説明

回転角検出装置

【課題】磁石の温度特性を補償し、検出精度を高めることの可能な回転角検出装置を提供する。
【解決手段】被検出物の回転に応じてロータ20はステータ30と相対回転する。ステータ30の内部に形成されたギャップ部33に配置されたホールIC40は、ギャップ部33を通過する磁束密度に応じた信号を出力する。ロータ20と共に回転するサブ磁石51、52は、メイン磁石23、24により発生したギャップ部33を通過する磁束に対して逆方向に流れる磁束を発生する。このサブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度は、メイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度より小さい。また、サブ磁石51、52の温度係数は、メイン磁石23、24の温度係数より大きい。このため、サブ磁石51、52とメイン磁石23、24とが温度変化するとき、ギャップ部33を通過する磁束密度の変化が抑制される。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、回転角検出装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、例えばエンジンのスロットル装置に用いられ、相対回転するステータとロータとの回転角を検出することで、ロータと共に回転するスロットル弁の開度を検出する回転角検出装置が公知である。
特許文献1の回転角検出装置は、筒状に形成され、径方向外側の一方の外壁にN極が着磁され径方向外側の他方の外壁にS極が着磁されたロータ、このロータの径方向外側に設けられた磁性体からなる環状のステータ、及びステータの周方向の一部に形成された磁気ギャップに磁気検出素子を備える。着磁されたロータ、及びステータにより磁気回路が形成され、この磁気回路をロータのN極、ステータ、ロータのS極の順に磁束が流れる。ステータの磁気ギャップを周方向に通る磁束密度に応じた電圧信号を磁気検出素子が出力することで、ステータとロータとの相対する回転角が検出される。
この回転角検出装置では、回転軸を挟んで磁気検出素子と反対側に形成されたステータの凹部に感温磁性材が取り付けられている。温度変化に伴う感温磁性材の透磁率の変化により、磁気回路を流れる磁束の量を変化させることで、着磁されたロータの温度特性による磁束密度の変化を補償している。
【0003】
特許文献2の回転角検出装置は、円柱状に形成された磁性体からなるロータ、このロータの径方向外側に設けられた磁性体からなる環状のステータ、このステータの周方向の一部に設けられた磁石、及びステータとロータとの間の磁気ギャップに設けられ、ロータと共に回転する磁気検出素子を備える。磁石、ステータ及びロータにより磁気回路が形成され、この磁気回路を磁石のN極、ステータ、ロータ、磁石のS極の順に磁束が流れる。ステータとロータとの間の磁気ギャップを径方向に通る磁束密度に応じた電圧信号を磁気検出素子が出力することで、ステータとロータとの相対する回転角が検出される。
この回転角検出装置では、ステータの径外側に感温磁性材からなる磁気シールド部材が取り付けられている。温度変化に伴う磁気シールド部材の透磁率の変化により、磁気回路を流れる磁束の量を変化させることで、温度特性による磁石の磁束密度の変化を補償している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
【特許文献1】特開平9−14908
【特許文献2】特開平2−240513
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、一般に、感温磁性材は、適用温度が20〜60℃であり、その範囲が40℃程度と小さいので、特許文献1及び2の回転角検出装置は、その適用温度範囲外で磁石の温度特性を補償することが困難である。
また、感温磁性材は、飽和磁束密度が20℃で0.6T程度であるので、これをステータ又はロータの一部に組み込むと、磁気回路に流れる最大磁束を制約するおそれがある。このような回転角検出装置は、外乱磁界の影響が大きくなり、SN比が悪化することが懸念される。一方、ステータ又はロータの一部に感温磁性材を組み込んだ状態で磁気回路に流れる磁束を増やすには、回転角検出装置の体格が大きくなることが懸念される。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、磁石の温度特性を補償することで検出精度を高めることの可能な回転角検出装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
請求項1に係る発明によると、回転検出装置は、磁性体から形成されるステータと、磁性体から形成されると共に被検出物の回転に応じてステータと相対回転可能に設けられるロータと、ロータに固定されているメイン磁石と、ステータの内部に形成されたギャップ部に配置され、メイン磁石により発生したギャップ部を通過する磁束密度に応じた信号を出力する磁気検出素子とを備え、磁気検出素子の出力信号に基づいて被検出物の回転角を検出する。
この回転検出装置は、ロータと共に回転するサブ磁石を備える。このサブ磁石はメイン磁石により発生したギャップ部を通過する磁束に対して逆方向に流れる磁束を発生することを特徴とする。また、サブ磁石がギャップ部に発生させる磁束密度は、メイン磁石がギャップ部に発生させる磁束密度より小さく、サブ磁石の温度係数は、メイン磁石の温度係数より大きいことを特徴とする。
このため、サブ磁石とメイン磁石とが所定範囲内で温度変化するとき、サブ磁石がギャップ部に発生させる磁束密度の変化量とメイン磁石がギャップ部に発生させる磁束密度の変化量とが近似する。メイン磁石の磁束と、サブ磁石の磁束とはギャップ部を逆方向に流れるので、ギャップ部を通過する磁束密度の変化が抑制される。したがって、メイン磁石の温度特性を補償し、回転角検出装置の検出精度を高めることができる。
【0007】
請求項2に係る発明によると、メイン磁石とサブ磁石との関係は、サブ磁石がギャップ部に発生させる磁束密度に対するメイン磁石がギャップ部に発生させる磁束密度の比と、メイン磁石の温度係数に対するサブ磁石の温度係数の比とが対応する関係である。
これにより、サブ磁石とメイン磁石とが所定範囲内で温度変化するとき、サブ磁石がギャップ部に発生させる磁束密度の変化量とメイン磁石がギャップ部に発生させる磁束密度の変化量とを確実に近似させることができる。
【0008】
請求項3に係る発明によると、メイン磁石は、ロータの回転軸を挟んで一対設けられる。サブ磁石は、各メイン磁石に対応して一対設けられる。一対のメイン磁石に対応して一対のサブ磁石が設けられることで、各メイン磁石の温度変化に各サブ磁石が対応することができる。
【0009】
請求項4に係る発明によると、サブ磁石は、メイン磁石の径方向外側で、一対のメイン磁石と同一直線上に設けられる。これにより、サブ磁石とステータとの距離が遠くなり、サブ磁石の磁界が磁気検出手段の外乱として作用することを抑制することができる。また、サブ磁石の磁力をメイン磁石に確実におよぼすことができる。また、サブ磁石がメイン磁気回路に流れる最大磁束の制約となり難くなるので、回転角検出装置の磁路の体格を大きくすることなしに、検出磁束を増大することが可能となる。したがって、外乱磁界の影響を低減することができる。
【0010】
請求項5に係る発明によると、ロータの径方向内側にステータは設けられ、ギャップ部は、ステータの回転軸を含み径方向に延びる空隙である。このため、外乱磁界がギャップ部に影響することが抑制され、磁気検出手段の出力信号のSN比を良くすることができる。したがって、回転角検出装置の検出精度を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】本発明の一実施形態による回転角検出装置の構成図である。
【図2】本発明の一実施形態による回転角検出装置のステータとロータとが相対回転したときの状態を示す構成図である。
【図3】本発明の一実施形態による回転角検出装置の形成する磁気回路の等価回路である。
【図4】本発明の一実施形態による回転角検出装置の検出磁束における温度と磁束密度との関係を示す特性図である。
【図5】比較例の回転角検出装置の構成図である。
【図6】比較例の回転角検出装置の形成する磁気回路の等価回路である。
【図7】本発明の一実施形態及び比較例の検出磁束の変化率を示す表である。
【図8】本発明の一実施形態及び比較例の検出磁束における温度と磁束密度との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(一実施形態)
本発明の一実施形態の回転角検出装置を図1〜図5に示す。本実施形態の回転角検出装置10は、エンジンのスロットル装置に用いられるスロットル弁の開度を検出するものである。ロータ20は、図示しないスロットル弁のシャフトの端部に固定されている。ロータ20の径内側に設けられるステータ30は、図示しないスロットル装置のセンサカバー等に固定されている。ステータ30とロータ20とは相対回転可能に設けられている。回転角検出装置10は、ステータ30の内部に形成されたギャップ部33に配置された磁気検出素子の出力信号に基づき、被検出物であるスロットル弁の回転角を検出する。
【0013】
図1に示すように、ロータ20は、例えば鉄などの磁性体から形成される環状のヨーク21、22から構成されている。ヨーク21、22は、横断面が楕円状に形成され、短軸方向の内壁とステータ30との距離が近くなっている。
ヨーク21、22は、その長軸方向に2個の切欠25、26を有している。この2個の切欠25、26に一対のメイン磁石23、24が固定されている。
一対のメイン磁石23、24は、残留磁束密度の温度係数の比較的小さい例えばサマリウムコバルト磁石(Sm−Co)から構成されている。サマリウムコバルト磁石の温度係数は約0.04%/℃である。
一対のメイン磁石23、24は、ヨーク21、22の短軸方向に着磁されている。この一対のメイン磁石23、24は、同種の磁極が同じ方向を向くことで、各メイン磁石23、24の磁界がヨーク21、22の内部で互いに反発し合うように配置されている。これにより、ロータ20には、回転軸Oを挟んで一方のヨーク21にN極の極性が形成され、回転軸Oを挟んで他方のヨーク22にS極の極性が形成される。
【0014】
ステータ30は、例えば鉄などの磁性体から形成され、回転軸Oを挟んで向き合う略半円柱状の第1ステータ31と第2ステータ32とから構成されている。第1ステータ31と第2ステータ32との間には、回転軸Oを含み径方向に延びるギャップ部33が設けられている。回転軸Oを挟んで向き合う第1ステータ31の内壁と第2ステータ32の内壁とが平行に設けられることで、ギャップ部33に平行磁界が形成される。なお、この第1ステータ31と第2ステータ32とは、図示しないスペーサによって固定されている。
【0015】
ホールIC40は、磁気検出素子であるホール素子と増幅回路とを一体に構成したICであり、ギャップ部33を通る磁束密度に応じた電圧信号を出力する。
なお、ギャップ部33の両側には、円弧状に窪んだ円筒状の磁気ギャップ34が設けられている。この磁気ギャップ34により、ステータ30を流れる磁束がホールIC40に集中する。
【0016】
一対のサブ磁石51、52は、残留磁束密度の温度係数の比較的大きい例えばフェライト磁石(Fe)から構成されている。フェライト磁石の温度係数は約0.18%/℃である。一対のサブ磁石51、52は、一対のメイン磁石23、24のそれぞれ径方向外側で、一対のメイン磁石23、24と同一直線上に設けられている。この一対のサブ磁石51、52は、図示しない樹脂により、メイン磁石23、24及びヨーク21、22と一体にモールドされている。これにより、サブ磁石51、52はメイン磁石23、24及びヨーク21、22と共に回転する。
一対のサブ磁石51、52は、メイン磁石23、24と略同一方向に着磁されている。一対のサブ磁石51、52は、メイン磁石23、24と異種の磁極が略同一方向を向くように設けられている。一対のサブ磁石51、52は、メイン磁石23、24と磁束の流れが順バイアス方向になるように設けられている。これにより、一対のメイン磁石23、24により発生した磁束がギャップ部33を通過する方向に対し、逆方向にギャップ部33を流れる磁束を一対のサブ磁石51、52は発生する。
【0017】
メイン磁石23、24、ヨーク21、22、及びステータ30によりメイン磁気回路が形成され、メイン磁石23、24及びサブ磁石51、52により補償磁気回路が形成される。
図1の2点鎖線に示すように、メイン磁気回路を一対のメイン磁石23、24のN極、一方のヨーク21、第1ステータ31、第2ステータ32、他方のヨーク22、一対のメイン磁石23、24のS極の順に磁束が流れる。また、補償磁気回路をメイン磁石23、24のN極、サブ磁石51、52のS極、N極、メイン磁石23、24のS極の順に磁束が流れる。
また、補償磁気回路及びメイン磁気回路をサブ磁石51、52のN極、他方のヨーク22、第2ステータ32、第1ステータ31、一方のヨーク21、サブ磁石51、52のS極の順に磁束が流れる。
【0018】
ステータ30とロータ20とが相対回転すると、図2に示すように、その回転角に応じてステータ30のギャップ部33を通過する磁束密度が変化する。この磁束密度に応じてホールIC40の出力が変化する。図示しない制御回路は、このホールIC40の出力からステータ30とロータ20との相対する回転角を検出する。
【0019】
次に、回転角検出装置10に形成される磁気回路の等価回路を図3に示す。
図3では、メイン磁石23、24、ヨーク21、22、及びステータ30により形成されるメイン磁気回路を符号60で示し、メイン磁石23、24及びサブ磁石51、52により形成される2個の補償磁気回路を符号61、62で示している。
この等価回路では、メイン磁石23、24の起磁力がサブ磁石51、52の起磁力の3倍としているが、本発明はこれに限られない。サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度は、サブ磁石51、52の起磁力のほか、サブ磁石51、52とメイン磁石23、24との間の磁気ギャップによる磁気抵抗511、512、521、522によって変化する。
なお、サブ磁石51、52の起磁力を小さくすることで、補償磁気回路61、62に流れる磁束が減小し、メイン磁気回路60に流れる磁束が増大するので、ホールIC40の出力信号のSN比を良くすることができる。
【0020】
さらに、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度に対するメイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度の比と、メイン磁石23、24の温度係数に対するサブ磁石51、52の温度係数の比とが対応することが好ましい。これにより、所定範囲内での温度変化によるサブ磁石51、52の磁束密度の変化量とメイン磁石23、24の磁束密度の変化量とを近似させることができる。
【0021】
次に、本実施形態の回転角検出装置10の温度変化による特性を説明する。
ギャップ部33に流れる検出磁束における温度と磁束密度との関係を図4に示す。
図4では、メイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度をB_mainとして示し、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度をB_subとして示している。また、ホールIC40の検出する検出磁束をB_detectとして示している。なお、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度B_subは、正負を反転して示している。なぜなら、検出磁束は、メイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度からサブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度を引いたものに相当するからである。
つまり、B_detect=B_main+(−B_sub) である。
【0022】
メイン磁石23、24及びサブ磁石51、52の温度がt1からt2になるとき、メイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度B_mainはB1からB2に変化する。一方、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度B_subはB3からB4に変化する。
本実施形態では、メイン磁石23、24の起磁力、温度係数及び取り付け位置と、サブ磁石51、52の起磁力、温度係数及び取り付け位置とのバランスが調節されている。このため、温度t1と温度t2との間にメイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度B_mainの変化量B1−B2と、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度B_subの変化量B3−B4とは近似している。したがって、検出磁束B_detectは、温度t1と温度t2との間において略一定の値B5を示している。
【0023】
(比較例)
ここで、比較例の回転角検出装置11を図5に示し、この回転角検出装置11に形成される磁気回路の等価回路を図6に示す。なお、上述した一実施形態と実質的に同一の構成には、同一の符号を付して説明を省略する。
比較例の回転角検出装置11は、サブ磁石を備えていない。これ以外、比較例の構成は一実施形態の構成と同一である。
図6では、メイン磁石23、24、ヨーク21、22、及びステータ30により形成される磁気回路を符号70で示している。比較例の磁気回路70と一実施形態のメイン磁気回路60とは同一の構成である。
【0024】
一実施形態及び比較例の検出磁束の変化率を図7及び図8に示す。
図7の表では、一実施形態のギャップ部33に流れる検出磁束の変化率と、比較例のギャップ部33に流れる検出磁束の変化率とを示している。
一実施形態のギャップ部33に流れる検出磁束の変化率は、20℃を基準(0%)として、メイン磁石23、24及びサブ磁石51、52が120℃の状態になるとき、磁束密度が2.5%減少した。
一方、比較例のギャップ部33に流れる検出磁束の変化率は、20℃を基準(0%)として、メイン磁石23、24が120℃の状態になるとき、磁束密度が4.0%減少した。
【0025】
図8のグラフでは、一実施形態のギャップ部33に流れる検出磁束の変化を実線Pに示し、比較例のギャップ部33に流れる検出磁束の変化を実線Qに示している。
温度をx軸、磁束密度をy軸とすると、
実線Pは、近似直線 y=−5×10-5x+0.1881 として表わされる。
実線Qは、近似直線 y=−8×10-5x+0.21 として表わされる。
これらの式から示されるように、一実施形態の回転角検出装置10は、比較例の回転角検出装置11と比較し、メイン磁石23、24の温度特性を約38%低減することが可能である。
【0026】
(一実施形態の効果)
上述した一実施形態では、メイン磁石23、24により発生したギャップ部33を通過する磁束に対して逆方向に流れる磁束を発生するサブ磁石51、52が設けられている。サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度は、メイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度より小さい。サブ磁石51、52の温度係数は、メイン磁石23、24の温度係数より大きい。
このため、サブ磁石51、52とメイン磁石23、24とが所定範囲内で温度変化するとき、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度の変化量とメイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度の変化量とが近似する。これにより、ギャップ部33を通過する検出磁束の変化が抑制される。したがって、メイン磁石23、24の温度特性を補償し、回転角検出装置10の検出精度を高めることができる。
【0027】
一実施形態では、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度に対するメイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度の比と、メイン磁石23、24の温度係数に対するサブ磁石51、52の温度係数の比とが対応している。
これにより、サブ磁石51、52とメイン磁石23、24とが所定範囲内で温度変化するとき、サブ磁石51、52がギャップ部33に発生させる磁束密度の変化の値とメイン磁石23、24がギャップ部33に発生させる磁束密度の変化の値とを確実に近似させることができる。
一実施形態では、サブ磁石51、52は、メイン磁石23、24の径方向外側で、一対のメイン磁石23、24と同一直線上に設けられる。これにより、サブ磁石51、52の磁力をメイン磁石23、24に確実におよぼすことができる。また、サブ磁石51、52とステータ30との距離が遠くなり、サブ磁石51、52の磁界がホールIC40のセンシングの外乱として作用することを抑制することができる。
【0028】
(他の実施形態)
上述した実施形態では、スロットル装置に用いられる回転角検出装置10について説明した。これに対し、本発明は、アクセルペダル装置、ステアリング装置等の種々の回転角の検出に用いられるものであってもよい。
上述した実施形態では、ステータ30を固定し、ロータ20を回転した。これに対し、本発明はロータとステータとが相対回転すればよく、ロータを固定しステータを回転するようにしてもよい。
上述した実施形態では、サブ磁石51、52とメイン磁石23、24とを同一直線上に設けた。これに対し、本発明は、サブ磁石は、メイン磁石と共に補償磁気回路を形成可能な範囲でロータの径方向又は軸方向等に設けてもよい。
また、磁気検出手段として、ホールIC40に代えて、磁気抵抗素子等を用いるようにしても良い。
このように、本発明は、上記実施形態に限定されるものでなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の形態により実施することができる。
【符号の説明】
【0029】
10:回転角検出装置、20:ロータ、23、24:メイン磁石、30:ステータ、33:ギャップ部、40:ホールIC、51、52:サブ磁石、60:メイン磁気回路、61、62:補償磁気回路

【特許請求の範囲】
【請求項1】
磁性体から形成されるステータと、
磁性体から形成されると共に被検出物の回転に応じて前記ステータと相対回転可能に設けられるロータと、
前記ロータに固定されているメイン磁石と、
前記ステータの内部に形成されたギャップ部に配置され、前記メイン磁石により発生した前記ギャップ部を通過する磁束密度に応じた信号を出力する磁気検出素子とを備え、前記磁気検出素子の出力信号に基づいて前記被検出物の回転角を検出する回転検出装置であって、
前記ロータと共に回転するサブ磁石を備え、
前記サブ磁石は前記メイン磁石により発生した前記ギャップ部を通過する磁束に対して逆方向に流れる磁束を発生し、
前記サブ磁石が前記ギャップ部に発生させる磁束密度は、前記メイン磁石が前記ギャップ部に発生させる磁束密度より小さく、
前記サブ磁石の温度係数は、前記メイン磁石の温度係数より大きいことを特徴とする回転検出装置。
【請求項2】
前記メイン磁石と前記サブ磁石との関係は、前記サブ磁石が前記ギャップ部に発生させる磁束密度に対する前記メイン磁石が前記ギャップ部に発生させる磁束密度の比と、前記メイン磁石の温度係数に対する前記サブ磁石の温度係数の比とが対応する関係であることを特徴とする請求項1に記載の回転角検出装置。
【請求項3】
前記メイン磁石は、前記ロータの回転軸を挟んで一対設けられ、
前記サブ磁石は、前記各メイン磁石に対応して一対設けられることを特徴とする請求項1または2に記載の回転角検出装置。
【請求項4】
前記サブ磁石は、前記メイン磁石の径方向外側で、一対の前記メイン磁石と同一直線上に設けられることを特徴とする請求項3に記載の回転角検出装置。
【請求項5】
前記ステータは、前記ロータの径方向内側に設けられ、
前記ギャップ部は前記ステータの回転軸を含み径方向に延びる空隙であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の回転角検出装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【公開番号】特開2011−215070(P2011−215070A)
【公開日】平成23年10月27日(2011.10.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−85169(P2010−85169)
【出願日】平成22年4月1日(2010.4.1)
【出願人】(000004260)株式会社デンソー (27,639)
【Fターム(参考)】