【課題】刷版の円筒状の表面に指向されるレーザビームを用いて、凹版、凸版またはフレキソ版に対する刷版に凹みを作製する方法および装置を提供して、低廉な方式で、著しく高いパワー密度と高エネルギーが得られるようにし、レーザ出力が著しく高い場合でもビーム出力を制御して、円筒状の表面を有する刷版に精確に凹みを形成すること。
【解決手段】レーザ源のレーザビームをレーザファイバに導き、光学系により、レーザファイバから出力されるレーザビームを刷版の表面にて１００Ｗのレーザビーム出力で刷版の表面に導き、刷版にてレーザビームを集束し、このレーザビームが刷版の表面にて有する出力を変調し、上記の円筒状の表面を有する刷版を回転駆動し、レーザビームを上記表面に沿って軸方向に案内し、この表面に対してレーザビームを相対運動させることにより、凹みからなる少なくとも１つのトラック２２４をこの表面に形成する。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
刷版の円筒状の表面に指向される少なくとも１つのレーザビームを用いて、凹版、凸版またはフレキソ版に対する刷版に凹みを作製する方法において、
− 少なくとも１つのレーザ源（１８）の少なくとも１つのレーザビームをレーザファイバに導き、
− 少なくとも１つのビーム路を有する光学系（８）により、前記のレーザファイバから続いて出力されるレーザビームを刷版の表面にて少なくとも１００Ｗのレーザビーム出力で刷版の表面に導き、
− 刷版にてレーザビームを集束し、
− 当該レーザビームが刷版の表面にて有する出力を変調し、
− 前記の円筒状の表面を有する刷版を回転駆動し、
− レーザビームを前記表面に沿って軸方向に案内し、
− 前記表面に対してレーザビームを相対運動させることにより、凹みからなる少なくとも１つのトラックを当該表面に形成することを特徴とする、
凹版、凸版またはフレキソ版に対する刷版に凹みを作製する方法。
【請求項２】
前記のレーザビームが表面で有する出力を変調することによって凹みを形成し、該凹みが支持部位によって分離されているようにする、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記のレーザビームの運動により、軸方向に並んだ関連する少なくとも２つの凹みによって刷版の表面に微小セルを形成する、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記のレーザビームが刷版の表面で有する出力を調整して所望の凹みプロフィールを形成する、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項５】
前記のレーザビームの出力を調整して少なくとも２段階の凹みを形成する、
請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
前記のレーザビームの出力調整によって微小セルの容積を調整するため、刷版における微小セルの面積または深さを変更する、
請求項１から４までのいずれか1項に記載の方法。
【請求項７】
前記の刷版の金属からなる表面層に凹みを形成する、
請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
銅からなる表面層に前記凹みを形成する、
請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
クロムからなる表面層に前記凹みを形成する、
請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
亜鉛からなる表面層に前記凹みを形成する、
請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複数の金属層からなる、刷版の表面層に前記凹みを形成する、
請求項７から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
刷版の表面に指向される少なくとも１つのレーザビームを用いて、凹版、凸版またはフレキソ版に対する刷版に凹みを作製する装置において、
少なくとも１つのレーザビーム（１３）を形成する少なくとも１つのレーザ源（１８）および少なくとも１つのレーザファイバを有しており、
前記のレーザ源（１８）の出力側とレーザファイバ（５）の入力側とが接続されており、
少なくとも１つのビーム路を有する少なくとも１つの光学系（８）が、前記のレーザファイバ（５）の出力側と刷版の表面（８１）との間のレーザビーム（１３）のビーム路に接続されており、これによってレーザファイバ（５）の出力側から出力されたレーザビーム（１３）が刷版の表面（８１）にて少なくとも１００Ｗの出力を有するようにされており、
− 前記光学系（８）は、少なくとも１つの変調器（４，１６８）を有しており、該変調器により、刷版の表面（８１）に当たるレーザビーム（１３）の出力が変調され、
− 前記刷版は円筒形の表面（８１）を有しかつ回転駆動され、
− 刷版の表面（８１）に当たるレーザビーム（１３）と、当該の刷版の表面（８１）との少なくとも１つの相対運動を形成する手段を有しており、該相対運動は、軸または半径方向の運動であることを特徴とする、
凹版、凸版またはフレキソ版に対する刷版に凹みを作製する装置。
【請求項１３】
前記の刷版の表面層は少なくとも銅からなる、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記の刷版の表面層は少なくともクロムからなる、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記の刷版の表面層は少なくとも亜鉛からなる、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】
前記の刷版は、重なって配置された金属製の複数の層からなる表面層を有する、
請求項１２から１５までのいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
前記の刷版の表面層は、エラストマ材料からなる、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１８】
前記のエラストマ材料はゴムである、
請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記のエラストマ材料はプラスチックである、
請求項１７に記載の装置。

【図１】

【図２】

【図２ａ】

【図３】

【図４】

【図４ａ】

【図４ｂ】

【図４ｃ】

【図５】

【図５ａ】

【図５ｂ】

【図５ｃ】

【図６】

【図６ａ】

【図７】

【図８】

【図８ａ】

【図９】

【図９ａ】

【図１０】

【図１０ａ】

【図１０ｂ】

【図１１】

【図１１ａ】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【図１６】

【図１７】

【図１８】

【図１８ａ】

【図１９】

【図１９ａ】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２４ａ】

【図２５】

【図２６】

【図２６ａ】

【図２７】

【図２７ａ】

【図２７ｂ】

【図２８】

【図２８ａ】

【図２９】

【図３０】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４】

【図３５】

【図３６】

【図３６ａ】

【図３６ｂ】

【図３６ｃ】

【図３７】

【図３８】

【図３９】

【図３９ａ】

【図４０】

【図４０ａ】

【図４０ｂ】

【図４０ｃ】

【図４０ｄ】

【図４１】

【図４２】

【図４２ａ】

【図４２ｂ】

【図４２ｃ】

【図４３】

【図４３ａ】

【図４３ｂ】

【図４４】

【図４４ａ】

【公開番号】特開２００７−１２５６１６（Ｐ２００７−１２５６１６Ａ）
【公開日】平成１９年５月２４日（２００７．５．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−２７４１９９（Ｐ２００６−２７４１９９）
【出願日】平成１８年１０月５日（２００６．１０．５）
【分割の表示】特願２０００−５６８６２９（Ｐ２０００−５６８６２９）の分割
【原出願日】平成１１年９月１日（１９９９．９．１）
【出願人】（５０２４５３１５９）ヘル　グラビア　システムズ　ゲゼルシャフト　ミット　ベシュレンクテル　ハフツング　ウント　コンパニー　コマンディートゲゼルシャフト (7)
【氏名又は名称原語表記】ＨＥＬＬ　Ｇｒａｖｕｒｅ　Ｓｙｓｔｅｍｓ　ＧｍｂＨ＆Ｃｏ．ＫＧ
【住所又は居所原語表記】Ｐｈｉｌｉｐｐ−Ｒｅｉｓ−Ｗｅｇ　５，　Ｄ−２４１４８　Ｋｉｅｌ，Ｇｅｒｍａｎｙ
【Ｆターム（参考）】