３２に回動アーム５の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）５１を用いて固定してある（図３（ａ）参照）。このようにすると、回動アーム５が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、回動アーム５を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
上記構成とすることにより、レバー３は、開方向に回動されると、回動アーム５が開かれ、閉方向に回動されると、回動アーム５が閉じられる。
【００１７】
（固定アーム）
固定アーム４は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
また、固定アーム４は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部４２と上下方向直線部４３が形成される。
【００１８】
（回動アーム）
駆動アームとしての回動アーム５は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
また、回動アーム５は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部５２と上下方向直線部５３が形成される。
【００１９】
（爪）
図２は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を、（ｅ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
同図において、当接部材としての爪６は、樹脂製のほぼ直方体状としてあり、正面下部に水平状態のフォトマスク用基板１０が係止される係止溝６１を左右方向に形成してある。この係止溝６１は、フォトマスク用基板１０を、上面６１１と下面６１２の間に隙間をもって挟むように係止する。
【００２０】
上面６１１の正面側端部は、斜め上方に面取りされ、面取り面６１３が形成されている。この面取り面６１３の両端部に、断面が半円状の突起部６１４（同図（ｅ）参照）が、斜面に沿って線状に形成してある。このようにすると、フォトマスク用基板１０を支持する際、線状の突起部６１４により、フォトマスク用基板１０が係止溝６１に導かれ、フォトマスク用基板１０を係止溝６１に容易に装入することができる。さらに、導かれるとき、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、接触部から発生する異物の発生量を最小限に抑えることができる。
また、支持されたフォトマスク用基板１０の上方に突起部６１４を設けることにより、フォトマスク用基板１０の上面に落下する異物を低減できるので、異物付着に起因するフォトマスク用基板１０の品質低下を効果的に改善することができる。
なお、本実施形態では、突起部６１４を二本設けた構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、一本又は三本以上設けてもよい。
【００２１】
また、下面６１２の正面側端部は、斜め下方に面取りされガイド面６１５が形成されている。
なお、ガイド面６１５に突起部６１４と同様に突起部（図示せず）を形成してもよく、このようにすると、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。
【００２２】
爪６の両側面には、Ｏリング６２を取り付ける矩形環状のＯリング溝６３の形成された側板６４を設けてある。また、この側板６４は、側面から見た形状が上面６１１，下面６１２，ガイド面６１３，６１５とほぼ同様な、上面６４１，下面６４２，ガイド面６４３，６４５を備えた形状としてある。なお、側板６４の形状は、この形状に限定されるものではなく、たとえば、単純な矩形板状の形状としてもよい。
ここで、好ましくは、背面下部の両側であってＯリング６２の真下に、Ｏリング６２と交差するように取外し溝６４６を設けるとよい。このようにすると、取外し溝６４６に、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入することにより、容易にＯリング６２を摘むことができ、Ｏリング６２を容易かつ異物を発生させずに取り外すことができる。
【００２３】
Ｏリング６２は、ゴム製のＯリングとしてあり、取り付けられた状態で、係止溝６１の底面６１０より正面方向に突き出でおり、フォトマスク用基板１０を支持する際、フォトマスク用基板１０と当接し、衝撃緩衝部材として機能する。
また、Ｏリング６２は、滑り止め部材としても機能し、たとえば、フォトマスク用基板１０を支持したハンドリング治具１を、グリップ２の中心軸２０を軸として９０度回転させ、フォトマスク用基板１０を垂直方向に傾けても、フォトマスク用基板１０が係止溝６１に沿って滑らないように支持することができる。
【００２４】
Ｏリング６２は、ゴムの弾性を利用することにより、伸ばした状態でＯリング溝６３に取り付けることができ、また、ピンセットで摘んで取り外すことができるので、容易に取付け及び取外しを行うことができる。
なお、Ｏリング６２が、係止溝６１の底面６１０より正面方向に突き出ることにより、本実施形態では、フォトマスク用基板１０が、上面６１１と下面６１２の先端部によって係止されることとなるが、これに限定されるものではなく、たとえば、突起部６１４とガイド面６１５によって係止される構成としてもよい。
【００２５】
爪６は、背面上部の両端部に凸部６５０を設けることにより、固定アーム４や回動アーム５が嵌入される嵌入溝６５を垂直方向に形成してある。また、正面側から嵌入溝６５に向けて、十字穴付き皿小ねじ（図示せず）が挿入されるねじ穴６５１が穿設してある。このようにすると、嵌入溝６５とねじ穴６５１により、固定アーム４や回動アーム５を位置決めできるので、爪６の交換作業を効率よく行うことができる。このようにすることにより、フォトマスク用基板１０の厚さに応じて、爪６を容易に交換することができ、グリップ２及びレバー３等の主要部を共用化することができる。
なお、固定アーム４に取り付けられた爪６と回動アーム５に取り付けられた爪６は、同じ高さに対向して配設してある。
【００２６】
（軸支機構）
次に、ハンドリング治具１の軸支機構について、図面を参照して説明する。
図３は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＣ−Ｃ断面図を示している。
同図において、グリップ２は、被ハンドリング体側の端部下面に、レバー３の被ハンドリング体側の端部を、非摺動の状態で収納する収納溝２２が形成してある。また、収納溝２２の被ハンドリング体側の端部に、レバー３と当接する凸部２２１が突設してあり、この凸部２２１により、閉方向に付勢されたレバー３の閉方向限界位置が設定される。
【００２７】
グリップ２は、被ハンドリング体側の端部両側面に対向するように配設されたホルダー２５及びすり割り付き止めねじ２７を介して、固定軸２６の両端を支持している。
また、グリップ２は、溝２１の手前側上面から、レバー３に向けて、雌ねじ２８が形成され、さらに、雌ねじ２８とほぼ同径の貫通孔２８１が穿設してあり、圧縮ばね（駆動用ばね）２９が取り付けられる。
圧縮ばね２９は、貫通孔２８１に貫入され、先端部がレバー３の位置決め穴３４に係止された状態で、すり割付き止めねじ２９１が雌ねじ２８に締め込まれることにより、レバー３を閉方向に付勢する。
【００２８】
また、圧縮ばね２９は、先端部が位置決め穴３４に係止されているので、レバー３が、固定軸２６の中心軸方向に移動すると復元力が作用し、レバー３がグリップ２と接触しないように所定のクリアランスを保持することができる。このようにすると、レバー３を回動させても、レバー３とグリップ２が摺動しないので、擦れによる異物の発生を防ぐことができる。
【００２９】
レバー３は、両側からボールベアリング３３が埋設してあり、このボールベアリング３３には、固定軸２６が貫通される。このように、ボールベアリング３３を使用することにより、レバー３が回動されても、ボールベアリング３３内のボール（図示せず）が回転するので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
【００３０】
このように、本実施形態のハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０を支持する際、爪６に設けた突起部６１４がフォトマスク用基板１０の角部と点接触の状態で擦れるので、面接触の状態で擦れていた従来技術と比べると、異物の発生量を大幅に低減することができる。
また、衝撃緩衝部材として、ゴム製のＯリング６２を使用することにより、Ｏリング６２を容易に交換することができ、さらに、取外し溝６４６を設けることにより、Ｏリング６２を取り外す際、ピンセットを用いて、異物を発生させずに容易にＯリング６２を取り外すことができる。
【００３１】
［第二実施形態］
図４は、本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１ａは、第一実施形態と比較して、フォトマスク用基板１０の真上を避けて、固定アーム４ａ及び回動アーム５ａを設け、さらに、爪６ａの嵌入溝６５ａを水平方向に設けた点が相違する。他の構成要素は第一実施形態と同様としてある。
したがって、図４において、図１と同様の構成部分については同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３２】
（固定アーム）
固定アーム４ａは、フォトマスク用基板１０の真上を避けるように、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部４２ａ，上下方向直線部４３ａ及び水平方向直線部４４ａとからなっている。また、前後方向直線部４２ａの手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、水平方向直線部４４ａの先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６ａが取り付けられている。
【００３３】
（回動アーム）
回動アーム５ａは、フォトマスク用基板１０の真上を避けるように、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部５２ａ，上下方向直線部５３ａ及び水平方向直線部５４ａとからなっている。また、前後方向直線部５２ａの手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、水平方向直線部５４ａの先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６ａが取り付けられている。
【００３４】
（爪）
図５は、本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を示している。
同図において、爪６ａは、樹脂製のほぼ四角棒状としてあり、正面中央部に水平状態のフォトマスク用基板１０が係止される係止溝６１ａを左右方向に形成してある。この係止溝６１ａは、フォトマスク用基板１０を、上面６１１ａと下面６１２ａの間に隙間をもって挟むように係止する。
【００３５】
上面６１１ａの正面側端部は、斜め上方に面取りされ、面取り面６１３ａが形成されている。この面取り面６１３ａの両側には、断面が半円状の突起部６１４が、斜面に沿って線状に形成してある。また、下面６１２ａの正面側端部は、斜め下方に面取りされ、面取り面６１５ａが形成されている。この面取り面６１５ａの両側には、断面が半円状の突起部６１４が、斜面に沿って線状に形成してある。このようにすると、フォトマスク用基板１０を支持する際、線状の突起部６１４により、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。
【００３６】
爪６ａは、側面に、Ｏリング６２ａを取り付けるＯリング溝６３ａが形成してある。
ここで、好ましくは、上面の両側であってＯリング６２ａの真下に、Ｏリング６２と交差するように取外し溝６４６ａを設けるとよい。このようにすると、取外し溝６４６ａに、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入することにより、容易にＯリング６２ａを摘むことができ、Ｏリング６２ａを容易かつ異物を発生させずに取り外すことができる。
【００３７】
Ｏリング６２ａは、ゴム製のＯリングとしてあり、取り付けられた状態で、係止溝６１ａの底面６１０ａより正面方向に突き出でおり、フォトマスク用基板１０を支持する際、フォトマスク用基板１０と当接し、衝撃緩衝部材として機能する。また、Ｏリング６２ａは、フォトマスク用基板１０が係止溝６１ａに沿って滑らないように、滑り止め部材としても機能する。
【００３８】
爪６ａは、背面中央部に、固定アーム４や回動アーム５が嵌入される嵌入溝６５ａを水平方向に形成し、正面側から十字穴付きさら小ねじ（図示せず）が挿入されるねじ穴６５１ａが穿設してある。このようにすると、嵌入溝６５ａとねじ穴６５１ａにより、固定アーム４や回動アーム５を位置決めできるので、爪６ａの交換作業を効率よく行うことができる。
なお、固定アーム４や回動アーム５は、Ｏリング６２ａを取り付けた状態でも、水平方向から嵌入溝６５ａに嵌入させることができる。
【００３９】
このように、本実施形態のハンドリング治具１ａは、爪６ａの係止溝６１ａと平行に嵌入溝６５ａを形成してあり、このような構成とした場合であっても、上記第一実施形態と同様に、爪６ａに設けた突起部６１４がフォトマスク用基板１０の角部と点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
また、衝撃緩衝部材として、ゴム製のＯリング６２ａを使用することにより、Ｏリング６２ａを容易に交換することができ、さらに、取外し溝６４６ａを設けることにより、Ｏリング６２ａを取り外す際、ピンセットを用いて、異物を発生させずに容易にＯリング６２ａを取り外すことができる。
【００４０】
以上、本発明のハンドリング治具について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るハンドリング治具は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、上記各実施形態では、ボールベアリング３３を介して、レバー３がグリップ２に付勢された状態で回動自在に軸支されているが、この構成に限定されるものではなく、図示してないが、リニアベアリング等を介して、レバー３をグリップ２に往復移動自在に付勢した状態で取り付ける構成としてもよい。このようにすると、リニアベアリングのローラやボールが回転するので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明のハンドリング治具は、フォトマスク用基板をハンドリングする構成に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等のハンドリング治具にも好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
【図２】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を、（ｅ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
【図３】図３は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＣ−Ｃ断面図を示している。
【図４】本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
【図５】本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を示している。
【符号の説明】
【００４３】
１，１ａ ハンドリング治具
２ グリップ
３ レバー
４，４ａ 固定アーム
５，５ａ 回動アーム
６，６ａ 爪
１０ フォトマスク用基板
２０ 中心軸
２１ 溝
２２ 収納溝
２５ ホルダー
２６ 固定軸
２７ すり割り付き止めねじ
２８ 雌ねじ
２９ 圧縮ばね（駆動用ばね）
３１ 四角棒
３２ 溝
３３ ボールベアリング
３４ 位置決め穴
４１ ねじ
４２，４２ａ 前後方向直線部
４３，４３ａ 上下方向直線部
４４ａ 水平方向直線部
５１ ねじ
５２，５２ａ 前後方向直線部
５３，５３ａ 上下方向直線部
５４ａ 水平方向直線部
６１，６１ａ 溝
６２，６２ａ Ｏリング
６３，６３ａ Ｏリング溝
６４ 側板
６５，６５ａ 嵌入溝
２２１ 凸部
２８１ 貫通孔
２９１ すり割付き止めねじ
６１０，６１０ａ 底面
６１１，６１１ａ 上面
６１２，６１２ａ 下面
６１３，６１３ａ 面取り面
６１４ 突起部
６１５，６１５ａ 面取り面
６４１ 上面
６４２ 下面
６４３ ガイド面
６４５ ガイド面
６４６，６４６ａ 取外し溝
６５０ 凸部
６５１，６５１ａ ねじ穴
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハンドリング治具に関し、特に、フォトマスク用基板などの被ハンドリング体を支持する際、当接部材からの異物の発生量を低減するとともに、当接部材に取り付けられる衝撃緩衝部材を容易に交換することの可能なハンドリング治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、半導体装置，表示装置，撮像装置、あるいは、これらの製造におけるリソグラフィー工程において用いられるフォトマスク，磁気記録媒体等の電子デバイスは、各製造工程ごとに異なる複数の製造装置を用いて製造される。たとえば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスク用基板に遮光膜を成膜する成膜装置，遮光膜上にレジストを塗布する塗布装置，レジスト膜にパターン描画を施す描画装置，レジストを現像する現像装置，遮光膜をエッチングするエッチング装置，洗浄装置，各種検査装置など、多数の装置が用いられる。各装置においては、処理部へ移送するための移送手段（ローダー）を備えているのが一般的であるが、装置どうしを連結する連結移送手段を備えていない。このため、作業者が、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用基板，フォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材），及びフォトマスク等（以下、これらフォトマスクを製造する段階を含めた基板を、フォトマスク基板と総称する。）を移動させ、各装置の移送手段に取付け及び取外しを行っている。
【０００３】
また、上記のような電子デバイスは、異物が付着することによって品質が低下することから、クリーンルームにて製造される。しかしながら、クリーンルームにおいても、異物が完全に排除できるわけではなく、異物の付着に注意を払う必要がある。
例えば、半導体装置，表示装置，撮像装置等の製造に用いられるフォトマスクは、透明基板上に微細加工された遮光膜パターンが形成されたものが代表的であるが、フォトマスクの製造過程、すなわち、フォトマスク用基板やフォトマスクブランク（透明基板上に遮光膜が形成されたフォトマスクの素材）の状態で異物が付着することで、フォトマスクのパターン欠陥につながってしまう。さらに、フォトマスクの完成後に付着した異物は、デバイスのリソグラフィー工程において異物が転写され、デバイス欠陥を引き起こす。したがって、フォトマスク用基板の取扱いにおいて、異物の付着を防止する必要がある。
さらに、ハンドリング治具を用いてフォトマスク用基板を支持する際、フォトマスク用基板をアーム先端に取り付けられた当接部材に容易に係止するとともに、フォトマスク用基板に衝撃を与えないように支持する必要がある。また、支持したフォトマスク用基板の向きを、たとえば、水平方向から垂直方向に傾けても、フォトマスク用基板が当接部材から滑り落ちないように支持する必要もある。
これら要望を満足すべく、様々なハンドリング治具が開発されてきた。
【０００４】
たとえば、特許文献１には、被搬送用平板（被ハンドリング体）の側部を保持するための保持部（当接部材）に先端が固定され、被搬送用平板上領域の外側に位置するような形状の第１腕部及び第２腕部が回転支点軸を枢軸として接続された鋏状構造を有するハンドリング治具の技術が開示されている。
このハンドリング治具の保持部は、直方体状のブロックの側面に、被搬送用平板の縁部が係止される係止溝を水平方向に形成し、係止溝の反対側の側面に、アームが嵌入される嵌入溝を垂直方向に形成した構成としてある。また、係止溝の底面に、滑り止めブッシュを突設し、被搬送用平板が保持部から滑り落ちるのを防止するとともに、係止溝の対向する側面を、外方向に向かって幅広に成形しガイド面とすることにより、被搬送用平板を容易に支持することができる。
【特許文献１】特開２０００−１７４１０７号公報 （段落００１６、図６）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１のハンドリング治具は、係止溝に被ハンドリング体を装入する際、ガイド面と被ハンドリング体が線接触した状態で擦れるので、線接触の状態に応じて磨耗粉が多く発生するといった問題があった。特に、被ハンドリング体が、たとえば、フォトマスク用基板のようにクリーンルーム内で製造される場合には、係止溝の上方のガイド面と被ハンドリング体が擦れると、発生した磨耗粉が被ハンドリング体の上面に落下するので、異物付着に起因する不良を低減することができないといった問題があった。
また、滑り止めブッシュ（滑り止め部材）を交換する際、ブロック固定ビスをゆるめて滑り止めブッシュを取り外し、ブロック固定ビスを締めつけて滑り止めブッシュを取り付ける必要があり、作業性が悪いといった問題があった。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決すべく、被ハンドリング体を支持する際、当接部材からの異物の発生量を低減するとともに、当接部材に取り付けられる衝撃緩衝部材を容易に交換することの可能なハンドリング治具の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明のハンドリング治具は、板状の被ハンドリング体を端面から挟持するアームと、このアームに取り付けられ、前記被ハンドリング体と当接する当接部材とを有するハンドリング治具であって、前記当接部材が、前記被ハンドリング体を端面付近で係止する係止溝と、被ハンドリング体の係止溝への挿入口であって被ハンドリング体の上面及び／又は下面に対向して形成された、挿入方向に対して傾斜したガイド面とを有し、前記ガイド面のうち少なくとも一面に、被ハンドリング体の挿入方向に延びた線状の突起部を備えた構成としてある。
このようにすると、被ハンドリング体が係止溝に装入される際、たとえば、従来技術においては、係止溝に被ハンドリング体を導くガイド面と被ハンドリング体が線接触の状態で擦れるのに対し、線状の突起部により、被ハンドリング体と点接触の状態で擦れるので、接触部分から発生する異物の発生量を最小限に抑えることができる。
【０００８】
また、本発明のハンドリング治具は、前記突起部は、少なくとも被ハンドリング体の上面に対向して形成されたガイド面に備えられた構成としてある。
このようにすると、フォトマスク用基板の上面に落下する異物を低減することができるので、異物付着に起因するフォトマスク用基板の品質低下を防止できる。
【０００９】
また、本発明のハンドリング治具は、前記係止溝の内底面に、前記ハンドリング体と当設する弾性部材を備えた構成としてある。
このようにすると、弾性部材とハンドリング体が当接することにより、異物の発生量を低減することができる。
【００１０】
また、本発明のハンドリング治具は、前記弾性部材がＯリングであり、前記Ｏリングの真下に、該Ｏリングと交差するように取外し溝を設けた構成としてある。
このようにすると、取外し溝に、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入してＯリングを摘むことができ、Ｏリングを容易かつ異物を発生させずに取り外すし、交換することができる。
【００１１】
また、本発明のハンドリング治具は、前記当接部材を、前記アームに交換可能に取り付けた構成としてある。
このようにすると、被ハンドリング体に応じた当接部材に交換する際、容易に交換することができる。
【００１２】
また、本発明のハンドリング冶具は、前記被ハンドリング体を、フォトマスク用基板とした構成としてある。
このようにすると、フォトマスク用基板を被ハンドリング対として使用することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のハンドリング治具は、被ハンドリング体を支持する際、線状の突起部により、被ハンドリング体と点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。また、衝撃緩衝部材としてのＯリングの弾性を利用して、Ｏリングを着脱容易に当接部材に取り付けることができ、Ｏリングを交換する際の作業性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図１は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、この固定アーム４と対をなす、レバー３に取り付けられた回動アーム５と、固定アーム４及び回動アーム５の先端に取り付けられる爪（当接部材）６とからなっている。
なお、ハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０をハンドリングする治具としてあるが、被ハンドリング体としては、フォトマスク用基板１０に限定されるものではない。
【００１５】
（グリップ）
グリップ２は、樹脂製の四角棒としてあり、被ハンドリング体側の上端部に、固定アーム４が二本のねじ４１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の上端部に溝２１を形成し、この溝２１に固定アーム４の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）４１を用いて固定してある（図３（ａ）参照）。このようにすると、固定アーム４が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、固定アーム４を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
【００１６】
（レバー）
レバー３は、被ハンドリング体側の端部がグリップ２に回動自在に軸支され、四角棒３１がグリップ２とほぼ平行に手前側に延設された構造としてある。
また、レバー３は、被ハンドリング体側の下端部に、回動アーム５が二本のねじ５１によって交換自在に固定されている。本実施形態では、被ハンドリング体側の下端部に溝３２を形成し、この溝３２に回動アーム５の手前側端部を嵌合させた状態で、ねじ（たとえば、十字穴付き皿小ねじ）５１を用いて固定してある（図３（ａ）参照）。このようにすると、回動アーム５が破損した場合に容易に交換することができ、また、大きさの異なるフォトマスク用基板１０や保持位置の異なるフォトマスク用基板１０に対して、回動アーム５を交換することにより対応することができるので、グリップ２やレバー３等の主要部を共用化することができる。
上記構成とすることにより、レバー３は、開方向に回動されると、回動アーム５が開かれ、閉方向に回動されると、回動アーム５が閉じられる。
【００１７】
（固定アーム）
固定アーム４は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
また、固定アーム４は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部４２と上下方向直線部４３が形成される。
【００１８】
（回動アーム）
駆動アームとしての回動アーム５は、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、被ハンドリング体側先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６が取り付けられている。
また、回動アーム５は、鉤状に折り曲げられることにより、前後方向直線部５２と上下方向直線部５３が形成される。
【００１９】
（爪）
図２は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を、（ｅ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
同図において、当接部材としての爪６は、樹脂製のほぼ直方体状としてあり、正面下部に水平状態のフォトマスク用基板１０が係止される係止溝６１を左右方向に形成してある。この係止溝６１は、フォトマスク用基板１０を、上面６１１と下面６１２の間に隙間をもって挟むように係止する。
【００２０】
上面６１１の正面側端部は、斜め上方に面取りされ、面取り面６１３が形成されている。この面取り面６１３の両端部に、断面が半円状の突起部６１４（同図（ｅ）参照）が、斜面に沿って線状に形成してある。このようにすると、フォトマスク用基板１０を支持する際、線状の突起部６１４により、フォトマスク用基板１０が係止溝６１に導かれ、フォトマスク用基板１０を係止溝６１に容易に装入することができる。さらに、導かれるとき、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、接触部から発生する異物の発生量を最小限に抑えることができる。
また、支持されたフォトマスク用基板１０の上方に突起部６１４を設けることにより、フォトマスク用基板１０の上面に落下する異物を低減できるので、異物付着に起因するフォトマスク用基板１０の品質低下を効果的に改善することができる。
なお、本実施形態では、突起部６１４を二本設けた構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、一本又は三本以上設けてもよい。
【００２１】
また、下面６１２の正面側端部は、斜め下方に面取りされガイド面６１５が形成されている。
なお、ガイド面６１５に突起部６１４と同様に突起部（図示せず）を形成してもよく、このようにすると、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。
【００２２】
爪６の両側面には、Ｏリング６２を取り付ける矩形環状のＯリング溝６３の形成された側板６４を設けてある。また、この側板６４は、側面から見た形状が上面６１１，下面６１２，ガイド面６１３，６１５とほぼ同様な、上面６４１，下面６４２，ガイド面６４３，６４５を備えた形状としてある。なお、側板６４の形状は、この形状に限定されるものではなく、たとえば、単純な矩形板状の形状としてもよい。
ここで、好ましくは、背面下部の両側であってＯリング６２の真下に、Ｏリング６２と交差するように取外し溝６４６を設けるとよい。このようにすると、取外し溝６４６に、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入することにより、容易にＯリング６２を摘むことができ、Ｏリング６２を容易かつ異物を発生させずに取り外すことができる。
【００２３】
Ｏリング６２は、ゴム製のＯリングとしてあり、取り付けられた状態で、係止溝６１の底面６１０より正面方向に突き出でおり、フォトマスク用基板１０を支持する際、フォトマスク用基板１０と当接し、衝撃緩衝部材として機能する。
また、Ｏリング６２は、滑り止め部材としても機能し、たとえば、フォトマスク用基板１０を支持したハンドリング治具１を、グリップ２の中心軸２０を軸として９０度回転させ、フォトマスク用基板１０を垂直方向に傾けても、フォトマスク用基板１０が係止溝６１に沿って滑らないように支持することができる。
【００２４】
Ｏリング６２は、ゴムの弾性を利用することにより、伸ばした状態でＯリング溝６３に取り付けることができ、また、ピンセットで摘んで取り外すことができるので、容易に取付け及び取外しを行うことができる。
なお、Ｏリング６２が、係止溝６１の底面６１０より正面方向に突き出ることにより、本実施形態では、フォトマスク用基板１０が、上面６１１と下面６１２の先端部によって係止されることとなるが、これに限定されるものではなく、たとえば、突起部６１４とガイド面６１５によって係止される構成としてもよい。
【００２５】
爪６は、背面上部の両端部に凸部６５０を設けることにより、固定アーム４や回動アーム５が嵌入される嵌入溝６５を垂直方向に形成してある。また、正面側から嵌入溝６５に向けて、十字穴付き皿小ねじ（図示せず）が挿入されるねじ穴６５１が穿設してある。このようにすると、嵌入溝６５とねじ穴６５１により、固定アーム４や回動アーム５を位置決めできるので、爪６の交換作業を効率よく行うことができる。このようにすることにより、フォトマスク用基板１０の厚さに応じて、爪６を容易に交換することができ、グリップ２及びレバー３等の主要部を共用化することができる。
なお、固定アーム４に取り付けられた爪６と回動アーム５に取り付けられた爪６は、同じ高さに対向して配設してある。
【００２６】
（軸支機構）
次に、ハンドリング治具１の軸支機構について、図面を参照して説明する。
図３は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＣ−Ｃ断面図を示している。
同図において、グリップ２は、被ハンドリング体側の端部下面に、レバー３の被ハンドリング体側の端部を、非摺動の状態で収納する収納溝２２が形成してある。また、収納溝２２の被ハンドリング体側の端部に、レバー３と当接する凸部２２１が突設してあり、この凸部２２１により、閉方向に付勢されたレバー３の閉方向限界位置が設定される。
【００２７】
グリップ２は、被ハンドリング体側の端部両側面に対向するように配設されたホルダー２５及びすり割り付き止めねじ２７を介して、固定軸２６の両端を支持している。
また、グリップ２は、溝２１の手前側上面から、レバー３に向けて、雌ねじ２８が形成され、さらに、雌ねじ２８とほぼ同径の貫通孔２８１が穿設してあり、圧縮ばね（駆動用ばね）２９が取り付けられる。
圧縮ばね２９は、貫通孔２８１に貫入され、先端部がレバー３の位置決め穴３４に係止された状態で、すり割付き止めねじ２９１が雌ねじ２８に締め込まれることにより、レバー３を閉方向に付勢する。
【００２８】
また、圧縮ばね２９は、先端部が位置決め穴３４に係止されているので、レバー３が、固定軸２６の中心軸方向に移動すると復元力が作用し、レバー３がグリップ２と接触しないように所定のクリアランスを保持することができる。このようにすると、レバー３を回動させても、レバー３とグリップ２が摺動しないので、擦れによる異物の発生を防ぐことができる。
【００２９】
レバー３は、両側からボールベアリング３３が埋設してあり、このボールベアリング３３には、固定軸２６が貫通される。このように、ボールベアリング３３を使用することにより、レバー３が回動されても、ボールベアリング３３内のボール（図示せず）が回転するので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
【００３０】
このように、本実施形態のハンドリング治具１は、フォトマスク用基板１０を支持する際、爪６に設けた突起部６１４がフォトマスク用基板１０の角部と点接触の状態で擦れるので、面接触の状態で擦れていた従来技術と比べると、異物の発生量を大幅に低減することができる。
また、衝撃緩衝部材として、ゴム製のＯリング６２を使用することにより、Ｏリング６２を容易に交換することができ、さらに、取外し溝６４６を設けることにより、Ｏリング６２を取り外す際、ピンセットを用いて、異物を発生させずに容易にＯリング６２を取り外すことができる。
【００３１】
［第二実施形態］
図４は、本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
同図において、ハンドリング治具１ａは、第一実施形態と比較して、フォトマスク用基板１０の真上を避けて、固定アーム４ａ及び回動アーム５ａを設け、さらに、爪６ａの嵌入溝６５ａを水平方向に設けた点が相違する。他の構成要素は第一実施形態と同様としてある。
したがって、図４において、図１と同様の構成部分については同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００３２】
（固定アーム）
固定アーム４ａは、フォトマスク用基板１０の真上を避けるように、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部４２ａ，上下方向直線部４３ａ及び水平方向直線部４４ａとからなっている。また、前後方向直線部４２ａの手前側先端が、上述したようにグリップ２に固定され、水平方向直線部４４ａの先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６ａが取り付けられている。
【００３３】
（回動アーム）
回動アーム５ａは、フォトマスク用基板１０の真上を避けるように、ステンレス製の四角棒を鉤状に折り曲げた構造としてあり、前後方向直線部５２ａ，上下方向直線部５３ａ及び水平方向直線部５４ａとからなっている。また、前後方向直線部５２ａの手前側先端が、上述したようにレバー３に固定され、水平方向直線部５４ａの先端に雌ねじ（図示せず）が設けてあり、爪６ａが取り付けられている。
【００３４】
（爪）
図５は、本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を示している。
同図において、爪６ａは、樹脂製のほぼ四角棒状としてあり、正面中央部に水平状態のフォトマスク用基板１０が係止される係止溝６１ａを左右方向に形成してある。この係止溝６１ａは、フォトマスク用基板１０を、上面６１１ａと下面６１２ａの間に隙間をもって挟むように係止する。
【００３５】
上面６１１ａの正面側端部は、斜め上方に面取りされ、面取り面６１３ａが形成されている。この面取り面６１３ａの両側には、断面が半円状の突起部６１４が、斜面に沿って線状に形成してある。また、下面６１２ａの正面側端部は、斜め下方に面取りされ、面取り面６１５ａが形成されている。この面取り面６１５ａの両側には、断面が半円状の突起部６１４が、斜面に沿って線状に形成してある。このようにすると、フォトマスク用基板１０を支持する際、線状の突起部６１４により、フォトマスク用基板１０の角部が点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を低減することができる。
【００３６】
爪６ａは、側面に、Ｏリング６２ａを取り付けるＯリング溝６３ａが形成してある。
ここで、好ましくは、上面の両側であってＯリング６２ａの真下に、Ｏリング６２と交差するように取外し溝６４６ａを設けるとよい。このようにすると、取外し溝６４６ａに、たとえば、ピンセットの一方の先端を挿入することにより、容易にＯリング６２ａを摘むことができ、Ｏリング６２ａを容易かつ異物を発生させずに取り外すことができる。
【００３７】
Ｏリング６２ａは、ゴム製のＯリングとしてあり、取り付けられた状態で、係止溝６１ａの底面６１０ａより正面方向に突き出でおり、フォトマスク用基板１０を支持する際、フォトマスク用基板１０と当接し、衝撃緩衝部材として機能する。また、Ｏリング６２ａは、フォトマスク用基板１０が係止溝６１ａに沿って滑らないように、滑り止め部材としても機能する。
【００３８】
爪６ａは、背面中央部に、固定アーム４や回動アーム５が嵌入される嵌入溝６５ａを水平方向に形成し、正面側から十字穴付きさら小ねじ（図示せず）が挿入されるねじ穴６５１ａが穿設してある。このようにすると、嵌入溝６５ａとねじ穴６５１ａにより、固定アーム４や回動アーム５を位置決めできるので、爪６ａの交換作業を効率よく行うことができる。
なお、固定アーム４や回動アーム５は、Ｏリング６２ａを取り付けた状態でも、水平方向から嵌入溝６５ａに嵌入させることができる。
【００３９】
このように、本実施形態のハンドリング治具１ａは、爪６ａの係止溝６１ａと平行に嵌入溝６５ａを形成してあり、このような構成とした場合であっても、上記第一実施形態と同様に、爪６ａに設けた突起部６１４がフォトマスク用基板１０の角部と点接触の状態で擦れるので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
また、衝撃緩衝部材として、ゴム製のＯリング６２ａを使用することにより、Ｏリング６２ａを容易に交換することができ、さらに、取外し溝６４６ａを設けることにより、Ｏリング６２ａを取り外す際、ピンセットを用いて、異物を発生させずに容易にＯリング６２ａを取り外すことができる。
【００４０】
以上、本発明のハンドリング治具について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明に係るハンドリング治具は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、上記各実施形態では、ボールベアリング３３を介して、レバー３がグリップ２に付勢された状態で回動自在に軸支されているが、この構成に限定されるものではなく、図示してないが、リニアベアリング等を介して、レバー３をグリップ２に往復移動自在に付勢した状態で取り付ける構成としてもよい。このようにすると、リニアベアリングのローラやボールが回転するので、異物の発生量を大幅に低減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明のハンドリング治具は、フォトマスク用基板をハンドリングする構成に限定されるものではなく、たとえば、高度の清浄度を必要とする光学機器や医療器具等のハンドリング治具にも好適に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を、（ｃ）は下面図を示している。
【図２】本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を、（ｅ）はＢ−Ｂ断面図を示している。
【図３】図３は、本発明の第一実施形態にかかるハンドリング治具の軸支機構を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は図１におけるＡ−Ａ断面図を、（ｂ）はＣ−Ｃ断面図を示している。
【図４】本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の全体的な構造を説明するための概略図であり、（ａ）は上面図を、（ｂ）は側面図を示している。
【図５】本発明の第二実施形態にかかるハンドリング治具の爪の構造を説明するための概略拡大図であり、（ａ）は正面図を、（ｂ）は背面図を、（ｃ）は左側面図を、（ｄ）は上面図を示している。
【符号の説明】
【００４３】
１，１ａ ハンドリング治具
２ グリップ
３ レバー
４，４ａ 固定アーム
５，５ａ 回動アーム
６，６ａ 爪
１０ フォトマスク用基板
２０ 中心軸
２１ 溝
２２ 収納溝
２５ ホルダー
２６ 固定軸
２７ すり割り付き止めねじ
２８ 雌ねじ
２９ 圧縮ばね（駆動用ばね）
３１ 四角棒
３２ 溝
３３ ボールベアリング
３４ 位置決め穴
４１ ねじ
４２，４２ａ 前後方向直線部
４３，４３ａ 上下方向直線部
４４ａ 水平方向直線部
５１ ねじ
５２，５２ａ 前後方向直線部
５３，５３ａ 上下方向直線部
５４ａ 水平方向直線部
６１，６１ａ 溝
６２，６２ａ Ｏリング
６３，６３ａ Ｏリング溝
６４ 側板
６５，６５ａ 嵌入溝
２２１ 凸部
２８１ 貫通孔
２９１ すり割付き止めねじ
６１０，６１０ａ 底面
６１１，６１１ａ 上面
６１２，６１２ａ 下面
６１３，６１３ａ 面取り面
６１４ 突起部
６１５，６１５ａ 面取り面
６４１ 上面
６４２ 下面
６４３ ガイド面
６４５ ガイド面
６４６，６４６ａ 取外し溝
６５０ 凸部
６５１，６５１ａ ねじ穴
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の被ハンドリング体を端面から挟持するアームと、このアームに取り付けられ、前記被ハンドリング体と当接する当接部材とを有するハンドリング治具であって、
前記当接部材が、前記被ハンドリング体を端面付近で係止する係止溝と、被ハンドリング体の係止溝への挿入口であって被ハンドリング体の上面及び／又は下面に対向して形成された、挿入方向に対して傾斜したガイド面とを有し、前記ガイド面のうち少なくとも一面に、被ハンドリング体の挿入方向に延びた線状の突起部を備えたことを特徴とするハンドリング治具。
【請求項２】
前記突起部は、少なくとも被ハンドリング体の上面に対向して形成されたガイド面に備えられたことを特徴とする請求項１に記載のハンドリング冶具。
【請求項３】
前記係止溝の内底面に、前記ハンドリング体と当設する弾性部材を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のハンドリング冶具。
【請求項４】
前記弾性部材がＯリングであり、前記Ｏリングの真下に、該Ｏリングと交差するように取外し溝を設けたことを特徴とする請求項３記載のハンドリング治具。
【請求項５】
前記当接部材を、前記アームに交換可能に取り付けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のハンドリング治具。
【請求項６】
前記被ハンドリング体を、フォトマスク用基板としたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のハンドリング冶具。
【請求項１】
板状の被ハンドリング体を端面から挟持するアームと、このアームに取り付けられ、前記被ハンドリング体と当接する当接部材とを有するハンドリング治具であって、
前記当接部材が、前記被ハンドリング体を端面付近で係止する係止溝と、被ハンドリング体の係止溝への挿入口であって被ハンドリング体の上面及び／又は下面に対向して形成された、挿入方向に対して傾斜したガイド面とを有し、前記ガイド面のうち少なくとも一面に、被ハンドリング体の挿入方向に延びた線状の突起部を備えたことを特徴とするハンドリング治具。
【請求項２】
前記突起部は、少なくとも被ハンドリング体の上面に対向して形成されたガイド面に備えられたことを特徴とする請求項１に記載のハンドリング冶具。
【請求項３】
前記係止溝の内底面に、前記ハンドリング体と当設する弾性部材を備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載のハンドリング冶具。
【請求項４】
前記弾性部材がＯリングであり、前記Ｏリングの真下に、該Ｏリングと交差するように取外し溝を設けたことを特徴とする請求項３記載のハンドリング治具。
【請求項５】
前記当接部材を、前記アームに交換可能に取り付けたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか記載のハンドリング治具。
【請求項６】
前記被ハンドリング体を、フォトマスク用基板としたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のハンドリング冶具。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００６−１０８１５５（Ｐ２００６−１０８１５５Ａ）
【公開日】平成１８年４月２０日（２００６．４．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２８８７６９（Ｐ２００４−２８８７６９）
【出願日】平成１６年９月３０日（２００４．９．３０）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年４月２０日（２００６．４．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年９月３０日（２００４．９．３０）
【出願人】（０００１１３２６３）ＨＯＹＡ株式会社 (3,820)
【Ｆターム（参考）】
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