凹版オフセット印刷方法を用いた印刷方法
【課題】凹版オフセット印刷による連続印刷において、パイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばす。
【解決手段】印刷用インキ１１を凹状のパターン１０ａを有する印刷板１０に充填し、印刷板１０から充填したインキ１１を表面にシリコンゴムシート１３ａを有するロール状の印刷用ブランケット１３へ転写した後、印刷用ブランケット１３を回転して印刷用ブランケット１３から被転写体１６へインキ１１を転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法において、印刷用ブランケット１３から被転写体１６へ印刷用インキ１１を転写した後、印刷用ブランケット１３表面のシリコーンゴムシート１３ａにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケット１３の温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシート１３ａを乾燥させることを特徴とする。
【解決手段】印刷用インキ１１を凹状のパターン１０ａを有する印刷板１０に充填し、印刷板１０から充填したインキ１１を表面にシリコンゴムシート１３ａを有するロール状の印刷用ブランケット１３へ転写した後、印刷用ブランケット１３を回転して印刷用ブランケット１３から被転写体１６へインキ１１を転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法において、印刷用ブランケット１３から被転写体１６へ印刷用インキ１１を転写した後、印刷用ブランケット１３表面のシリコーンゴムシート１３ａにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケット１３の温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシート１３ａを乾燥させることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹版オフセット印刷法を用いてプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel、以下、ＰＤＰという。）の基板上に電極パターンを印刷するのに優れた印刷方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電極パターンを形成する方法として、フォトリソグラフィ法が用いられてきた。しかし、このフォトリソグラフィ法では、製造工程が煩雑で、電極パターン形成に必要な露光装置や材料等に莫大な費用がかかるため、製造コストが極めて高くなるという問題があった。更に、現像工程で生じる廃液を処理するためには高いコストが掛かり、この廃液については、環境保護の面からも問題が生じていた。そこで、フォトリソグラフィ法に代わる、低コストかつ有害な廃液なども生じることのないパターンの形成方法として、表面がシリコーンゴムシートからなる印刷用ブランケットを備えた凹版オフセット印刷法が注目されている。
しかし、上記従来の凹版オフセット印刷法においては、連続で印刷を行うにつれて、印刷用ブランケットからガラス基板のような被転写体に印刷用インキを塗布するときに、印刷用ブランケット上に印刷用インキが次第に残っていく、いわゆるパイリング（piling）という現象が生じる問題があった。パイリング現象が生じる一因としては、印刷用ブランケットを回転して、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートからガラス基板へ印刷用インキを転写する際に、印刷用インキが内部で分断して、印刷用インキの一部がシリコーンゴムシートに残留してしまうことが考えられる。このパイリング現象により、得られる塗膜において、膜厚の現象やばらつき、線幅のばらつきの原因になるという問題があった。
【０００３】
これらの問題を解決すべく、印刷用ブランケットの表面、すなわち表面印刷層を加熱することで、表面印刷層中に浸透した溶剤を蒸発し、除去する方法が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）。また、加熱する方法に関しては、印刷用ブランケット表面にシリコン系エラストマを用いたものを使用し、印刷用インキとして、インキ中に低分子料ポリシロキサンを含有させたものを使用し、かつ印刷用インキを印刷用ブランケットから被転写体へ転写した後、印刷用ブランケットの表面を赤外線の照射、温風の噴射又はヒータにより加熱して印刷用ブランケットに吸収された印刷用インキの溶剤を蒸散させ、次いで、印刷用ブランケットの表面を冷却する方法が開示されている。（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２４５９３１号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００４−６６８０４号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献２に示される方法では、印刷用ブランケットの表面を加熱して印刷用ブランケットに吸収された印刷用インキの溶剤を蒸散させる方法として、赤外線の照射、温風の噴射又はヒータが使われていたため、印刷用ブランケットの表面印刷層の内部までの乾燥が十分ではなかった。また、これらの加熱方法は熱伝導による加熱であるため、印刷用ブランケットの表面印刷層の内部深くにまで浸透した溶剤成分を蒸散させるには時間が掛かっていた。更に、加熱・冷却に時間が掛かり、タクトタイムが長くなるため、生産性が低下するという問題があった。
【０００５】
本発明の第１の目的は、凹版オフセット印刷による連続印刷において、パイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる、凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れた白色の導電膜を形成することができるバス電極用導電膜の製造方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れた黒色膜を形成することができるバス電極用黒色膜の製造方法を提供することにある。
本発明の第４の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れたブラックストライプを形成することができるブラックストライプの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明は、図１に示すように、無機粉末又は有機粉末から構成される粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤をそれぞれ含有した印刷用インキ１１を凹状のパターン１０ａを有する印刷板１０に充填し、印刷板１０から充填したインキを表面にシリコーンゴムシート１３ａを有するロール状の印刷用ブランケット１３へ転写した後、印刷用ブランケット１３を回転して印刷用ブランケット１３から被転写体１６へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法の改良である。その特徴ある構成は、印刷用ブランケット１３から被転写体１６へ印刷用インキ１１を転写した後、印刷用ブランケット１３表面のシリコーンゴムシート１３ａにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの表面を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシート１３ａを乾燥させるところにある。
請求項１に係る発明では、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にし、シリコーンゴムシートを乾燥させる手段としてマイクロ波照射を用いることにより、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの内部まで十分に乾燥させることができる。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱等のような熱伝導による加熱ではないため、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分を十分にかつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。これらの効果によって連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を延ばすことができる。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明であって、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することにより行う印刷方法である。
請求項２に係る発明では、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することで、シリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波により、シリコーンゴムシート表面については赤外線によりシリコーンゴムシート全体を斑なくかつ短時間で乾燥させることができる。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に係る発明であって、マイクロ波の周波数が９００〜３０００ＭＨｚである印刷方法である。
【０００９】
請求項４に係る発明は、請求項１に係る発明であって、樹脂成分がスチレン−アクリル共重合体、ウレタン−アクリル共重合体、エポキシ−アクリル共重合体、ポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含み、溶剤成分がジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含む印刷方法である。
【００１０】
請求項５に係る発明は印刷用インキが導電性粉末を含む白色系導電性ペーストであって請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に導電性インキを印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上に白色の導電膜を形成する工程とを含むことを特徴とするバス電極用導電膜の製造方法である。
【００１１】
請求項６に係る発明は印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上に黒色膜を形成する工程とを含むことを特徴とするバス電極用の黒色膜の製造方法である。
【００１２】
請求項７に係る発明は印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上にブラックストライプを形成する工程とを含むことを特徴とするブラックストライプの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法は、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケットを乾燥させる手段としてマイクロ波を照射することにより印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの内部まで十分に乾燥することができる。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱等のような、加熱表面から徐々に熱が伝わっていく、いわゆる熱伝導による加熱ではなく、マイクロ波を照射することにより生じる分子相互間の摩擦による内部発熱であるため、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分まで十分にかつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。これらの効果によって、従来技術よりも連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減させ、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を延ばすことができる。更に、パイリング現象の発生を低減できることから、パイリング現象に起因する膜厚の減少やばらつき、線幅のばらつき等が解消される。
本発明に係る製造方法により形成されるプラズマディスプレイパネル用、バス電極の黒色膜及びブラックストライプはそれぞれライン形状の点において優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
次に本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
本発明で使用する印刷用インキは、粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤から構成される。
【００１５】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する粉末成分は、無機粉末又は有機粉末である。具体的には有機顔料、無機顔料、光輝性顔料、有機染料が挙げられる。また金属粉末、金属酸化物、金属窒化物又はそれらの混合粉末は導電性パターンの印刷に使用できるため特に好適である。有機顔料としては、アゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、キナクリドン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、フタロシアニン系、ペリレン系、ＤＰＰ系、蛍光顔料等が挙げられる。無機顔料としては、アセチルカーボン、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラファイトのような炭素粉末、合成シリカ、酸化クロム、酸化鉄、酸化チタン、チタンブラック、酸化コバルト、酸化銅、これらの複合酸化物、焼成顔料、硫化亜鉛等が挙げられる。光輝性顔料としては、パール顔料、フレーク顔料、アルミニウム顔料、ブロンズ顔料等が挙げられる。有機染料としては、アルコール可溶性染料、油溶性染料、蛍光染料、集光性染料等が挙げられる。金属粉末、金属酸化物、金属窒化物又はそれらの混合粉末の平均粒径は、印刷適性等を考慮すると、０．０１〜５μｍが好ましく、０．１〜１μｍがより好ましい。
【００１６】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する樹脂成分としては、ポリメチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル、ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステルと、ポリスチレン、ポリウレタン、エポキシ樹脂とを共重合させたアクリル−スチレン系共重合体、アクリル−ウレタン系共重合体，アクリル−エポキシ系共重合体、ポリアクリル酸エステルやポリメタクリル酸エステルの一部をウレタン、エポキシで置換したポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種類以上の成分が挙げられる。印刷用インキ１００重量％とするとき、樹脂成分５〜２０重量％の割合で配合することが好ましい。また、これらの樹脂成分の分子量は、数百〜数百万のオリゴマーからポリマーの範囲で好適に用いられる。低分子量の樹脂成分はインキの乾燥抑制に有効であり、高分子量の樹脂成分はインキ内部での凝集破壊を抑制することができる。即ち転写性の向上に有効である。従って、インキ中に低分子量から高分子量と幅広い分子量の樹脂を含有させることにより、インキの乾燥抑制と転写性向上を同時に満たすことができる。上記種類の樹脂成分は、高い凝集力を有し、被転写体への転写時におけるインキ内部での凝集破壊を抑制することができる。
【００１７】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する溶剤成分としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分が挙げられる。印刷用インキ１００重量％とするとき、溶剤成分７．５〜３０重量％の割合で配合することが好ましい。ポリエステルポリオール［炭素数が２〜１２の脂肪族多塩基酸・炭素数が２〜１２の脂肪族多価アルコール］としては、ポリ［（１，９−ノナンジオール）−ｏ−（アジピン酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール；トリメチロールプロパン）−ｏ−（アジピン酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（セバシン酸）］が挙げられる。またポリエステルポリオール［炭素数が８〜１５の芳香族多塩基酸・炭素数が２〜１２の脂肪族多価アルコール］としては、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（テレフタル酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（イソフタル酸）］が挙げられる。更に水酸基含有液状アクリル樹脂としては、ポリ２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリ２−ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ２−ヒドロキシメタクリレートが挙げられる。上記種類の溶剤成分は上記種類の樹脂成分を溶解することが可能であり、印刷用インキを印刷用ブランケットへ転写した際に溶剤成分の一部が印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシート中に吸収、浸透され、インキとシリコンゴムシートの間に溶剤成分に富んだ境界層（ＷＢＬ）を形成するため、インキをブランケット上に残すことなく転写することができる。また、上記種類の溶剤成分は、揮発し易い成分であるため、従来の方法のように、溶剤成分が浸透しているブランケットを加熱することによって溶剤成分浸透前の状態に戻す必要がない。このような性能を有する溶剤成分を含む印刷用インキを使用することで、オフセット印刷による連続印刷において印刷パターンの形状変動を低減することができるという利点がある。
【００１８】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに分散剤を加えるのは、分散剤を含むことで塗工した層表面が平滑になる効果が得られるためである。印刷用インキ１００重量％とするとき分散剤を１〜１０重量％の割合で配合することが好ましい。また、形成するラインのエッジ部におけるシャープネスさが高くなる。分散剤としては、カルボン酸系やリン酸エステル系、ポリカルボン酸高分子アニオンアリルエーテルコポリマー、ポリアミン−脂肪酸縮合物、高分子界面活性剤、高分子脂肪酸、脂肪族エステル縮合体を使用することが好適である。
【００１９】
本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法は、上記成分を含有した印刷用インキを凹状のパターンを有する印刷板に充填し、印刷板から充填したインキを表面にシリコーンゴムシートを有するロール状の印刷用ブランケットへ転写した後、印刷用ブランケットを回転して印刷用ブランケットから被転写体へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法の改良である。
【００２０】
その特徴ある構成は、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシートを乾燥させるところにある。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱のような、加熱表面から徐々に熱が伝わっていく、いわゆる熱伝導による加熱ではなく、マイクロ波を照射することにより生じる分子相互間の摩擦による内部発熱である。そのため、シリコーンゴムシートの乾燥にマイクロ波を使用することで、赤外線を使用する場合よりも、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分を十分かつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。本発明で使用するマイクロ波については、周波数が９００〜３０００ＭＨｚであるものを使用することが好ましい。周波数が９００〜３０００ＭＨｚの範囲のマイクロ波を照射すると、ブランケットのシリコーンゴムシート中の溶剤成分を十分に揮発させる効果が得られる。マイクロ波の照射強度及び照射時間については、乾燥時に設定する最高温度に応じて適宜調整すればよい。本発明の印刷方法において、温度を７０℃以上としたのは、温度が７０℃未満では、溶剤成分を十分に揮発させることができないからである。また、温度を１３０℃以上としたのは、温度が１３０℃を越えると、シリコーンゴムシートが変形したり、また、そのことが原因となり印刷ラインの形状に乱れが生じる等の不具合が起きるからである。本発明の印刷方法では、マイクロ波の照射以外の加熱方法を併用することで更に高い効果が得られる。例えば、熱伝導による加熱方法と併用すれば、シリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波の加熱により、表面については他の熱伝導による加熱によって、マイクロ波のみ用いる場合よりも十分にかつ短時間で乾燥させることができる。マイクロ波の照射と併用する他の加熱方法としては、互いに干渉しない事の理由により、赤外線の照射を用いることが好ましい。赤外線の照射については、マイクロ波の照射と同時に行ってもよく、またマイクロ波の照射前後に行ってもよい。マイクロ波の照射と同時に赤外線を照射する場合における赤外線の照射強度及び照射時間は、マイクロ波の照射強度及び照射時間を考慮して調整する必要がある。例えば、この時のマイクロ波の照射強度を１００〜５００Ｗ、照射時間を１０〜６０秒とした場合には、赤外線の照射強度を５００〜１０００Ｗ、照射時間を３０〜６０秒とすることが好ましい。マイクロ波の照射前後で赤外線を照射する場合は、赤外線の照射強度及び照射時間については、乾燥時に設定する最高温度に応じて適宜調整すればよい。
【００２１】
次に、本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法を説明する。
図１は、本発明に係る凹版オフセット印刷方法の印刷工程の例を示す模式図である。図１に示す凹版オフセット印刷装置は、表面にシリコーンゴムシート１３ａを有する印刷用ブランケット１３と、シリコーンゴムシート１３ａを加熱する装置としてマイクロ波照射装置１４及び赤外線照装置１５と、所望の凹状パターン１０ａを有する印刷板１０とを備えている。
【００２２】
先ず、図１（ａ）に示すように、この平面凹版１０表面に印刷用インキ１１を所定量供給する。供給した印刷用インキ１１は、スキージ１２を平面凹版１０表面に当ててスライドさせることにより、凹状パターン１０ａに埋め込む。次に、図１（ｂ）に示すように、ブランケットロール１３をインキ１１が埋め込まれた平面凹版１０上に圧接し、この状態でブランケットロール１３を回転させ、平面凹版１０上をスライドさせることにより、凹状パターン１０ａに埋め込まれたインキ１１の一部をブランケットロール１３のシリコーンゴムシート１３ａ表面に転写する。なお、ブランケットロール表面にはシリコーンゴムシートの代わりにシリコーン樹脂シートを取り付けても良い。このときの転写率は平面凹版の凹状パターンやインキに含まれる成分やその比率、ブランケットの圧接の強弱によっても異なるが、ほぼ２０〜６０％程度の割合である。最後に、図１（ｃ）に示すように、印刷用インキ１１を転写したブランケットロール１３を、ガラス基板のような被転写体１６に圧接し、この状態でブランケットロール１３を被転写体１６上で回転させて、被転写体１６表面に所望のパターンが転写される。このとき、被転写体１６に順次印刷用インキ１１を転写し終えたシリコーンゴムシート１３ａは、図１（ｃ）に示す位置に備えるマイクロ波照装置１４により、マイクロ波が照射され、７０〜１３０℃の温度でシリコーンゴムシート１３ａの乾燥が行われる。このシリコーンゴムシート１３ａの乾燥は、マイクロ波を照射すること、更にはマイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することでシリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波により、シリコーンゴムシート表面については赤外線によりシリコーンゴムシート全体を斑なくかつ短時間で乾燥することができる。
【００２３】
このように、本発明の印刷方法では、１回の印刷につき、マイクロ波の照射、更にはマイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することによるシリコーンゴムシートの短時間かつ十分な乾燥ができる。これらの効果により、連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
【００２４】
次に、本発明の導電膜、黒色膜及びブラックストライプの製造方法を用いて、ＰＤＰ用前面基板を作製する方法を説明する。
図２及び図３は、プラズマディスプレイパネル前面基板を作製する工程を模式的に表した図である。
先ず、図２（ａ）に示すような、フロントガラス基板１６を用意し、図２（ｂ）に示すように、フロントガラス基板１６に透明電極２３を形成する。ここで形成する透明電極２３は、プラズマ放電に必要であり、かつ発光の妨げにならないように透明な材質で形成される。具体的には、透明電極２３はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＳｎＯ2等の酸化膜が使用され、スパッタリング、蒸着等の真空成膜法やＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法によって形成される。
【００２５】
次いで、図２（ｃ）に示すように、形成した透明電極２３上に、黒色ペースト組成物を本発明の凹版オフセット印刷法により塗膜した後、乾燥し、焼成することにより、黒色膜１７ｂを形成する。本発明の製造方法で使用する黒色ペースト組成物は黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤を含む。黒色ペースト組成物に含まれる黒色酸化物粉末はＣｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ及びＮｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属元素を含む金属酸化物又はこれらの複合酸化物であることが好ましい。ガラス粉末は、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化リン、酸化カルシウム及び酸化チタンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を含む４００〜５５０℃の軟化点を有するフリットガラスであることが好ましい。続いて、図２（ｄ）に示すように、形成した黒色膜１７ｂ上に、ＡｇやＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等の導電性粉末を含有する導電性の高い白色系導電性ペーストを塗布、焼成することにより白色の導電膜１７ａを形成する。これにより黒色膜１７ｂ及び白色の導電膜１７ａから構成されるバス電極１７が形成される。本発明の凹版オフセット印刷法を使用することにより、連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
次に、図２（ｅ）に示すように、透明電極２３及びバス電極１７を覆うように、フロントガラス基板１６の全面に透明誘電体層２１を形成する。
【００２６】
次に、図３（ａ）に示すように、形成した透明誘電体層２１の上に、黒色ペースト組成物を本発明の凹版オフセット印刷法により塗膜した後、乾燥し、焼成することにより、ブラックストライプ２４を形成する。ブラックストライプ２４を形成することで、外光反射率が低下し、コントラストが改善される。本発明の凹版オフセット印刷法を使用することにより、黒色ペースト組成物の連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
【００２７】
次に、図３（ｂ）に示すように、透明誘電体層２１の上に、ブラックストライプ２４と同じ高さになるように、カラーフィルタ２２を形成する。続いて、図３（ｃ）に示すように、カラーフィルタ２２及びブラックストライプ２４の上に、透明誘電体層２１を形成する。更に、図３（ｄ）に示すように、透明誘電体層２１の上に、保護膜１９を形成する。
保護膜１９を形成するのは、放電によるイオン衝撃で誘電体層がダメージを受け、パネル寿命が短くなるのと、プラズマ放電に必要な二次電子放出の効率が悪いため、放電電圧が高くなるのを防ぐためである。保護膜１９はＭｇＯが使用され、電子ビーム蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングによって形成することができる。
【００２８】
以上、図２（ａ）〜図３（ｄ）の各工程を経ることにより、ＰＤＰ用の前面基板が得られる。
【実施例】
【００２９】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
＜実施例１＞
以下の表１に示す粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤を混合し、この混合物をプラネタリーミキサーで３０分間分散した後に、３本ロールミルで３分間分散して、ペースト状の印刷用インキを調製した。
【００３０】
一方、図１に示すように、凹版オフセット印刷法に用いる印刷版として、ライン幅７０μｍ、深さ２０μｍ、ピッチ２００μｍの複数の凹状パターン１０ａを有する平面凹版１０を用意し、被転写体として厚さ２．８ｍｍ、対角５０インチのガラス基板（旭ガラス株式会社製の前面側の電極基板：ＰＤ２００）１６を用意した。また、印刷用ブランケットとして表面に厚さが７００μｍであって硬さが４０（ＪＩＳ−Ｋ６２５３ タイプＡ）のシリコーンゴムシート（常温硬化型シリコーンゴム（付加型））１３ａが取り付けられたブランケットロール１３を用いた。また、ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、マイクロ波照射装置１４を取り付けた。
【００３１】
先ず、平面凹版１０の表面に上記印刷用インキ１１を所定量供給し、ＳＵＳ製スキージ１２を用いて平面凹版１０の表面に上記印刷用インキ１１を埋め込んだ。次いでブランケットロール１３を平面凹版１０上に圧接した状態で回転させ、ガラス基板１６上を転動させることにより、ガラス基板１６の表面に所定のパターンを有する印刷用インキ１１を転写し、所定のパターンをガラス基板に転写し終えた箇所のブランケットロール１３にマイクロ波を照射してブランケット表面を乾燥させた。
【００３２】
上記工程を本発明の印刷方法に係る印刷工程の１サイクルとし、パイリングが発生するまでの連続印刷を行った。また、パイリングが発生する直前の印刷済みガラス基板を、空気中で１５０℃の温度で保持しながら乾燥させた後、空気中で５６０℃の温度で１０分間保持して焼成し、ガラス基板上に導電膜を形成した。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
＜実施例２，３＞
ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、図１（ｃ）に示すように、マイクロ波照射装置１４と赤外線照射器１５を取り付け、上記表２に示す条件で、マイクロ波及び赤外線を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３５】
＜実施例４＞
上記表１に示すように、印刷用インキの粉末成分として銀粉末の代わりに、平均粒子径が０．１μｍであって球状のＭｎ、Ｃｕ及びＦｅの複合系酸化物である黒色顔料（組成比、Ｍｎ：Ｃｕ：Ｆｅ＝３５：２５：８．３）を７５重量部混合し調製した印刷用インキを使用した。また、印刷条件は実施例１と同じとした。
【００３６】
＜実施例５＞
上記表１に示すように、マイクロ波の照射条件のうち、周波数及び照射時間を別条件としたこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３７】
＜比較例１＞
上記表２に示すように、マイクロ波の照射を行わなかったこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３８】
＜比較例２＞
マイクロ波の照射について、上記表２に示す条件で、マイクロ波を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３９】
＜比較例３＞
ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、マイクロ波照射装置１４の代わりに、赤外線照射器１５を取り付け、上記表２に示す条件で、赤外線を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００４０】
＜比較例４＞
上記表１に示すように、粉末成分として銀粉末の代わりに、平均粒子径が０．１μｍであって球状のＭｎ、Ｃｕ及びＦｅの複合系酸化物である黒色顔料（組成比、Ｍｎ：Ｃｕ：Ｆｅ＝３５：２５：８．３）を７５重量部混合し調製した印刷用インキを使用した。こと以外は比較例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷条件は実施例１と同じとした。
【００４１】
＜比較試験及び評価＞
実施例１〜５及び比較例１〜４で調べたブランケットの表面温度、パイリングが発生するまでの印刷枚数及び形成された導電膜又は黒色膜のラインの線幅を評価した。その結果を次の表３に示す。
（１）パイリング開始回数：ブランケットロールからガラス基板に印刷用インキが転写された後に、ブランケットロール上に印刷用インキが次第に残っていく不具合、いわゆるパイリング現象が発生するまで本発明の印刷を連続で行い、パイリングが発生するまでの印刷枚数を調べた。この印刷枚数をパイリング開始回数とした。
（２）ブランケット表面温度：実施例１，比較例２ではマイクロ波、実施例２では赤外線、実施例３ではマイクロ波及び赤外線の照射後のブランケットの表面温度を評価した。比較例１については、マイクロ波と赤外線ともに照射しなかったため、印刷工程の１サイクル後の表面温度を評価した。
（３）印刷性：焼成後のガラス基板の表面に形成された導電膜又は黒色膜の印刷ラインについて、各基板の所定位置における、９箇所の印刷ラインの線幅をそれぞれ測定し、平面凹版の凹状パターンのライン幅に対して上記測定値の最大値及び最小値が±２μｍ以内であるときを「良好」の評価とし、±２μｍを越えかつ±５μｍ以内であるときを「不良」の評価とし、±５μｍを越えたときを「極めて不良」の評価とした。
【００４２】
【表３】
表３から明らかなように、マイクロ波を照射してブランケットのシリコーンゴムシートを乾燥させた実施例１，４，５と、乾燥させていない比較例１を比較すると、実施例１，４，５の方がパイリング開始回数が延びており、マイクロ波を照射してブランケットのシリコーンゴムシートを乾燥させることが効果的であることが確認された。更に、マイクロ波を照射した実施例１，５と赤外線を照射した比較例３を比較すると、実施例１の方がパイリング開始回数が延びており、また、印刷性においても実施例１の方が優れた結果となったことから、赤外線を使用するよりもマイクロ波を使用する方がより効果的であることが確認された。また、実施例２，３では実施例１，５よりも優れた結果が得られたことから、マイクロ波の照射に赤外線の照射を併用することで、本発明の更に高い効果が得られることが確認された。実施例１，５と比較例１，２，４を比較すると、比較例１，４では、パイリング開始回数、印刷性ともに優れた結果が得られず、また、比較例２では、パイリング開始回数においては優れた結果が得られたものの、印刷性において不具合が生じた。このことから、ブランケットの表面温度は、７０℃〜１３０℃の範囲にすることが効果的であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明における凹版オフセット印刷法を用いた印刷工程を示す説明図。
【図２】ＰＤＰ用前面基板の製造工程の前段を示す図。
【図３】ＰＤＰ用前面基板の製造工程の後段を示す図。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹版オフセット印刷法を用いてプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel、以下、ＰＤＰという。）の基板上に電極パターンを印刷するのに優れた印刷方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電極パターンを形成する方法として、フォトリソグラフィ法が用いられてきた。しかし、このフォトリソグラフィ法では、製造工程が煩雑で、電極パターン形成に必要な露光装置や材料等に莫大な費用がかかるため、製造コストが極めて高くなるという問題があった。更に、現像工程で生じる廃液を処理するためには高いコストが掛かり、この廃液については、環境保護の面からも問題が生じていた。そこで、フォトリソグラフィ法に代わる、低コストかつ有害な廃液なども生じることのないパターンの形成方法として、表面がシリコーンゴムシートからなる印刷用ブランケットを備えた凹版オフセット印刷法が注目されている。
しかし、上記従来の凹版オフセット印刷法においては、連続で印刷を行うにつれて、印刷用ブランケットからガラス基板のような被転写体に印刷用インキを塗布するときに、印刷用ブランケット上に印刷用インキが次第に残っていく、いわゆるパイリング（piling）という現象が生じる問題があった。パイリング現象が生じる一因としては、印刷用ブランケットを回転して、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートからガラス基板へ印刷用インキを転写する際に、印刷用インキが内部で分断して、印刷用インキの一部がシリコーンゴムシートに残留してしまうことが考えられる。このパイリング現象により、得られる塗膜において、膜厚の現象やばらつき、線幅のばらつきの原因になるという問題があった。
【０００３】
これらの問題を解決すべく、印刷用ブランケットの表面、すなわち表面印刷層を加熱することで、表面印刷層中に浸透した溶剤を蒸発し、除去する方法が開示されている。（例えば、特許文献１参照。）。また、加熱する方法に関しては、印刷用ブランケット表面にシリコン系エラストマを用いたものを使用し、印刷用インキとして、インキ中に低分子料ポリシロキサンを含有させたものを使用し、かつ印刷用インキを印刷用ブランケットから被転写体へ転写した後、印刷用ブランケットの表面を赤外線の照射、温風の噴射又はヒータにより加熱して印刷用ブランケットに吸収された印刷用インキの溶剤を蒸散させ、次いで、印刷用ブランケットの表面を冷却する方法が開示されている。（例えば、特許文献２参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２４５９３１号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００４−６６８０４号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献２に示される方法では、印刷用ブランケットの表面を加熱して印刷用ブランケットに吸収された印刷用インキの溶剤を蒸散させる方法として、赤外線の照射、温風の噴射又はヒータが使われていたため、印刷用ブランケットの表面印刷層の内部までの乾燥が十分ではなかった。また、これらの加熱方法は熱伝導による加熱であるため、印刷用ブランケットの表面印刷層の内部深くにまで浸透した溶剤成分を蒸散させるには時間が掛かっていた。更に、加熱・冷却に時間が掛かり、タクトタイムが長くなるため、生産性が低下するという問題があった。
【０００５】
本発明の第１の目的は、凹版オフセット印刷による連続印刷において、パイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる、凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れた白色の導電膜を形成することができるバス電極用導電膜の製造方法を提供することにある。
本発明の第３の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れた黒色膜を形成することができるバス電極用黒色膜の製造方法を提供することにある。
本発明の第４の目的は、本発明の凹版オフセット印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板上にライン形状が優れたブラックストライプを形成することができるブラックストライプの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明は、図１に示すように、無機粉末又は有機粉末から構成される粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤をそれぞれ含有した印刷用インキ１１を凹状のパターン１０ａを有する印刷板１０に充填し、印刷板１０から充填したインキを表面にシリコーンゴムシート１３ａを有するロール状の印刷用ブランケット１３へ転写した後、印刷用ブランケット１３を回転して印刷用ブランケット１３から被転写体１６へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法の改良である。その特徴ある構成は、印刷用ブランケット１３から被転写体１６へ印刷用インキ１１を転写した後、印刷用ブランケット１３表面のシリコーンゴムシート１３ａにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの表面を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシート１３ａを乾燥させるところにある。
請求項１に係る発明では、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にし、シリコーンゴムシートを乾燥させる手段としてマイクロ波照射を用いることにより、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの内部まで十分に乾燥させることができる。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱等のような熱伝導による加熱ではないため、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分を十分にかつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。これらの効果によって連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を延ばすことができる。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明であって、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することにより行う印刷方法である。
請求項２に係る発明では、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することで、シリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波により、シリコーンゴムシート表面については赤外線によりシリコーンゴムシート全体を斑なくかつ短時間で乾燥させることができる。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に係る発明であって、マイクロ波の周波数が９００〜３０００ＭＨｚである印刷方法である。
【０００９】
請求項４に係る発明は、請求項１に係る発明であって、樹脂成分がスチレン−アクリル共重合体、ウレタン−アクリル共重合体、エポキシ−アクリル共重合体、ポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含み、溶剤成分がジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含む印刷方法である。
【００１０】
請求項５に係る発明は印刷用インキが導電性粉末を含む白色系導電性ペーストであって請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に導電性インキを印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上に白色の導電膜を形成する工程とを含むことを特徴とするバス電極用導電膜の製造方法である。
【００１１】
請求項６に係る発明は印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上に黒色膜を形成する工程とを含むことを特徴とするバス電極用の黒色膜の製造方法である。
【００１２】
請求項７に係る発明は印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、形成した塗膜を乾燥する工程と、乾燥した塗膜を焼成することにより基板上にブラックストライプを形成する工程とを含むことを特徴とするブラックストライプの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法は、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケットを乾燥させる手段としてマイクロ波を照射することにより印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの内部まで十分に乾燥することができる。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱等のような、加熱表面から徐々に熱が伝わっていく、いわゆる熱伝導による加熱ではなく、マイクロ波を照射することにより生じる分子相互間の摩擦による内部発熱であるため、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分まで十分にかつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。これらの効果によって、従来技術よりも連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減させ、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を延ばすことができる。更に、パイリング現象の発生を低減できることから、パイリング現象に起因する膜厚の減少やばらつき、線幅のばらつき等が解消される。
本発明に係る製造方法により形成されるプラズマディスプレイパネル用、バス電極の黒色膜及びブラックストライプはそれぞれライン形状の点において優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
次に本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
本発明で使用する印刷用インキは、粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤から構成される。
【００１５】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する粉末成分は、無機粉末又は有機粉末である。具体的には有機顔料、無機顔料、光輝性顔料、有機染料が挙げられる。また金属粉末、金属酸化物、金属窒化物又はそれらの混合粉末は導電性パターンの印刷に使用できるため特に好適である。有機顔料としては、アゾ系、ポリアゾ系、アンスラキノン系、キナクリドン系、イソインドリン系、イソインドリノン系、フタロシアニン系、ペリレン系、ＤＰＰ系、蛍光顔料等が挙げられる。無機顔料としては、アセチルカーボン、カーボンナノチューブ、フラーレン、グラファイトのような炭素粉末、合成シリカ、酸化クロム、酸化鉄、酸化チタン、チタンブラック、酸化コバルト、酸化銅、これらの複合酸化物、焼成顔料、硫化亜鉛等が挙げられる。光輝性顔料としては、パール顔料、フレーク顔料、アルミニウム顔料、ブロンズ顔料等が挙げられる。有機染料としては、アルコール可溶性染料、油溶性染料、蛍光染料、集光性染料等が挙げられる。金属粉末、金属酸化物、金属窒化物又はそれらの混合粉末の平均粒径は、印刷適性等を考慮すると、０．０１〜５μｍが好ましく、０．１〜１μｍがより好ましい。
【００１６】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する樹脂成分としては、ポリメチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル、ポリメチルメタクリレート等のポリメタクリル酸エステルと、ポリスチレン、ポリウレタン、エポキシ樹脂とを共重合させたアクリル−スチレン系共重合体、アクリル−ウレタン系共重合体，アクリル−エポキシ系共重合体、ポリアクリル酸エステルやポリメタクリル酸エステルの一部をウレタン、エポキシで置換したポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種類以上の成分が挙げられる。印刷用インキ１００重量％とするとき、樹脂成分５〜２０重量％の割合で配合することが好ましい。また、これらの樹脂成分の分子量は、数百〜数百万のオリゴマーからポリマーの範囲で好適に用いられる。低分子量の樹脂成分はインキの乾燥抑制に有効であり、高分子量の樹脂成分はインキ内部での凝集破壊を抑制することができる。即ち転写性の向上に有効である。従って、インキ中に低分子量から高分子量と幅広い分子量の樹脂を含有させることにより、インキの乾燥抑制と転写性向上を同時に満たすことができる。上記種類の樹脂成分は、高い凝集力を有し、被転写体への転写時におけるインキ内部での凝集破壊を抑制することができる。
【００１７】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに含有する溶剤成分としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分が挙げられる。印刷用インキ１００重量％とするとき、溶剤成分７．５〜３０重量％の割合で配合することが好ましい。ポリエステルポリオール［炭素数が２〜１２の脂肪族多塩基酸・炭素数が２〜１２の脂肪族多価アルコール］としては、ポリ［（１，９−ノナンジオール）−ｏ−（アジピン酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール；トリメチロールプロパン）−ｏ−（アジピン酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（セバシン酸）］が挙げられる。またポリエステルポリオール［炭素数が８〜１５の芳香族多塩基酸・炭素数が２〜１２の脂肪族多価アルコール］としては、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（テレフタル酸）］、ポリ［（３−メチル−１，５−ペンタンジオール）−ｏ−（イソフタル酸）］が挙げられる。更に水酸基含有液状アクリル樹脂としては、ポリ２−ヒドロキシエチルアクリレート、ポリ２−ヒドロキシブチルアクリレート、ポリ２−ヒドロキシメタクリレートが挙げられる。上記種類の溶剤成分は上記種類の樹脂成分を溶解することが可能であり、印刷用インキを印刷用ブランケットへ転写した際に溶剤成分の一部が印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシート中に吸収、浸透され、インキとシリコンゴムシートの間に溶剤成分に富んだ境界層（ＷＢＬ）を形成するため、インキをブランケット上に残すことなく転写することができる。また、上記種類の溶剤成分は、揮発し易い成分であるため、従来の方法のように、溶剤成分が浸透しているブランケットを加熱することによって溶剤成分浸透前の状態に戻す必要がない。このような性能を有する溶剤成分を含む印刷用インキを使用することで、オフセット印刷による連続印刷において印刷パターンの形状変動を低減することができるという利点がある。
【００１８】
本発明の印刷方法に使用する印刷用インキに分散剤を加えるのは、分散剤を含むことで塗工した層表面が平滑になる効果が得られるためである。印刷用インキ１００重量％とするとき分散剤を１〜１０重量％の割合で配合することが好ましい。また、形成するラインのエッジ部におけるシャープネスさが高くなる。分散剤としては、カルボン酸系やリン酸エステル系、ポリカルボン酸高分子アニオンアリルエーテルコポリマー、ポリアミン−脂肪酸縮合物、高分子界面活性剤、高分子脂肪酸、脂肪族エステル縮合体を使用することが好適である。
【００１９】
本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法は、上記成分を含有した印刷用インキを凹状のパターンを有する印刷板に充填し、印刷板から充填したインキを表面にシリコーンゴムシートを有するロール状の印刷用ブランケットへ転写した後、印刷用ブランケットを回転して印刷用ブランケットから被転写体へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法の改良である。
【００２０】
その特徴ある構成は、印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシートを乾燥させるところにある。マイクロ波による加熱は、赤外線による加熱のような、加熱表面から徐々に熱が伝わっていく、いわゆる熱伝導による加熱ではなく、マイクロ波を照射することにより生じる分子相互間の摩擦による内部発熱である。そのため、シリコーンゴムシートの乾燥にマイクロ波を使用することで、赤外線を使用する場合よりも、シリコーンゴムシートの内部深くにまで浸透している溶剤成分を十分かつ短時間で加熱して揮発させ、除去することができる。本発明で使用するマイクロ波については、周波数が９００〜３０００ＭＨｚであるものを使用することが好ましい。周波数が９００〜３０００ＭＨｚの範囲のマイクロ波を照射すると、ブランケットのシリコーンゴムシート中の溶剤成分を十分に揮発させる効果が得られる。マイクロ波の照射強度及び照射時間については、乾燥時に設定する最高温度に応じて適宜調整すればよい。本発明の印刷方法において、温度を７０℃以上としたのは、温度が７０℃未満では、溶剤成分を十分に揮発させることができないからである。また、温度を１３０℃以上としたのは、温度が１３０℃を越えると、シリコーンゴムシートが変形したり、また、そのことが原因となり印刷ラインの形状に乱れが生じる等の不具合が起きるからである。本発明の印刷方法では、マイクロ波の照射以外の加熱方法を併用することで更に高い効果が得られる。例えば、熱伝導による加熱方法と併用すれば、シリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波の加熱により、表面については他の熱伝導による加熱によって、マイクロ波のみ用いる場合よりも十分にかつ短時間で乾燥させることができる。マイクロ波の照射と併用する他の加熱方法としては、互いに干渉しない事の理由により、赤外線の照射を用いることが好ましい。赤外線の照射については、マイクロ波の照射と同時に行ってもよく、またマイクロ波の照射前後に行ってもよい。マイクロ波の照射と同時に赤外線を照射する場合における赤外線の照射強度及び照射時間は、マイクロ波の照射強度及び照射時間を考慮して調整する必要がある。例えば、この時のマイクロ波の照射強度を１００〜５００Ｗ、照射時間を１０〜６０秒とした場合には、赤外線の照射強度を５００〜１０００Ｗ、照射時間を３０〜６０秒とすることが好ましい。マイクロ波の照射前後で赤外線を照射する場合は、赤外線の照射強度及び照射時間については、乾燥時に設定する最高温度に応じて適宜調整すればよい。
【００２１】
次に、本発明の凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法を説明する。
図１は、本発明に係る凹版オフセット印刷方法の印刷工程の例を示す模式図である。図１に示す凹版オフセット印刷装置は、表面にシリコーンゴムシート１３ａを有する印刷用ブランケット１３と、シリコーンゴムシート１３ａを加熱する装置としてマイクロ波照射装置１４及び赤外線照装置１５と、所望の凹状パターン１０ａを有する印刷板１０とを備えている。
【００２２】
先ず、図１（ａ）に示すように、この平面凹版１０表面に印刷用インキ１１を所定量供給する。供給した印刷用インキ１１は、スキージ１２を平面凹版１０表面に当ててスライドさせることにより、凹状パターン１０ａに埋め込む。次に、図１（ｂ）に示すように、ブランケットロール１３をインキ１１が埋め込まれた平面凹版１０上に圧接し、この状態でブランケットロール１３を回転させ、平面凹版１０上をスライドさせることにより、凹状パターン１０ａに埋め込まれたインキ１１の一部をブランケットロール１３のシリコーンゴムシート１３ａ表面に転写する。なお、ブランケットロール表面にはシリコーンゴムシートの代わりにシリコーン樹脂シートを取り付けても良い。このときの転写率は平面凹版の凹状パターンやインキに含まれる成分やその比率、ブランケットの圧接の強弱によっても異なるが、ほぼ２０〜６０％程度の割合である。最後に、図１（ｃ）に示すように、印刷用インキ１１を転写したブランケットロール１３を、ガラス基板のような被転写体１６に圧接し、この状態でブランケットロール１３を被転写体１６上で回転させて、被転写体１６表面に所望のパターンが転写される。このとき、被転写体１６に順次印刷用インキ１１を転写し終えたシリコーンゴムシート１３ａは、図１（ｃ）に示す位置に備えるマイクロ波照装置１４により、マイクロ波が照射され、７０〜１３０℃の温度でシリコーンゴムシート１３ａの乾燥が行われる。このシリコーンゴムシート１３ａの乾燥は、マイクロ波を照射すること、更にはマイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することでシリコーンゴムシート内部についてはマイクロ波により、シリコーンゴムシート表面については赤外線によりシリコーンゴムシート全体を斑なくかつ短時間で乾燥することができる。
【００２３】
このように、本発明の印刷方法では、１回の印刷につき、マイクロ波の照射、更にはマイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することによるシリコーンゴムシートの短時間かつ十分な乾燥ができる。これらの効果により、連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
【００２４】
次に、本発明の導電膜、黒色膜及びブラックストライプの製造方法を用いて、ＰＤＰ用前面基板を作製する方法を説明する。
図２及び図３は、プラズマディスプレイパネル前面基板を作製する工程を模式的に表した図である。
先ず、図２（ａ）に示すような、フロントガラス基板１６を用意し、図２（ｂ）に示すように、フロントガラス基板１６に透明電極２３を形成する。ここで形成する透明電極２３は、プラズマ放電に必要であり、かつ発光の妨げにならないように透明な材質で形成される。具体的には、透明電極２３はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＳｎＯ2等の酸化膜が使用され、スパッタリング、蒸着等の真空成膜法やＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法によって形成される。
【００２５】
次いで、図２（ｃ）に示すように、形成した透明電極２３上に、黒色ペースト組成物を本発明の凹版オフセット印刷法により塗膜した後、乾燥し、焼成することにより、黒色膜１７ｂを形成する。本発明の製造方法で使用する黒色ペースト組成物は黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤を含む。黒色ペースト組成物に含まれる黒色酸化物粉末はＣｏ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｆｅ及びＮｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属元素を含む金属酸化物又はこれらの複合酸化物であることが好ましい。ガラス粉末は、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化リン、酸化カルシウム及び酸化チタンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を含む４００〜５５０℃の軟化点を有するフリットガラスであることが好ましい。続いて、図２（ｄ）に示すように、形成した黒色膜１７ｂ上に、ＡｇやＡｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等の導電性粉末を含有する導電性の高い白色系導電性ペーストを塗布、焼成することにより白色の導電膜１７ａを形成する。これにより黒色膜１７ｂ及び白色の導電膜１７ａから構成されるバス電極１７が形成される。本発明の凹版オフセット印刷法を使用することにより、連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
次に、図２（ｅ）に示すように、透明電極２３及びバス電極１７を覆うように、フロントガラス基板１６の全面に透明誘電体層２１を形成する。
【００２６】
次に、図３（ａ）に示すように、形成した透明誘電体層２１の上に、黒色ペースト組成物を本発明の凹版オフセット印刷法により塗膜した後、乾燥し、焼成することにより、ブラックストライプ２４を形成する。ブラックストライプ２４を形成することで、外光反射率が低下し、コントラストが改善される。本発明の凹版オフセット印刷法を使用することにより、黒色ペースト組成物の連続印刷におけるパイリング現象の発生を低減し、かつパイリング現象が発生するまでの連続印刷回数を伸ばすことができる。
【００２７】
次に、図３（ｂ）に示すように、透明誘電体層２１の上に、ブラックストライプ２４と同じ高さになるように、カラーフィルタ２２を形成する。続いて、図３（ｃ）に示すように、カラーフィルタ２２及びブラックストライプ２４の上に、透明誘電体層２１を形成する。更に、図３（ｄ）に示すように、透明誘電体層２１の上に、保護膜１９を形成する。
保護膜１９を形成するのは、放電によるイオン衝撃で誘電体層がダメージを受け、パネル寿命が短くなるのと、プラズマ放電に必要な二次電子放出の効率が悪いため、放電電圧が高くなるのを防ぐためである。保護膜１９はＭｇＯが使用され、電子ビーム蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングによって形成することができる。
【００２８】
以上、図２（ａ）〜図３（ｄ）の各工程を経ることにより、ＰＤＰ用の前面基板が得られる。
【実施例】
【００２９】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
＜実施例１＞
以下の表１に示す粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤を混合し、この混合物をプラネタリーミキサーで３０分間分散した後に、３本ロールミルで３分間分散して、ペースト状の印刷用インキを調製した。
【００３０】
一方、図１に示すように、凹版オフセット印刷法に用いる印刷版として、ライン幅７０μｍ、深さ２０μｍ、ピッチ２００μｍの複数の凹状パターン１０ａを有する平面凹版１０を用意し、被転写体として厚さ２．８ｍｍ、対角５０インチのガラス基板（旭ガラス株式会社製の前面側の電極基板：ＰＤ２００）１６を用意した。また、印刷用ブランケットとして表面に厚さが７００μｍであって硬さが４０（ＪＩＳ−Ｋ６２５３ タイプＡ）のシリコーンゴムシート（常温硬化型シリコーンゴム（付加型））１３ａが取り付けられたブランケットロール１３を用いた。また、ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、マイクロ波照射装置１４を取り付けた。
【００３１】
先ず、平面凹版１０の表面に上記印刷用インキ１１を所定量供給し、ＳＵＳ製スキージ１２を用いて平面凹版１０の表面に上記印刷用インキ１１を埋め込んだ。次いでブランケットロール１３を平面凹版１０上に圧接した状態で回転させ、ガラス基板１６上を転動させることにより、ガラス基板１６の表面に所定のパターンを有する印刷用インキ１１を転写し、所定のパターンをガラス基板に転写し終えた箇所のブランケットロール１３にマイクロ波を照射してブランケット表面を乾燥させた。
【００３２】
上記工程を本発明の印刷方法に係る印刷工程の１サイクルとし、パイリングが発生するまでの連続印刷を行った。また、パイリングが発生する直前の印刷済みガラス基板を、空気中で１５０℃の温度で保持しながら乾燥させた後、空気中で５６０℃の温度で１０分間保持して焼成し、ガラス基板上に導電膜を形成した。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
＜実施例２，３＞
ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、図１（ｃ）に示すように、マイクロ波照射装置１４と赤外線照射器１５を取り付け、上記表２に示す条件で、マイクロ波及び赤外線を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３５】
＜実施例４＞
上記表１に示すように、印刷用インキの粉末成分として銀粉末の代わりに、平均粒子径が０．１μｍであって球状のＭｎ、Ｃｕ及びＦｅの複合系酸化物である黒色顔料（組成比、Ｍｎ：Ｃｕ：Ｆｅ＝３５：２５：８．３）を７５重量部混合し調製した印刷用インキを使用した。また、印刷条件は実施例１と同じとした。
【００３６】
＜実施例５＞
上記表１に示すように、マイクロ波の照射条件のうち、周波数及び照射時間を別条件としたこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３７】
＜比較例１＞
上記表２に示すように、マイクロ波の照射を行わなかったこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３８】
＜比較例２＞
マイクロ波の照射について、上記表２に示す条件で、マイクロ波を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００３９】
＜比較例３＞
ブランケットのシリコーンゴムシートの乾燥用装置として、マイクロ波照射装置１４の代わりに、赤外線照射器１５を取り付け、上記表２に示す条件で、赤外線を照射したこと以外は実施例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷用インキは実施例１と同じものを使用した。
【００４０】
＜比較例４＞
上記表１に示すように、粉末成分として銀粉末の代わりに、平均粒子径が０．１μｍであって球状のＭｎ、Ｃｕ及びＦｅの複合系酸化物である黒色顔料（組成比、Ｍｎ：Ｃｕ：Ｆｅ＝３５：２５：８．３）を７５重量部混合し調製した印刷用インキを使用した。こと以外は比較例１と同じ条件で印刷を行った。また、印刷条件は実施例１と同じとした。
【００４１】
＜比較試験及び評価＞
実施例１〜５及び比較例１〜４で調べたブランケットの表面温度、パイリングが発生するまでの印刷枚数及び形成された導電膜又は黒色膜のラインの線幅を評価した。その結果を次の表３に示す。
（１）パイリング開始回数：ブランケットロールからガラス基板に印刷用インキが転写された後に、ブランケットロール上に印刷用インキが次第に残っていく不具合、いわゆるパイリング現象が発生するまで本発明の印刷を連続で行い、パイリングが発生するまでの印刷枚数を調べた。この印刷枚数をパイリング開始回数とした。
（２）ブランケット表面温度：実施例１，比較例２ではマイクロ波、実施例２では赤外線、実施例３ではマイクロ波及び赤外線の照射後のブランケットの表面温度を評価した。比較例１については、マイクロ波と赤外線ともに照射しなかったため、印刷工程の１サイクル後の表面温度を評価した。
（３）印刷性：焼成後のガラス基板の表面に形成された導電膜又は黒色膜の印刷ラインについて、各基板の所定位置における、９箇所の印刷ラインの線幅をそれぞれ測定し、平面凹版の凹状パターンのライン幅に対して上記測定値の最大値及び最小値が±２μｍ以内であるときを「良好」の評価とし、±２μｍを越えかつ±５μｍ以内であるときを「不良」の評価とし、±５μｍを越えたときを「極めて不良」の評価とした。
【００４２】
【表３】
表３から明らかなように、マイクロ波を照射してブランケットのシリコーンゴムシートを乾燥させた実施例１，４，５と、乾燥させていない比較例１を比較すると、実施例１，４，５の方がパイリング開始回数が延びており、マイクロ波を照射してブランケットのシリコーンゴムシートを乾燥させることが効果的であることが確認された。更に、マイクロ波を照射した実施例１，５と赤外線を照射した比較例３を比較すると、実施例１の方がパイリング開始回数が延びており、また、印刷性においても実施例１の方が優れた結果となったことから、赤外線を使用するよりもマイクロ波を使用する方がより効果的であることが確認された。また、実施例２，３では実施例１，５よりも優れた結果が得られたことから、マイクロ波の照射に赤外線の照射を併用することで、本発明の更に高い効果が得られることが確認された。実施例１，５と比較例１，２，４を比較すると、比較例１，４では、パイリング開始回数、印刷性ともに優れた結果が得られず、また、比較例２では、パイリング開始回数においては優れた結果が得られたものの、印刷性において不具合が生じた。このことから、ブランケットの表面温度は、７０℃〜１３０℃の範囲にすることが効果的であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明における凹版オフセット印刷法を用いた印刷工程を示す説明図。
【図２】ＰＤＰ用前面基板の製造工程の前段を示す図。
【図３】ＰＤＰ用前面基板の製造工程の後段を示す図。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粉末又は有機粉末から構成される粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤をそれぞれ含有した印刷用インキを凹状のパターンを有する印刷板に充填し、前記印刷板から前記充填したインキを表面にシリコンゴムシートを有するロール状の印刷用ブランケットへ転写した後、前記印刷用ブランケットを回転して前記印刷用ブランケットから被転写体へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法において、
前記印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、前記印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシートを乾燥させることを特徴とする凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法。
【請求項２】
印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することにより行う請求項１記載の印刷方法。
【請求項３】
マイクロ波の周波数が９００〜３０００ＭＨｚである請求項１又は２記載の印刷方法。
【請求項４】
樹脂成分がスチレン−アクリル共重合体、ウレタン−アクリル共重合体、エポキシ−アクリル共重合体、ポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含み、
溶剤成分がジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含む請求項１記載の印刷方法。
【請求項５】
印刷用インキが導電性粉末を含む白色系導電性ペーストであって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記導電性インキを印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上に白色の導電膜を形成する工程と
を含むことを特徴とするバス電極用導電膜の製造方法。
【請求項６】
印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上に黒色膜を形成する工程と
を含むことを特徴とするバス電極用の黒色膜の製造方法。
【請求項７】
印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上にブラックストライプを形成する工程と
を含むことを特徴とするブラックストライプの製造方法。
【請求項１】
無機粉末又は有機粉末から構成される粉末成分、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤をそれぞれ含有した印刷用インキを凹状のパターンを有する印刷板に充填し、前記印刷板から前記充填したインキを表面にシリコンゴムシートを有するロール状の印刷用ブランケットへ転写した後、前記印刷用ブランケットを回転して前記印刷用ブランケットから被転写体へインキを転写する凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法において、
前記印刷用ブランケットから被転写体へ印刷用インキを転写した後、前記印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートにマイクロ波を照射することにより、印刷用ブランケットの温度を７０〜１３０℃にしてシリコーンゴムシートを乾燥させることを特徴とする凹版オフセット印刷法を用いた塗膜の印刷方法。
【請求項２】
印刷用ブランケット表面のシリコーンゴムシートの乾燥を、マイクロ波の照射と赤外線の照射を併用することにより行う請求項１記載の印刷方法。
【請求項３】
マイクロ波の周波数が９００〜３０００ＭＨｚである請求項１又は２記載の印刷方法。
【請求項４】
樹脂成分がスチレン−アクリル共重合体、ウレタン−アクリル共重合体、エポキシ−アクリル共重合体、ポリウレタンアクリレート、ポリエポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート及びポリブタジエンアクリレートからなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含み、
溶剤成分がジエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、γ−ブチルラクトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、ポリエステルポリオール及び水酸基含有液状アクリル樹脂からなる群より選ばれた１種又は２種以上の成分を含む請求項１記載の印刷方法。
【請求項５】
印刷用インキが導電性粉末を含む白色系導電性ペーストであって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記導電性インキを印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上に白色の導電膜を形成する工程と
を含むことを特徴とするバス電極用導電膜の製造方法。
【請求項６】
印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上に黒色膜を形成する工程と
を含むことを特徴とするバス電極用の黒色膜の製造方法。
【請求項７】
印刷用インキが黒色酸化物粉末、ガラス粉末、樹脂成分、溶剤成分及び分散剤含む黒色ペースト組成物であって、
請求項１ないし４いずれか１項に記載の印刷方法により、プラズマディスプレイパネル用基板に前記黒色ペースト組成物を印刷して塗膜を形成する工程と、
前記形成した塗膜を乾燥する工程と、
前記乾燥した塗膜を焼成することにより前記基板上にブラックストライプを形成する工程と
を含むことを特徴とするブラックストライプの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００８−１７９０２８（Ｐ２００８−１７９０２８Ａ）
【公開日】平成２０年８月７日（２００８．８．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−１３３０６（Ｐ２００７−１３３０６）
【出願日】平成１９年１月２４日（２００７．１．２４）
【出願人】（０００００６２６４）三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年８月７日（２００８．８．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１月２４日（２００７．１．２４）
【出願人】（０００００６２６４）三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Ｆターム（参考）】
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