反射防止フィルム
【課題】
ハードコート層の厚みが１μｍ未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】
基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
ハードコート層の厚みが１μｍ未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】
基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止フィルムに関し、特に干渉縞の発生が少なく、かつ耐擦傷性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等のディスプレイが知られている。これらのディスプレイの画像表示面には、外光の反射を防止するための反射防止フィルムが一般的に配置されている。
【０００３】
ところが、従来から一般的に用いられている反射防止フィルムは、その構成（屈折率の異なる層を積層）上、反射防止膜表面に干渉縞（反射色ムラ）が発生しやすく、この干渉縞は反射防止フィルムをディスプレイに配置したときに画像品質の低下を招いていた。
【０００４】
干渉縞を抑制する手段として、基材とハードコート層との屈折率差を小さくすることが提案されている（特許文献１〜４）
一方、反射防止フィルムの反射防止膜には、一般に高い耐擦傷性が要求されている。反射防止膜の耐擦傷性を高めるために、特に最表面に位置する低屈折率層に、反応性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、あるいはポリエーテル変性／ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンを含有させることが知られている（例えば特許文献５〜７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３１６４２８号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００６−３５４９３号公報（請求項１）
【特許文献３】特開２００６−１６３１５６号公報（請求項１）
【特許文献４】特開２００９−３３５４号公報（請求項１）
【特許文献５】特開２００８−１８６９号公報（段落００３７）
【特許文献６】特開２００８−２３３３７１号公報（段落００３９）
【特許文献７】特開２００９−１９８８６３号公報（請求項１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来から、ハードコート層の厚みは、ハードコート層本来の機能である耐擦傷性を高めるという観点から、通常２〜１０μｍ程度が一般的であり、少なくもと１μｍ以上であった。しかしながら、上記のようにハードコート層の厚みが大きい場合は、干渉縞には不利に働くことが分かった。
【０００７】
そこで、本発明は上記従来技術の課題に鑑み、ハードコート層の厚みが１μｍ未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
２）前記ハードコート層の屈折率が１．５５〜１．７５の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が１．３〜１．４５の範囲である、前記１）に記載の反射防止フィルム。
３）前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、前記１）または２）に記載の反射防止フィルム。
４）前記無機微粒子が中空状または多孔質である、前記１）〜３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５）前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが５〜４０ｎｍの易接着層を有し、易接着層と基材の屈折率差、及び易接着層とハードコート層との屈折率差が、それぞれ０．３以下である、前記１）〜４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６）前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、前記５）に記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、干渉縞が抑制され、かつ耐擦傷性が良好な反射防止フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の反射防止フィルムは、基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する。本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層上に直接に低屈折率層が積層されていることが好ましい。
【００１１】
（ハードコート層）
本発明のハードコート層は、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満である。ハードコート層の厚みが０．３μｍ未満であると反射防止膜表面の耐擦傷性が低下し、一方、ハードコート層の厚みが１μｍ以上となると反射防止膜の干渉縞が目立ちやすくなる。ここで反射防止膜とは、ハードコート層と低屈折率層を含む積層膜を意味する。
【００１２】
本発明のハードコート層の厚みは、０．３〜０．９μｍの範囲が好ましく、０．４〜０．９μｍの範囲がより好ましく、更に０．５〜０．９μｍの範囲が好ましく、特に０．６〜０．８μｍの範囲が好ましい。
【００１３】
従来、ハードコート層の厚みが１μｍ未満であると、耐擦傷性の維持が難しくなると考えられていたが、本発明の低屈折率層と組み合わせることによって、耐擦傷性の維持が可能となった。
【００１４】
本発明のハードコート層は、屈折率が１．５５〜１．７５の高屈折率のハードコート層であることが好ましく、ハードコート層の屈折率を１．５５以上と高くするために、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径の下限は３ｎｍ程度である。本発明のハードコート層の屈折率は、更に１．６〜１．７の範囲がより好ましく、特に１．６２〜１．６８の範囲が好ましい。
【００１５】
本発明のハードコート層における金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、特に５０質量％以上が好ましい。これによって、ハードコート層の屈折率を高くすることができる。金属酸化物微粒子の含有量の上限は、ハードコート層に高い透明性を確保すると言う観点から、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、特に８５質量％以下が好ましい。
【００１６】
ハードコート層に含有させる金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．６以上のものが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８のものが好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。
【００１７】
ハードコート層は、反射防止膜表面に傷が発生するのを防止するために、硬度が高いことが好ましく、後述の実施例で定義しているスチールウール硬度評価において４級以上が好ましく、特に５級が好ましい。
【００１８】
ハードコート層の硬度を高くするために、ハードコート層は樹脂成分として紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含有することが好ましい。ハードコート層中における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、１０〜６０質量％の範囲が好ましく、２０〜５０質量％の範囲がより好ましい。
【００１９】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。
【００２０】
モノマーの例としては、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００２１】
オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２２】
上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、本発明のハードコート層には、特に３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
【００２３】
ハードコート層には、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００２４】
光重合開始剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００２５】
ハードコート層には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
【００２６】
（低屈折率層）
本発明の低屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層であって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有する。
【００２７】
ここで、活性エネルギー線硬化性組成物が無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含むとは、無機微粒子と重合性モノマーの合計量が活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上含むことを意味し、更に無機微粒子と重合性モノマー以外の全ての成分の個々の含有比率が、無機微粒子と重合性モノマーのそれぞれの含有比率より小さいことを意味する。但し、無機微粒子と重合性モノマー以外の成分には有機溶媒は含まれない。
【００２８】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、無機微粒子と重合性モノマーの合計量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、特に８０質量％が好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【００２９】
本発明にかかる低屈折率層の屈折率は、１．３〜１．４５の範囲が好ましく、１．３５〜１．４３の範囲がより好ましく、特に１．３８〜１．４３の範囲が好ましい。
【００３０】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満含有する。ここで無機微粒子は低屈折率層の屈折率を下げる役目を有する。かかる無機微粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。
【００３１】
本発明に用いられる無機微粒子の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。
【００３２】
無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１０質量％未満であると、反射率の低い反射防止膜が得られず、また反射防止膜の耐擦傷性も低下する傾向にある。一方、無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して４５質量％以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下し、また反射防止膜の干渉縞が発生しやすくなる。
【００３３】
無機微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１５質量％以上４０質量％未満が好ましく、特に２０質量％以上３５質量％未満が好ましい。
【００３４】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満含有する。ここで重合性モノマーとは、分子中にビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する化合物である。本発明に用いられる重合性モノマーとしては、好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を２〜１０個の範囲で有する化合物であり、より好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を３〜１０個の範囲で有する化合物である。
【００３５】
かかる重合性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレートなどが挙げられる。
【００３６】
重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して３０質量％未満であると、反射防止膜の良好な耐傷性が得られない。一方、重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して８５質量％以上であると、反射率の低い反射防止膜が得られない。
【００３７】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物における重合性モノマーの含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、４０質量％以上８０質量％未満の範囲が好ましく、５０質量％以上７５質量％未満の範囲がより好ましい。
【００３８】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満含有する。ここでエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物は、分子中のポリシロキサン主鎖の末端あるいは側鎖のいずれかに１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、１〜６個の範囲が好ましい。また、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、エチレン性不飽和基を有するポリジメチルシロキサン化合物が好ましい。
【００３９】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開２００９−８４３２７号公報の製造例１−１〜１−３の化合物、あるいはチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、同ＦＭ−０７２１、同ＦＭ−０７２５、信越化学工業（株）製のＸ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ等の市販品を用いることができる。
【００４０】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％未満であると、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。一方、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下する。
【００４１】
また、ポリシロキサン化合物がエチレン性不飽和基を有していないと、たとえポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％以上１０質量％未満の範囲内であっても、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。
【００４２】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１質量％以上８質量％未満の範囲が好ましく、１．３質量％以上６質量％未満の範囲がより好ましく、特に１．５質量％以上５質量％未満の範囲が好ましい。
【００４３】
本発明にかかる活性エネルギー線硬化性組成物は、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、重合性モノマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、上述のハードコート層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００４４】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
【００４５】
本発明にかかる低屈折率層の厚みは、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、８０〜１２０ｎｍの範囲がより好ましい。
【００４６】
（基材）
本発明にかかる反射防止フィルムの基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であり、８０〜２５０μｍの範囲が好ましい。
【００４７】
（易接着層）
本発明に用いられる基材は、易接着層が予め積層されたプラスチックフィルムが好ましく、特に易接着層が予め積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましい。
【００４８】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６２〜１．６６程度であり、前述したハードコート層の屈折率は１．６２〜１．６８の範囲が特に好ましいが、ＰＥＴフィルムとハードコート層の間に介在する易接着層の屈折率は、干渉縞低減の観点から１．６２〜１．６８の範囲が好ましい。更に、ＰＥＴフィルムの屈折率と易接着層の屈折率の差、及び易接着層とハードコート層の屈折率の差は、いずれも０．０３以下にあることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、特に０．０１以下であることが好ましい。
【００４９】
以下、ＰＥＴフィルムに予め積層される易接着層について説明する。かかる易接着層は、上記したように屈折率は１．６２〜１．６８の範囲が好ましいが、このように易接着層の屈折率を高くするためには、易接着層に、芳香族環を有する化合物を含有させることが好ましい。特に、縮合多環式芳香族環を有する化合物を含有する易接着層が好ましい。上記の縮合多環式芳香族環を有する化合物は、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の高分子化合物が好ましく、特にポリエステル樹脂には比較的多くの縮合多環式芳香族環を導入することができるのでより好ましい。
【００５０】
縮合多環式芳香族環としては、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等が挙げられるが、特にフルオレン環が好ましい。
【００５１】
易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【００５２】
易接着層は、更に易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、無機微粒子を含有することが好ましい。かかる無機微粒子としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
【００５３】
易接着層の厚みは、５〜４０ｎｍの範囲が好ましく、１０〜３０ｎｍの範囲がより好ましい。易接着層の厚みを４０ｎｍ以下にすることによって、易接着層の塗工欠点の低減が図られ、５ｎｍ以上とすることによってハードコート層との良好な密着性を確保することができる。
【００５４】
（反射防止フィルム）
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様は、ＰＥＴフィルム、易接着層、ハードコート層、低屈折率層が、この順に他の層を介在せずに積層されたものである。
【００５５】
また、本発明の反射防止フィルムは、基材の反対面、即ち、基材に対してハードコート層及び低屈折率層が設けられている面とは反対側の面に、近赤外線遮蔽層を設けることができる。
【００５６】
かかる近赤外線遮蔽層は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における平均透過率が２０％以下となるように調整されていることが好ましい。近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含む樹脂層であってもよいし、近赤外線吸収剤を含む粘着剤層であってもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【００５７】
樹脂バインダーとしては、ポリエステル系樹脂、（ メタ） アクリル系樹脂、（ メタ） アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも（ メタ） アクリル系樹脂が好適である。
【００５８】
粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリビニルブチラール系、エチレン−酢酸ビニル系等の粘着剤層を用いることができる。特にアクリル系粘着剤が好ましい。
【００５９】
本発明の反射防止フィルムの基材の反対面に積層される近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含有する粘着剤層であることが好ましい。また、この粘着剤層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイに貼り付けるための粘着剤層として適用することが好ましい。
【００６０】
近赤外線遮蔽層には、更に、５７０〜６１０ｎｍに極大吸収を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させることが好ましい。前記吸収極大波長における透過率は３０％以下となるように調整されていることが好ましい。
【００６１】
また、近赤外線遮蔽層には、５００ｎｍ付近、５５０ｎｍ付近に吸収を有する色素を含有させて色補正機能を付与することができる。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法及び評価方法を以下に示す。
【００６３】
（１）ハードコート層、低屈折率層、易接着層の厚みの測定
各サンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。試料調整は超薄切片法もしくは凍結超薄切片法を用いる。５〜３０万倍の倍率で観察し厚みを測定する。
【００６４】
（２）屈折率の測定
ハードコート層、低屈折率層、易接着層の各塗料をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
また、ＰＥＴフィルムの屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
【００６５】
（３）視感反射率の測定
＜試料の作成＞
各サンプルを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料を作製した。
【００６６】
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【００６７】
（４）干渉縞の目視の評価
各サンプルを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１ トクハバ 黒”）を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて反射防止膜の干渉縞（反射色ムラ）の評価を以下の基準で行った。
【００６８】
◎：干渉縞がほぼ見えない
○：干渉縞がわずかに見える
△：弱い干渉縞が明確に見える
×：干渉縞が強く見える。
【００６９】
（５）耐擦傷性；スチールウール硬度評価
各サンプルの反射防止膜面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、反射防止膜表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価した。
【００７０】
５級：傷が全く付かない
４級：傷が１本以上１０本以下
３級：傷が１１本以上３０本以下
２級：傷が３１本以上
１級：全面に無数の傷。
【００７１】
（実施例１）
以下の要領で反射防止フィルムを作製した。
＜易接着層が積層されたＰＥＴフィルム＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に、フルオレン環を有するポリエステル樹脂（フルオレン共重合ポリエステル樹脂）を主成分とし、該にフルオレン共重合ポリエステル樹脂１００質量部に対して、メラミン系架橋剤を５質量部、コロイダルシリカを１質量部含有する易接着層を積層した。易接着層の乾燥厚みは２１ｎｍであった。ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６４、易接着層の屈折率は１．６４であった。
【００７２】
＜反射防止膜の積層＞
上記の易接着層が積層されたＰＥＴフィルムの易接着層面に、下記のハードコート層と低屈折率層を順次積層して、反射防止フィルムを作製した。
【００７３】
＜ハードコート層の積層＞
紫外線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートの混合物）３０質量部、平均一次粒子径が５０ｎｍの五酸化アンチモン粒子７０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」）５質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノンの混合溶媒）に溶解・分散したハードコート層形成用塗料を用意した。この塗料の固形分濃度は３０質量％で、粘度（２３℃）は６ｍＰａ・Ｓである。この塗料をグラビアコーターでリバース塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが０．８μｍのハードコート層（屈折率１．６４）を形成した。
【００７４】
＜低屈折率層の積層＞
無機微粒子として中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で４０質量部、重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５４質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としてチッソ（株）製の「サイラプレーンＦＭ−０７１１」を３質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア９０７」）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、低屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物を用意した。この組成物の固形分濃度は３質量％で、粘度（２３℃）は１ｍＰａ・Ｓである。この塗料をグラビアコーターで塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３９）を形成した。
【００７５】
（実施例２）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を３０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７６】
（実施例３）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を２０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを７４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７７】
（実施例４）
実施例２のハードコート層の厚みを、０．５μｍに変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７８】
（実施例５）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を信越化学工業（株）製の「Ｘ−２２−１６４Ｃ」に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７９】
（実施例６）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６６質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を１部に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８０】
（実施例７）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を７部に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８１】
（比較例１）
実施例１のハードコート層の厚みを１．５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８２】
（比較例２）
実施例１のハードコート層の厚みを３．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８３】
（比較例３）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８４】
（比較例４）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を７０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを２４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８５】
（比較例５）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを８９質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８６】
（比較例６）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５７質量部に変更し、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８７】
（比較例７）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を、エチレン性不飽和基を有しないポリシロキサン化合物（ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン；ビックケミー・ジャパン（株）製の「ＢＹＫ３７０」）に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８８】
（比較例８）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４２質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を１５質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８９】
＜評価＞
上記で作製した各反射防止フィルムについて、低屈折率層の屈折率、反射防止膜の視感反射率、干渉縞、耐擦傷性を評価した。その結果を表１に示す。
【００９０】
【表１】
【００９１】
表１の結果から、本発明の実施例は、干渉縞の発生がなく、かつ耐擦傷性が良好であることがわかる。
一方、比較例１、２は、ハードコート層の厚みが１μｍ以上であり、干渉縞の発生が抑制されていない。
比較例３は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が４５質量％以上であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例４は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が４５質量％以上で重合性モノマーの含有量が３０質量％未満であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例５は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が１０質量％未満であり、視感反射率が高く十分な反射防止性が得られない。
比較例６、７は、低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有していないので、耐擦傷性が不十分である。
比較例８は、低屈折率層のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が１０質量％以上であり、耐擦傷性が不十分である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止フィルムに関し、特に干渉縞の発生が少なく、かつ耐擦傷性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶、プラズマ、有機ＥＬ等のディスプレイが知られている。これらのディスプレイの画像表示面には、外光の反射を防止するための反射防止フィルムが一般的に配置されている。
【０００３】
ところが、従来から一般的に用いられている反射防止フィルムは、その構成（屈折率の異なる層を積層）上、反射防止膜表面に干渉縞（反射色ムラ）が発生しやすく、この干渉縞は反射防止フィルムをディスプレイに配置したときに画像品質の低下を招いていた。
【０００４】
干渉縞を抑制する手段として、基材とハードコート層との屈折率差を小さくすることが提案されている（特許文献１〜４）
一方、反射防止フィルムの反射防止膜には、一般に高い耐擦傷性が要求されている。反射防止膜の耐擦傷性を高めるために、特に最表面に位置する低屈折率層に、反応性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、あるいはポリエーテル変性／ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンを含有させることが知られている（例えば特許文献５〜７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−３１６４２８号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００６−３５４９３号公報（請求項１）
【特許文献３】特開２００６−１６３１５６号公報（請求項１）
【特許文献４】特開２００９−３３５４号公報（請求項１）
【特許文献５】特開２００８−１８６９号公報（段落００３７）
【特許文献６】特開２００８−２３３３７１号公報（段落００３９）
【特許文献７】特開２００９−１９８８６３号公報（請求項１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来から、ハードコート層の厚みは、ハードコート層本来の機能である耐擦傷性を高めるという観点から、通常２〜１０μｍ程度が一般的であり、少なくもと１μｍ以上であった。しかしながら、上記のようにハードコート層の厚みが大きい場合は、干渉縞には不利に働くことが分かった。
【０００７】
そこで、本発明は上記従来技術の課題に鑑み、ハードコート層の厚みが１μｍ未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
１）基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
２）前記ハードコート層の屈折率が１．５５〜１．７５の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が１．３〜１．４５の範囲である、前記１）に記載の反射防止フィルム。
３）前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、前記１）または２）に記載の反射防止フィルム。
４）前記無機微粒子が中空状または多孔質である、前記１）〜３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５）前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが５〜４０ｎｍの易接着層を有し、易接着層と基材の屈折率差、及び易接着層とハードコート層との屈折率差が、それぞれ０．３以下である、前記１）〜４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
６）前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、前記５）に記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、干渉縞が抑制され、かつ耐擦傷性が良好な反射防止フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の反射防止フィルムは、基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する。本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層上に直接に低屈折率層が積層されていることが好ましい。
【００１１】
（ハードコート層）
本発明のハードコート層は、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満である。ハードコート層の厚みが０．３μｍ未満であると反射防止膜表面の耐擦傷性が低下し、一方、ハードコート層の厚みが１μｍ以上となると反射防止膜の干渉縞が目立ちやすくなる。ここで反射防止膜とは、ハードコート層と低屈折率層を含む積層膜を意味する。
【００１２】
本発明のハードコート層の厚みは、０．３〜０．９μｍの範囲が好ましく、０．４〜０．９μｍの範囲がより好ましく、更に０．５〜０．９μｍの範囲が好ましく、特に０．６〜０．８μｍの範囲が好ましい。
【００１３】
従来、ハードコート層の厚みが１μｍ未満であると、耐擦傷性の維持が難しくなると考えられていたが、本発明の低屈折率層と組み合わせることによって、耐擦傷性の維持が可能となった。
【００１４】
本発明のハードコート層は、屈折率が１．５５〜１．７５の高屈折率のハードコート層であることが好ましく、ハードコート層の屈折率を１．５５以上と高くするために、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径の下限は３ｎｍ程度である。本発明のハードコート層の屈折率は、更に１．６〜１．７の範囲がより好ましく、特に１．６２〜１．６８の範囲が好ましい。
【００１５】
本発明のハードコート層における金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、特に５０質量％以上が好ましい。これによって、ハードコート層の屈折率を高くすることができる。金属酸化物微粒子の含有量の上限は、ハードコート層に高い透明性を確保すると言う観点から、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、特に８５質量％以下が好ましい。
【００１６】
ハードコート層に含有させる金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．６以上のものが好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８のものが好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。
【００１７】
ハードコート層は、反射防止膜表面に傷が発生するのを防止するために、硬度が高いことが好ましく、後述の実施例で定義しているスチールウール硬度評価において４級以上が好ましく、特に５級が好ましい。
【００１８】
ハードコート層の硬度を高くするために、ハードコート層は樹脂成分として紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含有することが好ましい。ハードコート層中における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して、１０〜６０質量％の範囲が好ましく、２０〜５０質量％の範囲がより好ましい。
【００１９】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。
【００２０】
モノマーの例としては、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００２１】
オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、アルキット（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２２】
上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、本発明のハードコート層には、特に３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
【００２３】
ハードコート層には、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００２４】
光重合開始剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００２５】
ハードコート層には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
【００２６】
（低屈折率層）
本発明の低屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層であって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有する。
【００２７】
ここで、活性エネルギー線硬化性組成物が無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含むとは、無機微粒子と重合性モノマーの合計量が活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して５０質量％以上含むことを意味し、更に無機微粒子と重合性モノマー以外の全ての成分の個々の含有比率が、無機微粒子と重合性モノマーのそれぞれの含有比率より小さいことを意味する。但し、無機微粒子と重合性モノマー以外の成分には有機溶媒は含まれない。
【００２８】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、無機微粒子と重合性モノマーの合計量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、特に８０質量％が好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【００２９】
本発明にかかる低屈折率層の屈折率は、１．３〜１．４５の範囲が好ましく、１．３５〜１．４３の範囲がより好ましく、特に１．３８〜１．４３の範囲が好ましい。
【００３０】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満含有する。ここで無機微粒子は低屈折率層の屈折率を下げる役目を有する。かかる無機微粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。
【００３１】
本発明に用いられる無機微粒子の屈折率は、１．２０〜１．４０であるのが好ましく、１．２０〜１．３５であるのがより好ましい。
【００３２】
無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１０質量％未満であると、反射率の低い反射防止膜が得られず、また反射防止膜の耐擦傷性も低下する傾向にある。一方、無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して４５質量％以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下し、また反射防止膜の干渉縞が発生しやすくなる。
【００３３】
無機微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１５質量％以上４０質量％未満が好ましく、特に２０質量％以上３５質量％未満が好ましい。
【００３４】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満含有する。ここで重合性モノマーとは、分子中にビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する化合物である。本発明に用いられる重合性モノマーとしては、好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を２〜１０個の範囲で有する化合物であり、より好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を３〜１０個の範囲で有する化合物である。
【００３５】
かかる重合性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレートなどが挙げられる。
【００３６】
重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して３０質量％未満であると、反射防止膜の良好な耐傷性が得られない。一方、重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して８５質量％以上であると、反射率の低い反射防止膜が得られない。
【００３７】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物における重合性モノマーの含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、４０質量％以上８０質量％未満の範囲が好ましく、５０質量％以上７５質量％未満の範囲がより好ましい。
【００３８】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満含有する。ここでエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物は、分子中のポリシロキサン主鎖の末端あるいは側鎖のいずれかに１個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、１〜６個の範囲が好ましい。また、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、エチレン性不飽和基を有するポリジメチルシロキサン化合物が好ましい。
【００３９】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開２００９−８４３２７号公報の製造例１−１〜１−３の化合物、あるいはチッソ（株）製のサイラプレーンＦＭ−０７１１、同ＦＭ−０７２１、同ＦＭ−０７２５、信越化学工業（株）製のＸ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、東レ・ダウコーニング（株）製のＢＹ１６−１５２Ｄ、ＢＹ１６−１５２、ＢＹ１６−１５２Ｃ等の市販品を用いることができる。
【００４０】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％未満であると、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。一方、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下する。
【００４１】
また、ポリシロキサン化合物がエチレン性不飽和基を有していないと、たとえポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して０．５質量％以上１０質量％未満の範囲内であっても、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。
【００４２】
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して１質量％以上８質量％未満の範囲が好ましく、１．３質量％以上６質量％未満の範囲がより好ましく、特に１．５質量％以上５質量％未満の範囲が好ましい。
【００４３】
本発明にかかる活性エネルギー線硬化性組成物は、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、重合性モノマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、上述のハードコート層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００４４】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
【００４５】
本発明にかかる低屈折率層の厚みは、５０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、８０〜１２０ｎｍの範囲がより好ましい。
【００４６】
（基材）
本発明にかかる反射防止フィルムの基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、５０〜３００μｍの範囲が適当であり、８０〜２５０μｍの範囲が好ましい。
【００４７】
（易接着層）
本発明に用いられる基材は、易接着層が予め積層されたプラスチックフィルムが好ましく、特に易接着層が予め積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましい。
【００４８】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６２〜１．６６程度であり、前述したハードコート層の屈折率は１．６２〜１．６８の範囲が特に好ましいが、ＰＥＴフィルムとハードコート層の間に介在する易接着層の屈折率は、干渉縞低減の観点から１．６２〜１．６８の範囲が好ましい。更に、ＰＥＴフィルムの屈折率と易接着層の屈折率の差、及び易接着層とハードコート層の屈折率の差は、いずれも０．０３以下にあることが好ましく、０．０２以下であることがより好ましく、特に０．０１以下であることが好ましい。
【００４９】
以下、ＰＥＴフィルムに予め積層される易接着層について説明する。かかる易接着層は、上記したように屈折率は１．６２〜１．６８の範囲が好ましいが、このように易接着層の屈折率を高くするためには、易接着層に、芳香族環を有する化合物を含有させることが好ましい。特に、縮合多環式芳香族環を有する化合物を含有する易接着層が好ましい。上記の縮合多環式芳香族環を有する化合物は、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の高分子化合物が好ましく、特にポリエステル樹脂には比較的多くの縮合多環式芳香族環を導入することができるのでより好ましい。
【００５０】
縮合多環式芳香族環としては、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等が挙げられるが、特にフルオレン環が好ましい。
【００５１】
易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【００５２】
易接着層は、更に易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、無機微粒子を含有することが好ましい。かかる無機微粒子としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
【００５３】
易接着層の厚みは、５〜４０ｎｍの範囲が好ましく、１０〜３０ｎｍの範囲がより好ましい。易接着層の厚みを４０ｎｍ以下にすることによって、易接着層の塗工欠点の低減が図られ、５ｎｍ以上とすることによってハードコート層との良好な密着性を確保することができる。
【００５４】
（反射防止フィルム）
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様は、ＰＥＴフィルム、易接着層、ハードコート層、低屈折率層が、この順に他の層を介在せずに積層されたものである。
【００５５】
また、本発明の反射防止フィルムは、基材の反対面、即ち、基材に対してハードコート層及び低屈折率層が設けられている面とは反対側の面に、近赤外線遮蔽層を設けることができる。
【００５６】
かかる近赤外線遮蔽層は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲における平均透過率が２０％以下となるように調整されていることが好ましい。近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含む樹脂層であってもよいし、近赤外線吸収剤を含む粘着剤層であってもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
【００５７】
樹脂バインダーとしては、ポリエステル系樹脂、（ メタ） アクリル系樹脂、（ メタ） アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも（ メタ） アクリル系樹脂が好適である。
【００５８】
粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリビニルブチラール系、エチレン−酢酸ビニル系等の粘着剤層を用いることができる。特にアクリル系粘着剤が好ましい。
【００５９】
本発明の反射防止フィルムの基材の反対面に積層される近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含有する粘着剤層であることが好ましい。また、この粘着剤層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイに貼り付けるための粘着剤層として適用することが好ましい。
【００６０】
近赤外線遮蔽層には、更に、５７０〜６１０ｎｍに極大吸収を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させることが好ましい。前記吸収極大波長における透過率は３０％以下となるように調整されていることが好ましい。
【００６１】
また、近赤外線遮蔽層には、５００ｎｍ付近、５５０ｎｍ付近に吸収を有する色素を含有させて色補正機能を付与することができる。
【実施例】
【００６２】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法及び評価方法を以下に示す。
【００６３】
（１）ハードコート層、低屈折率層、易接着層の厚みの測定
各サンプルの断面を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）で加速電圧１００ｋＶにて観察する。試料調整は超薄切片法もしくは凍結超薄切片法を用いる。５〜３０万倍の倍率で観察し厚みを測定する。
【００６４】
（２）屈折率の測定
ハードコート層、低屈折率層、易接着層の各塗料をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で６３３ｎｍの屈折率を測定した。
また、ＰＥＴフィルムの屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で測定した。
【００６５】
（３）視感反射率の測定
＜試料の作成＞
各サンプルを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料を作製した。
【００６６】
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製、ＵＶ３１５０ＰＣ）を用いて、測定面から５度の入射角で波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で反射率（片面反射）を算出し、視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【００６７】
（４）干渉縞の目視の評価
各サンプルを１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、ＰＥＴフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１ トクハバ 黒”）を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて反射防止膜の干渉縞（反射色ムラ）の評価を以下の基準で行った。
【００６８】
◎：干渉縞がほぼ見えない
○：干渉縞がわずかに見える
△：弱い干渉縞が明確に見える
×：干渉縞が強く見える。
【００６９】
（５）耐擦傷性；スチールウール硬度評価
各サンプルの反射防止膜面を、＃００００のスチールウールに２５０ｇの荷重をかけて、ストローク幅１０ｃｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦した後、反射防止膜表面を目視で観察し、傷の付き方を次の５段階で評価した。
【００７０】
５級：傷が全く付かない
４級：傷が１本以上１０本以下
３級：傷が１１本以上３０本以下
２級：傷が３１本以上
１級：全面に無数の傷。
【００７１】
（実施例１）
以下の要領で反射防止フィルムを作製した。
＜易接着層が積層されたＰＥＴフィルム＞
厚み１００μｍのＰＥＴフィルムの一方の面に、フルオレン環を有するポリエステル樹脂（フルオレン共重合ポリエステル樹脂）を主成分とし、該にフルオレン共重合ポリエステル樹脂１００質量部に対して、メラミン系架橋剤を５質量部、コロイダルシリカを１質量部含有する易接着層を積層した。易接着層の乾燥厚みは２１ｎｍであった。ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６４、易接着層の屈折率は１．６４であった。
【００７２】
＜反射防止膜の積層＞
上記の易接着層が積層されたＰＥＴフィルムの易接着層面に、下記のハードコート層と低屈折率層を順次積層して、反射防止フィルムを作製した。
【００７３】
＜ハードコート層の積層＞
紫外線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートの混合物）３０質量部、平均一次粒子径が５０ｎｍの五酸化アンチモン粒子７０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア１８４」）５質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノンの混合溶媒）に溶解・分散したハードコート層形成用塗料を用意した。この塗料の固形分濃度は３０質量％で、粘度（２３℃）は６ｍＰａ・Ｓである。この塗料をグラビアコーターでリバース塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが０．８μｍのハードコート層（屈折率１．６４）を形成した。
【００７４】
＜低屈折率層の積層＞
無機微粒子として中空シリカ（日揮触媒化成（株）製のＥＬＥＣＯＭ−Ｐ５０２４）を固形分で４０質量部、重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５４質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としてチッソ（株）製の「サイラプレーンＦＭ−０７１１」を３質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア９０７」）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒）に溶解・分散して、低屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物を用意した。この組成物の固形分濃度は３質量％で、粘度（２３℃）は１ｍＰａ・Ｓである。この塗料をグラビアコーターで塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線４００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが１００ｎｍの低屈折率層（屈折率１．３９）を形成した。
【００７５】
（実施例２）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を３０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７６】
（実施例３）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を２０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを７４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７７】
（実施例４）
実施例２のハードコート層の厚みを、０．５μｍに変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７８】
（実施例５）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を信越化学工業（株）製の「Ｘ−２２−１６４Ｃ」に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００７９】
（実施例６）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６６質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を１部に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８０】
（実施例７）
実施例２の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６０質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を７部に変更した以外は、実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８１】
（比較例１）
実施例１のハードコート層の厚みを１．５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８２】
（比較例２）
実施例１のハードコート層の厚みを３．０μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８３】
（比較例３）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を５０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８４】
（比較例４）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を７０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを２４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８５】
（比較例５）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを８９質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８６】
（比較例６）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５７質量部に変更し、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を添加しなかった以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８７】
（比較例７）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を、エチレン性不飽和基を有しないポリシロキサン化合物（ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン；ビックケミー・ジャパン（株）製の「ＢＹＫ３７０」）に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８８】
（比較例８）
実施例１の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４２質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を１５質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。
【００８９】
＜評価＞
上記で作製した各反射防止フィルムについて、低屈折率層の屈折率、反射防止膜の視感反射率、干渉縞、耐擦傷性を評価した。その結果を表１に示す。
【００９０】
【表１】
【００９１】
表１の結果から、本発明の実施例は、干渉縞の発生がなく、かつ耐擦傷性が良好であることがわかる。
一方、比較例１、２は、ハードコート層の厚みが１μｍ以上であり、干渉縞の発生が抑制されていない。
比較例３は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が４５質量％以上であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例４は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が４５質量％以上で重合性モノマーの含有量が３０質量％未満であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例５は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が１０質量％未満であり、視感反射率が高く十分な反射防止性が得られない。
比較例６、７は、低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有していないので、耐擦傷性が不十分である。
比較例８は、低屈折率層のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が１０質量％以上であり、耐擦傷性が不十分である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の屈折率が１．５５〜１．７５の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が１．３〜１．４５の範囲である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記無機微粒子が中空状または多孔質である、請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが５〜４０ｎｍの易接着層を有し、該易接着層と該基材の屈折率差、及び該易接着層と該ハードコート層との屈折率差が、それぞれ０．３以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、請求項５に記載の反射防止フィルム。
【請求項１】
基材上に、厚みが０．３μｍ以上１μｍ未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量１００質量％に対して、前記無機微粒子を１０質量％以上４５質量％未満、前記重合性モノマーを３０質量％以上８５質量％未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を０．５質量％以上１０質量％未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の屈折率が１．５５〜１．７５の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が１．３〜１．４５の範囲である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記無機微粒子が中空状または多孔質である、請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが５〜４０ｎｍの易接着層を有し、該易接着層と該基材の屈折率差、及び該易接着層と該ハードコート層との屈折率差が、それぞれ０．３以下である、請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、請求項５に記載の反射防止フィルム。
【公開番号】特開２０１１−１４５４３８（Ｐ２０１１−１４５４３８Ａ）
【公開日】平成２３年７月２８日（２０１１．７．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５５５１（Ｐ２０１０−５５５１）
【出願日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【出願人】（０００２２２４６２）東レフィルム加工株式会社 (142)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月２８日（２０１１．７．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月１４日（２０１０．１．１４）
【出願人】（０００２２２４６２）東レフィルム加工株式会社 (142)
【Ｆターム（参考）】
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