平面ディスプレイ用の面取り機
【課題】基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させる。
【解決手段】基板がローディングされる基板ローディングユニット１１０と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット１２０と、基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０と、を含み、面取り加工ユニット１２０は、基板が載置支持され、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージ３００ａ、３００ｂと、複数のステージ３００ａ、３００ｂに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイール１２６とを備えるグラインダー１２３と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【解決手段】基板がローディングされる基板ローディングユニット１１０と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット１２０と、基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０と、を含み、面取り加工ユニット１２０は、基板が載置支持され、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージ３００ａ、３００ｂと、複数のステージ３００ａ、３００ｂに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイール１２６とを備えるグラインダー１２３と、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機に係り、より詳細には、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイム（ｔａｃｔ ｔｉｍｅ）を減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、半導体産業のうち電子ディスプレイ産業が急速度に発展しながら平面ディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）が登場し始めた。
【０００３】
平面ディスプレイ（ＦＰＤ）は、従前にＴＶやコンピュータモニターなどにディスプレイ（Ｄｉｓｐｌａｙ）として主に使われた陰極線管（ＣＲＴ、Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）より薄くて軽い映像表示装置であって、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイ基板（ＰＤＰ、Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などがある。
【０００４】
以下、ＬＣＤ、ＰＤＰ及びＯＬＥＤなどを含む平面ディスプレイ（ＦＰＤ）を基板と言って説明する。
【０００５】
基板は普通、長方形であり、ガラス材質からなる。したがって、基板の４角と長辺及び短辺に対してエッジ加工、すなわち、面取りをして始めてガラス自体の鋭さが除去されて、工程間の移送及び操作が容易になり、安全事故を未然に予防することができるが、このような面取り加工のために面取り機が使われる。
【０００６】
従来の面取り機のうちには、一つの面取り加工用のホイール（ｗｈｅｅｌ）を通じて基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工した例がある。しかし、このように一つの面取り加工用のホイールを通じて基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工する場合、連続作業が不可能なためにタクトタイムが多くかかる問題点があった。
【０００７】
これにより、このような問題点を考慮して、長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する方式の面取り機が開示された。
【０００８】
図１は、長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【０００９】
図１に図示されたように、従来の面取り機は、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット２０を挟んで両側に配される基板ローディングユニット１０と、基板アンローディングユニット３０とを備える。
【００１０】
面取り加工ユニット２０は、基板が載置されるが、基板ローディングユニット１０と基板アンローディングユニット３０とを連結する仮想の作業ラインに沿って直列に配される第１ステージ２１及び第２ステージ２２と、第１ステージ２１及び第２ステージ２２に載置された基板に対するアラインのための第１アラインカメラ２５ａ及び第２アラインカメラ２５ｂと、第１面取り加工用のホイール２６ａ及び第２面取り加工用のホイール２６ｂとを備える。
【００１１】
第１アラインカメラ２５ａと第１面取り加工用のホイール２６ａは、基板が進行する方向に沿って基板の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対する面取り加工を担当し、第２アラインカメラ２５ｂと第２面取り加工用のホイール２６ｂは、基板の両側長辺に対する面取り加工を担当する。
【００１２】
このような構成で、面取り加工対象の基板が基板ローディングユニット１０から第１ステージ２１に載置されれば、まず第１アラインカメラ２５ａによって撮影された映像情報に基づいて第１ステージ２１によって基板が定位置にアラインされる。以後、第１ステージ２１が、第１面取り加工用のホイール２６ａに向けて移動するか、それとも第１ステージ２１に対して第１面取り加工用のホイール２６ａが移動するように構成することで基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジをそれぞれ順次に面取り加工させる。
【００１３】
その後、別途のピックアップロボット（図示せず）が、第１ステージ２１上の基板をピックアップして実質的に９０°回転させた後、第２ステージ２２上に移す。以後、再び第２ステージ２２上で基板の定位置アライン作業が進行した後、第２面取り加工用のホイール２６ｂによって基板の両側長辺が面取り加工される。以後に、面取り加工が完了した基板は、基板アンローディングユニット３０に取り出される。
【００１４】
このような従来の面取り機は、第２ステージ２２上で基板の長辺を面取り加工する時に、第１ステージ２１では基板の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジを加工することができるために、一つの面取り加工用のホイール（図示せず）を備えた面取り機（図示せず）に比べてはタクトタイムを減少させうる。言い換えれば、面取り加工ユニット２０上で第１ステージ２１及び第２ステージ２２が直列配されるように具現することによって、面取り加工作業をインライン化することができてタクトタイムを減少させうる。
【００１５】
ところが、このように長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機においては、第１ステージ２１から第２ステージ２２に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第２ステージ２２上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第２ステージ２２上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点がある。
【００１６】
また、このような従来の面取り機においては、第１ステージ２１及び第２ステージ２２、そして、第１面取り加工用のホイール２６ａ及び第２面取り加工用のホイール２６ｂが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があって生産性を低下させる要因となっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記目的は、本発明によって、基板がローディング（ｌｏａｄｉｎｇ）される基板ローディングユニットと、前記基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニットと、前記基板がアンローディング（ｕｎｌｏａｄｉｎｇ）される基板アンローディングユニットと、を含み、前記面取り加工ユニットは、前記基板が載置支持され、前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージと、前記複数のステージに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、前記複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイールとを備えるグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機によって達成される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明と本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載の内容を参照しなければならない。
【００２１】
以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳しく説明する。各図面に付された同じ参照符号は、同じ部材を表わす。
【００２２】
図２は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【００２３】
図面の説明に先立って、以下で説明される基板とは、ＴＦＴ−ＬＣＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）基板を意味するが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、プラズマディスプレイ基板（ＰＤＰ、Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの平面ディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）にも適用可能である。但し、以下では、説明の便宜上、ＴＦＴ−ＬＣＤ基板をその例として説明する。
【００２４】
図２に図示されたように、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り加工対象の基板がローディングされる基板ローディングユニット１１０と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット１２０と、面取り加工が完了した基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０とを備える。
【００２５】
基板ローディングユニット１１０と基板ローディングユニット１１０のすべては基板を移送させる役割を果たすので、通常のコンベヤータイプ（ｃｏｎｖｅｙｏｒ ｔｙｐｅ）に適用可能である。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、基板ローディングユニット１１０と基板ローディングユニット１１０は、ローラータイプ（ｒｏｌｌｅｒ ｔｙｐｅ）やステージタイプ（ｓｔａｇｅ ｔｙｐｅ）に代替されることもある。それだけではなく、これらとともに空気（ａｉｒ）浮上によって基板を所定高さほど浮上させて移送させる空気噴射モジュールがともに適用されても良い。
【００２６】
参考までに、基板ローディングユニット１１０上の基板が面取り加工ユニット１２０側に移送されるか、面取り加工ユニット１２０から基板アンローディングユニット１３０に基板が移送される場合、移送を感知するセンサーなどが適用されることが望ましいが、これについては説明を省略する。
【００２７】
本実施形態の基板アンローディングユニット１３０には、面取り量の測定ユニット６３０がさらに設けられている。面取り量の測定ユニット６３０は、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する役割を果たす。面取り量の測定ユニット６３０によって測定された基板に対して、もし、誤って面取りされた場合であるか、面取り量が不備な場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは基板ローディングユニット１１０側にフィードバックされて面取り加工が再び進行しうる。本実施形態では、面取り量の測定ユニット６３０が基板アンローディングユニット１３０に設けられているが、面取り加工ユニット１２０に設けられても良い。面取り量の測定ユニット６３０については詳しく後述する。
【００２８】
一方、面取り加工ユニット１２０は、実質的に基板ローディングユニット１１０から提供された基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行する部分である。
【００２９】
従来技術の場合にも、面取り加工のための面取り加工ユニット１２０が設けられていることはあるが、前記図１で説明したように、従来の面取り加工ユニット１２０は、第１ステージ１２１から第２ステージ１２２に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第２ステージ１２２上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第２ステージ１２２上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点があった。
【００３０】
それだけではなく、図１で説明した従来の面取り機においては、第１ステージ１２１及び第２ステージ１２２、そして、第１面取り加工用のホイール１２６ａ及び第２面取り加工用のホイール１２６ｂが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があった。
【００３１】
しかし、本実施形態の場合には、後述するように、面取り加工ユニット１２０に備えられた第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される構造、すなわち、従来とは異なる並列配置構造を有し、これに対応するようにグラインダー１２３が備えられることによって、従来の問題点を解消している。
【００３２】
本実施形態の面取り加工ユニット１２０は、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配され、基板が載置支持される第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂと、グラインダー１２３とを備える。
【００３３】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、従来の技術とは異なって、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って相互離隔して設けられる。本実施形態の場合、面取り加工ユニット１２０に二つの第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが備えられているが、ステージの個数は３個以上でも良い。但し、ステージが３個以上備えられても、これらが基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って相互離隔して設けられれば、すなわち、並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【００３４】
詳しくは図示していないが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのそれぞれは、基板に対するアラインのために面取り加工ユニット１２０上の当該位置でＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作可能に設けられる。
【００３５】
参考までに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに対するＸ軸及びＹ軸への動作は、リニアモータ（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｏｒ）などによって遂行され、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに対するθ軸への動作は、回転モータ（ｒｏｔａｔｉｎｇ ｍｏｔｏｒ）などによって遂行されることができるが、本発明が、これに限定されるものではないので、他の構造が適用されて第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂをＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作させても良い。
【００３６】
一方、グラインダー１２３は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂを繋ぐ仮想のラインに沿って第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに亙って設けられる共有ガントリー部１２４と、共有ガントリー部１２４の一側に設けられて共有ガントリー部１２４に沿って移動しながら、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対するアラインを進行するアラインカメラ１２５と、共有ガントリー部１２４の他側に設けられて共有ガントリー部１２４に沿って移動しながら、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対する実質的な面取り加工を進行する共有面取り加工用のホイール１２６とを備える。
【００３７】
共有ガントリー部１２４は、図示されたように、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂを繋ぐ仮想のラインと平行な方向に設けられる。このような共有ガントリー部１２４には、それぞれアラインカメラ１２５と共有面取り加工用のホイール１２６とが結合される。参考までに、図面には、アラインカメラ１２５と共有面取り加工用のホイール１２６とが便宜上概略的に図示されている。
【００３８】
アラインカメラ１２５は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対するアラインを進行するため、すなわち、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂをＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作させて基板に対するアラインを進行するため、基板に形成された何れか一辺の２個のアラインマーク（ａｌｉｇｎ ｍａｒｋ）を撮影する役割を果たす。
【００３９】
図面でアラインマークは、十字架（＋）状に図示されている。したがって、アラインカメラ１２５は、何れか一辺の２個のアラインマークを撮影しなければならないために、本実施形態では、ステージの一つ当り２個ずつ設けられる。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されず、アラインカメラ１２５が、共有ガントリー部１２４に沿って移動可能に設けられて第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに共有される共有アラインカメラで適用されることもあるが、この場合、２個の共有アラインカメラが設けられれば良い。このように共有アラインカメラが適用される場合、第１ステージ３００ａ上に載置された基板のアラインマークを撮影する時は、第１ステージ３００ａ上に共有アラインカメラが配され、第２ステージ３００ｂ上に載置された基板のアラインマークを撮影する時は、第２ステージ３００ｂ上の位置に共有アラインカメラが移動配される。
【００４０】
共有面取り加工用のホイール１２６は、共有ガントリー部１２４上でアラインカメラ１２５が位置された反対側に設けられる。これは共有面取り加工用のホイール１２６が、共有ガントリー部１２４上で移動しなければならないので、アラインカメラ１２５との干渉を避けるためである。
【００４１】
このような共有面取り加工用のホイール１２６は、基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行しなければならないために、原則的にはステージの一つ当り２個ずつ設けられることができる。但し、本実施形態では、面取り加工用のホイールが、共有ガントリー部１２４に沿って移動可能な共有面取り加工用のホイール１２６で適用されているために２個の共有面取り加工用のホイール１２６が設けられる。したがって、第１ステージ１３００ａ上に載置された基板の面取り加工時には、図２に実線で図示された位置に共有面取り加工用のホイール１２６が配され、第２ステージ１３００ｂ上に載置された基板の面取り加工時には、図２に点線で図示された位置に共有面取り加工用のホイール１２６が移動配される。
【００４２】
そして、本実施形態での共有面取り加工用のホイール１２６は、前述したように、基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行しているために、単純なホイールではないマルチホイールが適用可能である。
【００４３】
一方、以下では、面取り機に対する作用の説明前に、前記で説明することができないか簡略に説明した構成、すなわち、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ、第１及び第２トランスファー４００ａ、４００ｂ、ステージ洗浄ユニット５３０、面取り量の測定ユニット６３０について図３ないし図１６を参照しながら詳しく説明する。
【００４４】
図３は、ステージの拡大斜視図であり、図４は、図３のステージに対する動作を図示した斜視図であり、図５の（ａ）は、ターンテーブルの表面に形成された第１真空ホールに対する構成図であり、図５の（ｂ）は、可変テーブルの表面に形成された第２真空ホールに対する構成図であり、図６は、ステージの概略的な側面図であり、図７は、トランスファーの拡大斜視図であり、図８は、図７のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図であり、図９は、ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図であり、図１０は、図９に図示された単位洗浄部の斜視図であり、図１１は、図１０のＡ−Ａ線による断面図であり、図１２は、基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図であり、図１３は、図１２に図示された“Ｂ”部分を拡大した拡大斜視図であり、図１４は、図１３に図示された異物除去部を説明するための斜視図であり、図１５は、図１４の分解斜視図であり、図１６は、図１４のＣ−Ｃ線による断面図である。
【００４５】
まず、ステージ３００ａ、３００ｂについて説明すれば、本実施形態において、ステージ３００ａ、３００ｂは、図２に図示されたように、Ｙ軸に沿って２個の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに設けられる。第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、グラインダー２２１の残りの構成とともに面取り加工作業をそれぞれ並列的に進行するために、それほどタクトタイムが減少して生産性が向上する。
【００４６】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、一つのステージのみが備えられることもでき、あるいは３個以上のステージが備えられることもある。これは、前述したような理由であり、但し、３個以上のステージが備えられる場合、これらがＹ軸に沿って並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【００４７】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂもその位置のみが相異なっているだけで構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【００４８】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂについて説明すれば、本実施形態の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有している。
【００４９】
すなわち、従来の面取り機に開示されたステージ（図示せず）は、上面に載置された基板を真空で吸着する単純なブロック状の構造であり、その上面の面積が一定に定められた大きさを有するために、一種の基板のみを吸着して支持するしかなかった。したがって、このような従来のステージが適用された面取り機は、多様なサイズの基板に混用して適用することができなくて、先に面取り加工した基板とそのサイズが異なる基板とを面取り加工するためにはステージ（図示せず）を取り替えなければならず、このような取り替え時間によって、タクトタイムが増加して生産性が低下する短所があった。しかし、本実施形態の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、必要によって、その上面の全体面積が調節されることができるために、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有する。
【００５０】
このために、本実施形態の面取り機に適用される第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのそれぞれは、基板を吸着して回転させるターンテーブル３１０と、ターンテーブル３１０の外郭に配されてターンテーブル３１０とともに基板を吸着して支持し、多様なサイズの基板のすべてに対応できるようにターンテーブル３１０に対して接近及び離隔可能な多数の可変テーブル３２０とを備える。
【００５１】
図３及び図４に図示されたように、ターンテーブル３１０は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの中央領域に１個設けられ、可変テーブル３２０は、ターンテーブル３１０の外郭で相互対称に４個設けられる。４個の可変テーブル３２０は、２個ずつ対を成してターンテーブル３１０に対して接近及び離隔される。
【００５２】
４個の可変テーブル３２０が、２個ずつ対を成した状態でターンテーブル３１０に対して接近及び離隔されるようにテーブル駆動部３３０がさらに設けられる。
【００５３】
図４を参照すれば、テーブル駆動部３３０は、２個ずつ対を成した可変テーブル３２０をそれぞれ連結する一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂと、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸３３２と、ボールスクリュー軸３３２を正・逆転させる駆動モータ３３３とを含む。
【００５４】
一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、それぞれ四角のブロック構造を有するが、その上面には、一つずつの可変テーブル３２０を支持するブロック支持部３３４がさらに設けられる。ブロック支持部３３４は、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂの一つ当り２個ずつ設けられて２個の可変テーブル３２０を支持する。本実施形態では、図示及び説明の便宜上、ブロック支持部３３４に対してはすべて同じ参照符号を付与している。
【００５５】
ボールスクリュー軸３３２は、外面にネジ山が形成されたものであって、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂを連結しているが、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂが連結されるボールスクリュー軸３３２の当該領域のネジ山は相互反対方向に加工される。
【００５６】
このように、ボールスクリュー軸３３２の外面に形成されたネジ山が相互反対方向に加工されており、反対方向に加工されたネジ山に一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂがそれぞれ螺合されることによって、例えば、ボールスクリュー軸３３２が正転されれば、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、図３のように相互離隔されながら、可変テーブル３２０を開けて大きい基板を吸着可能にすることもでき、反対にボールスクリュー軸３３２が逆転されれば、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、図４のように相互接近されながら、可変テーブル３２０を狭めて小さな基板を吸着可能にすることもできる。
【００５７】
駆動モータ３３３は、ボールスクリュー軸３３２を正・逆転させるための動力を発生させる部分である。本実施形態では、単一、すなわち、１個の駆動モータ３３３としてボールスクリュー軸３３２を正・逆転させている。このように、単一の駆動モータ３３３のみでも可変テーブル３２０を駆動させることができるために、それほど構成が簡素化されて設置及び維持補修が簡便になり、また、それほどコストを減らしうる利点がある。
【００５８】
ターンテーブル３１０は、その上面がおおよそ円状を有し、４個の可変テーブル３２０は、一部分が切開されたおおよそ長方状を有する。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、ターンテーブル３１０及び可変テーブル３２０の形状は、適切に変更されることもある。
【００５９】
例えば、少なくともターンテーブル３１０の上面は、楕円状を含めて多角状になっても良い。また、可変テーブル３２０は、必ずしも４個が設けられる必要はないので、可変テーブル３２０は、ターンテーブル３１０の外郭で相互対称に２個設けられることもできる。このような場合でも、テーブル駆動部３３０の構成及びそれによる動作は同様に具現可能である。
【００６０】
前述したように、面取り加工対象の基板サイズが大きい場合には、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との全体吸着面積が広くなるように、図３のようにターンテーブル３１０に対して４個の可変テーブル３２０が離隔されなければならず、面取り加工対象の基板サイズが小さければ、図４のようにターンテーブル３１０に対して４個の可変テーブル３２０が接近されなければならない。この際、図４のように４個の可変テーブル３２０がターンテーブル３１０に対して接近される時、４個の可変テーブル３２０の側面がターンテーブル３１０に衝突されればならないために、可変テーブル３２０の側面には切開部３２１が形成されている。本実施形態において、切開部３２１は、ターンテーブル３１０の外面に対応するアーク（ａｒｃ）状を有することができるが、必ずしもそういうことではない。
【００６１】
ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面には、図５に図示されたように、基板を吸着して支持するために多数の第１及び第２真空ホール３１５、３２５がそれぞれ形成されている。第１及び第２真空ホール３１５、３２５は、それぞれターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との厚さを貫通する形態に設けられる。
【００６２】
このような第１及び第２真空ホール３１５、３２５のみでも、基板を吸着して支持するには事実上十分である。しかし、本実施形態の場合、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面には、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して基板に対する真空吸着面積を倍加させる第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａがさらに形成されている。すなわち、第１及び第２真空ホール３１５、３２５に真空吸引力が発生すれば、真空吸引力は第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａを通じてさらに広くなった領域で作用しながら、基板を吸着させることができるために基板に対する真空吸着面積が高くなることができる。本実施形態において、第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａは、第１及び第２真空ホール３１５、３２５の一つ当り一つずつ設けられているが、必ずしもそういうことではない。
【００６３】
本実施形態において、ターンテーブル３１０に形成された第１真空吸着ライン溝３１５ａは、図５の（ａ）に図示されたように、ピザ（ｐｉｚｚａ）状に、可変テーブル３２０に形成された第２真空吸着ライン溝３２５ａは、図５の（ｂ）に図示されたように、ハングル‘¬’状に形成されることができるが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではない。図５の（ａ）及び図５の（ｂ）に図示されたターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面でハッチングされていない部分がハッチングされた部分に比べて陷沒されたことを意味する。
【００６４】
前にも記述したように、可変テーブル３２０は４個が設けられるために、もし、４個の可変テーブル３２０に形成される真空圧が互いに格段に異なれば、基板が安定的に支持されることができないか、あるいは一側に歪んだ状態になることもできる。したがって、４個の可変テーブル３２０、少なくとも２個ずつ対を成した可変テーブル３２０に提供される真空圧は実質的に均一になる必要がある。また、基板が中央に整列されるために、すなわち、中央を基準に対称に配されるために真空を対称にオン／オフ（ｏｎ／ｏｆｆ）することが効率的である。
【００６５】
図５の（ｂ）を参照する時、可変テーブル３２０の表面に形成された第２真空ホール３２５には、個別的に真空のオン／オフが制御されるように多数の真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃが連結されており、多数の真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃは、多数の中間配管３２７ａ、３２７ｂ、３２７ｃと連結されている。
【００６６】
この際、真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃは、中間配管３２７ａ、３２７ｂ、３２７ｃのそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブル３２０に相互対称に分岐されている。すなわち、例えば、参照符号３２７ａの中間配管は一つのラインを成すが、参照符号３２７ａの中間配管から分岐された２個のラインである真空配管３２６ａは、それぞれ隣となった一対の可変テーブル３２０の第２真空ホール３２５に向けている。このような方式で配管を構成することで少なくとも２個ずつ対を成した可変テーブル３２０に提供される真空圧は中央を基準に対称的に均一になることができ、したがって、基板に対する吸着効率を高めうる。
【００６７】
一方、第１及び第２真空ホール３１５、３２５、特に、第２真空ホール３２５を通じて均一な真空圧が形成されるとしても可変テーブル３２０の平坦度が正しく合わなければ、基板との間に間隙が発生するために基板の吸着効率が落ちるしかなくて真空の損失を誘発させる。
【００６８】
これにより、本実施形態では、簡単な方法でも連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに対する可変テーブル３２０の平坦度を調節できるように、平坦度調節部３４０をさらに設けている。
【００６９】
平坦度調節部３４０は、図６に図示されたように、両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が可変テーブル３２０と連結ブロック３３１ａ、３３１ｂとに螺合される多数の調節ボルト３４１と、連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに結合されて一端部が可変テーブル３２０に接触支持される多数の接触支持ボルト３４２とを備える。
【００７０】
このような構成によって、もし、可変テーブル３２０の平坦度を調節しなければならない場合であれば、まず多数の接触支持ボルト３４２を緩めて接触支持ボルト３４２の一端部が可変テーブル３２０から平坦度調節のために要求される位置まで離隔させた後で、当該位置にある調節ボルト３４１を締めるか緩める。調節ボルト３４１の両端部は、反対方向のネジ山が形成されており、反対方向のネジ山は、それぞれ可変テーブル３２０と連結ブロック３３１ａ、３３１ｂとに連結されているために調節ボルト３４１を締めるか緩めれば、可変テーブル３２０が連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに対して下降するか上昇される。したがって、このような操作を通じて可変テーブル３２０の平坦度を調節すれば良く、可変テーブル３２０の平坦度が調節されれば、再び接触支持ボルト３４２を締めて接触支持ボルト３４２の一端部が可変テーブル３２０に接触支持されることによって、可変テーブル３２０が任意に傾く現象を予防すれば良い。
【００７１】
一方、図２を参照すれば、基板ローディングユニット１１０と面取り加工ユニット１２０との間の領域、そして、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間の領域には、基板ローディングユニット１１０上の加工前基板を第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上の加工完了基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させるトランスファー４００ａ、４００ｂが設けられている。
【００７２】
本実施形態において、基板ローディングユニット１１０と面取り加工ユニット１２０ との間の領域、そして、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間の領域に設けられているトランスファー４００ａ、４００ｂの構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、トランスファー４００ａ、４００ｂの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【００７３】
主に図７及び図８を参照する時、トランスファー４００ａ、４００ｂは、基板の両側面で基板を把持する多数の基本把持ユニット４１０と、多数の基本把持ユニット４１０とは異なる位置に設けられて基板の移送または停止途中、基板が基本把持ユニット４１０から離脱して落下することを防止する安全把持ユニット４３０とを備える。
【００７４】
基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、ヘッド部４４０に結合されている。したがって、後述するＸ軸駆動部４６１、Ｙ軸駆動部４６２及びＺ軸駆動部４６３によってヘッド部４４０が所望の位置に移動すれば、これとともに基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０も当該位置に移動させる。
【００７５】
本実施形態において、多数の基本把持ユニット４１０は、ヘッド部４４０の両側面（短辺）領域に２個ずつ４個設けられ、安全把持ユニット４３０は、面取り加工ユニット１２０あるいは基板アンローディングユニット１３０に向けたヘッド部４４０の前面（長辺）領域に１個設けられる。
【００７６】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定される必要はないので、ヘッド部４４０の両側面領域に１個ずつの基本把持ユニット４１０が設けられるか、あるいはヘッド部４４０の両側面領域に３個ずつ、あるいはそれ以上個数ずつの基本把持ユニット４１０が設けられても良い。そして、安全把持ユニット４３０の場合に、ヘッド部４４０の前面（長辺）領域にも２個以上設けられることができ、ヘッド部４４０の前面（長辺）領域と後面（長辺）領域とにすべて設けられることもできる。安全把持ユニット４３０の個数が多くなれば、大きい基板の垂れを防止できる効果があるので、効率的な構造に適切に選択されることができる。
【００７７】
４個の基本把持ユニット４１０について説明すれば、４個の基本把持ユニット４１０は、本実施形態でヘッド部４４０の短辺領域に２個ずつ設けられる。この際、２個ずつの基本把持ユニット４１０は、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによってそれぞれ連結されている。
【００７８】
一対の連結部４１１ａ、４１１ｂは、ヘッド部４４０の側面に形成されて一対の連結部４１１ａ、４１１ｂの移動を案内する一対の案内部４１２ａ、４１２ｂに移動可能に収容結合されている。本実施形態の場合、案内部４１２ａ、４１２ｂは一対になっているが、案内部４１２ａ、４１２ｂは図面のように分離されないで一体型に貫通された構造を有することもある。
【００７９】
トランスファー４００ａ、４００ｂには、所定の制御信号によって一対の連結部４１１ａ、４１１ｂが一対の案内部４１２ａ、４１２ｂによって案内されながら、相互接近及び離隔されるように一対の連結部４１２ａ、４１２ｂを駆動させる駆動部４１３がさらに備えられる。駆動部４１３に対しては詳しくは図示していないが、駆動部４１３は、モータと、モータによって正・逆転するが、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂに相異なる方向のネジ山を有して連結されるボールスクリュー軸として具現可能である。
【００８０】
これにより、駆動部４１３のモータに電源が印加されてボールスクリュー軸が正転すれば、例えば、図８の点線のように２個ずつの基本把持ユニット４１０は、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによって相互接近されることができ、反対にボールスクリュー軸が逆転すれば、２個ずつの基本把持ユニット４１０は一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによって相互離隔されることができる。このように、４個の基本把持ユニット４１０が、相互接近及び離隔されることによって多様なサイズの基板に共に適用できる利点がある。
【００８１】
１個の安全把持ユニット４３０の構造について説明すれば、安全把持ユニット４３０の装着のために固定ロッド４３１と、回動支持部４３３とが備えられる。
【００８２】
固定ロッド４３１は、ヘッド部４４０に固定されるように設けられる、いわゆるブラケットのような構成であって、固定ロッド４３１は、垂直ロッド４３１ａと、垂直ロッド４３１ａの端部で垂直ロッド４３１ａに横に形成される水平ロッド４３１ｂとを備える。
【００８３】
回動支持部４３３は、水平ロッド４３１ｂの端部で安全把持ユニット４３０を支持するが、回動支持部４３３は、水平ロッド４３１ｂに対して安全把持ユニット４３０を回動可能に支持する。回動支持部４３３の回動動作は、前述した制御信号によって基本把持ユニット４１０が動作する時に連動して動作する。すなわち、図８の点線のように、基本把持ユニット４１０が動作して実質的に基板の両側面及び下面一部を支持する場合、回動支持部４３３の回動動作に基づいて安全把持ユニット４３０をして基板の前面及び下面一部を支持して基板の移送または停止途中、基板が落下する現象を防止する。
【００８４】
このように、実質的に基板を単純に把持するか、あるいは安定的に把持するために設けられる基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、すべてが当該位置で基板の側面に接触された状態で基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘Ｌ’状に製作される。しかし、この形状に本発明の権利範囲が限定されない。
【００８５】
そして、基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、すべて基板に接触されながら基板を把持するために、基板に接触される過程で基板にスクラッチ（ｓｃｒａｔｃｈ）を発生させる恐れがある。
【００８６】
これにより、本実施形態では、基板にスクラッチの発生が防止されるように基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０のすべてをＭＤ−ＰＡ材質で製作している。しかし、ＭＤ−ＰＡ材質ではないとしても基板に損傷を与えない材質でありながら、一定の剛性を保有することができれば基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０とが異なる材質で製作されても良い。
【００８７】
一方、前にも記述したように、多様なサイズの基板をいずれも把持できるように、特に、基本把持ユニット４１０は、相互接近及び離隔可能に設けられるが、それ以外にもトランスファー４００ａ、４００ｂのその自体は、基板ローディングユニット１１０上の基板を第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上の基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させるためにＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸に移動可能に設けられる。
【００８８】
このために、本実施形態のトランスファー４００ａ、４００ｂは、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを繋ぐ仮想のＸ軸に沿って基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０とが結合されたヘッド部４４０を駆動させるＸ軸駆動部４６１と、Ｘ軸に交差されるＹ軸に沿ってヘッド部４４０を駆動させるＹ軸駆動部４６２と、ヘッド部４４０を上下方向であるＺ軸に沿って駆動させるＺ軸駆動部４６３とをさらに備える。
【００８９】
Ｘ軸駆動部４６１、Ｙ軸駆動部４６２及びＺ軸駆動部４６３は、線形移動制御が容易なリニアモータによって具現可能であるが、場合によって、シリンダーやモータ、ボールスクリュー組合わせなどの構造によって具現されることもある。
【００９０】
一方、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させた後、ステージ３００ａ、３００ｂは、前述した作業を再び反復するために基板ローディングユニット１１０の方向に移動する。ところで、加工対象の基板が載置されるステージ３００ａ、３００ｂの上部には、面取り加工時に発生した異物が残存することができるために基板が載置されるステージ３００ａ、３００ｂの上部を洗浄した後、次の基板をローディングしなければならない。これは、洗浄をしないで新たな基板がステージ３００ａ、３００ｂにローディングされる場合、ステージ３００ａ、３００ｂに残存する異物によって基板が汚染されることができるためである。
【００９１】
したがって、本実施形態の面取り機は、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間に設けられてステージ３００ａ、３００ｂの表面を洗浄するステージ洗浄ユニット５３０（図２参照）と、ステージ３００ａ、３００ｂの表面に洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニット５３０の作動を制御する制御部（図示せず）とをさらに含み、これにより、今後面取り加工される基板のステージ３００ａ、３００ｂに残存する異物による汚染を防止できる。
【００９２】
ここで、制御部は、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させ、そして、基板を支持していないステージ３００ａ、３００ｂがまた新たな基板をローディングするために基板ローディングユニット１１０に移動する時、ステージ洗浄ユニット５３０を作動させてステージ３００ａ、３００ｂの表面に残存可能な異物を除去させ、また、ステージ３００ａ、３００ｂがステージ洗浄ユニット５３０の噴射領域を通過すれば、ステージ洗浄ユニット５３０の作動を停止させるようにステージ洗浄ユニット５３０の作動を制御する。
【００９３】
本実施形態のステージ洗浄ユニット５３０は、図２及び図９に図示されたように、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの移動ラインにそれぞれ配される二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂと、ステージ３００ａ、３００ｂの移動方向の横方向に配され、二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂが結合されるユニットフレーム５４５とを備える。
【００９４】
但し、二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂは、実質的に同一の構成を有するために、以下では、第１ステージ３００ａの上部に配される一対の単位洗浄部５３１ａについてのみ説明する。
【００９５】
一対の単位洗浄部５３１ａは、図９ないし図１１に詳しく図示されたように、移動ラインに沿って移動可能に配される第１ステージ３００ａの上部に配されて第１ステージ３００ａの上面方向に洗浄のための洗浄流体を噴射する。この際、一対の単位洗浄部５３１ａは、偏平に設けられる第１ステージ３００ａの上面に残存する異物が外側に離脱されることができるように相互対称される角度で傾いて設けられる。
【００９６】
言い換えれば、洗浄流体の噴射方向が、第１ステージ３００ａの上面の面方向と傾くようにすることによって、第１ステージ３００ａの上面に残存する異物が洗浄流体の押す力によって外側に離脱されることができるようにする。第１ステージ３００ａの上面とは、前述したターンテーブル３１０及び多数の可変テーブル３２０の上面を示す。
【００９７】
したがって、単位洗浄部５３１ａが、洗浄流体の噴射方向を調節してステージ５７０ａに残存する異物を最大限効率的に除去できるように単位洗浄部５３１ａは、ユニットフレーム５４５に対して多方向に回動可能に設けられる。
【００９８】
このような単位洗浄部５３１ａの具体的な構成について説明すれば、本実施形態の単位洗浄部５３１ａは、第１ステージ３００ａに洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部５３２と、噴射胴体部５３２が、ユニットフレーム５４５に対して多方向に回動可能に噴射胴体部５３２をユニットフレーム５４５に結合させる回動結合部５４０とを備える。
【００９９】
噴射胴体部５３２は、回動結合部５４０に対して回動可能に結合される回動部材５３３と、回動部材５３３と実質的に並んで回動部材５３３に結合され、上端部から内側方向に洗浄流体が移動する移動空間５３４ｓが陷沒形成されている噴射部材５３４と、噴射部材５３４の上面に結合されて噴射部材５３４の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材５３５とを備える。
【０１００】
ここで、噴射部材５３４と遮蔽部材５３５とを結合させれば、その先端部に移動空間５３４ｓと連通されるスリット状の噴射口５３４ｈが設けられるが、このような噴射口５３４ｈを通じて洗浄流体が第１ステージ３００ａの上面に斜めに噴射されて第１ステージ３００ａの異物をきれいに除去することができる。
【０１０１】
まず回動部材５３３は、図１０及び図１１に図示されたように、回動結合部５４０に対して‘θ１’方向に回動可能に結合される。したがって、噴射部材５３４の噴射口５３４ｈを通じて噴射される洗浄流体の噴射方向を調節することができる。すなわち、洗浄流体が、第１ステージ３００ａに残存する異物を外側に押し出すように第１ステージ３００ａに対する噴射部材５３４の傾斜角度を容易に調節することができる。
【０１０２】
遮蔽部材５３５は、噴射部材５３４の内側部分を保護するため、すなわち、外部の異物が洗浄流体が移動する噴射部材５３４の内側に侵透することを防止するため、噴射部材５３４の上面に結合される。また、遮蔽部材５３５は、噴射部材５３４の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で噴射部材５３４の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【０１０３】
一方、このような噴射胴体部５３２が結合される回動結合部５４０は、ユニットフレーム５４５に締結されるフレーム締結部材５４１と、回動部材５３３が軸中心に回動可能に回動部材５３３に結合される回動結合部材５４２と、フレーム締結部材５４１及び回動結合部材５４２の間に結合され、回動結合部材５４２をフレーム締結部材５４１に対して相対回動させる連結部材５４３とを備える。
【０１０４】
このような回動結合部５４０の構造によって、前述したように、噴射胴体部５３２は、‘θ１’方向に回動できるだけではなく、フレーム締結部材５４１に対して回動結合部材５４２が‘θ２’方向に相対回動することで噴射胴体部５３２の全体が回動結合部５４０に対して‘θ２’方向に相対回動することができる。したがって、第１ステージ３００ａに対する単位洗浄部５３１ａの傾斜角度を適切に調節することによって、第１ステージ３００ａ上に残存する異物をより効果的に除去することができる。
【０１０５】
一方、前述した第１ステージ３００ａの洗浄作業は、工程を一時的に中断させて進行することではなく、工程中に進行する。すなわち、面取り加工された基板が基板アンローディングユニット５４０に移送されて基板が積載されていない第１ステージ３００ａは、今後の作業のために移動ラインに沿って再び基板ローディングユニット１１０の方向に移動するが、この際、ステージ洗浄ユニット５３０が動作して第１ステージ３００ａ上に残存する異物を除去する。したがって、基板に対する面取り加工工程のタクトタイムを短縮させることができ、これにより、全体的な生産性を向上させうる長所がある。
【０１０６】
一方、本実施形態では、ステージ３００ａ、３００ｂの数に対応する対ほどの単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂがユニットフレーム５４５に結合されると上述したが、ユニットフレームに一対の単位洗浄部が移動可能に結合されることによって、交番的に移動する複数のステージに対する洗浄作業を進行することもできる。
【０１０７】
一方、前にも記述したように、図２、そして、図１２ないし図１６を参照すれば、本実施形態の面取り機で基板アンローディングユニット１３０には、面取り加工された基板の面取り量を測定するための面取り量の測定ユニット６３０が設けられている。これは、基板を面取り加工する時、既定の面取り量の基準内で面取り加工がなされなければならないが、例えば、既定の基準を超えるか、超えないように基板が面取り加工されることができるので、面取り量の測定ユニット６３０によって基板の面取り量を正確に測定して、これを面取り加工用のホイール１２６側にフィードバックされて面取り量を補正することによって、今後面取り加工される基板の面取り加工を正確にするためである。
【０１０８】
ところが、前述したように、従来技術による面取り機の場合、面取り量の測定ユニット（図示せず）が、面取り加工ユニット２０（図１参照）に設けられて面取り加工とともに面取り量を測定して来たために全体的なタクトタイムを増加させる問題点があった。すなわち、従来には、面取り加工ユニット２０に設けられた面取り量の測定ユニットによって面取り量が測定されるために、面取り加工作業に対するタクトタイムが増加するだけではなく、面取り量の測定のために基板が停止される別途の時間が割り当てられねばならない問題点があった。
【０１０９】
したがって、本実施形態の面取り機は、このようなタクトタイムの増加問題を解消するために、面取り加工が完了した基板が外部にアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０のローラーに沿って基板が移送される時、基板の面取り量を測定できるように基板アンローディングユニット１３０の上下部に面取り量の測定ユニット６３０が設けられている。以下では、このような面取り量の測定ユニット６３０の構成について詳しく説明する。
【０１１０】
図２、そして、図１２ないし図１６を参照する時、本実施形態の面取り量の測定ユニット６３０は、基板アンローディングユニット１３０の上部及び下部にそれぞれ配されて基板の短辺エッジ部分の面取り量を測定する測定部６３１と、基板アンローディングユニット１３０の長手方向の横方向に設けられて測定部６３１が移動可能に結合される測定支持フレーム６３３と、測定部６３１が搭載されて測定支持フレーム６３３の長手方向に沿って移動することによって、基板に対する測定部６３１の位置を調節させる移動フレーム６３５と、移動フレーム６３５上で測定部６３１を昇降させて測定部６３１が基板アンローディングユニット１３０に対して接近及び離隔可能にする昇降駆動部６３７とを備える。
【０１１１】
本実施形態において、測定部６３１は、基板の一側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために基板アンローディングユニット１３０の上部及び下部に一対設けられ、全体的に基板の両側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために二対が設けられる。
【０１１２】
測定部６３１は、昇降駆動部６３７によって移動フレーム６３５上で昇降することができて基板アンローディングユニット６４０のローラー（図示せず）に沿って移送される基板の両側短辺のエッジ部分に接近するか離隔される。また、測定部６３１が結合された移動フレーム６３５は、測定支持フレーム６３３の長手方向に沿って摺動可能で基板のサイズによって左右方向への位置調節が可能であり、これにより、測定部６３１が相互異なるサイズを有する多数の基板に対する面取り量の測定を柔軟にさせる。
【０１１３】
ここで、昇降駆動部６３７は、測定部６３１が移動フレーム６３５の高さ方向に沿ってリニアモーション（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ）に移動できるようにリニアモータで設けられることができる。また、移動フレーム６３５も測定支持フレーム６３３に対してリニアモーションに移動できるように移動フレーム６３５を駆動させる別途の移動駆動部６３８が測定支持フレーム６３３上に装着されることもある。
【０１１４】
本実施形態の測定部６３１は、基板の面取り量を正確に測定するために面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分を連続的に撮影するラインスキャンカメラ６３１（ｌｉｎｅ ｓｃａｎ ｃａｍｅｒａ）が適用される。したがって、基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる長所がある。
【０１１５】
但し、本実施形態では、測定部６３１としてラインスキャンカメラ６３１が適用されるが、それ以外にもエリアカメラ（ａｒｅａ ｃａｍｅｒａ）などが適用されて基板の面取り量及び面取り状態などを測定することもできる。エリアカメラは、ラインスキャンカメラとは異なって面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分のうち一部分を撮影して基板の面取り量を測定するカメラとしてラインスキャンカメラと同様に基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる。
【０１１６】
一方、本実施形態の平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り量の測定ユニットの測定部６３１によって面取り加工された基板の面取り量を測定した後、該測定された値に基づいて面取り加工用のホイール１２６の面取り量を補正して、今後加工される基板の面取り量を再調整できるように、面取り加工用のホイール１２６を制御する制御部（図示せず）をさらに備える。
【０１１７】
言い換えれば、測定部６３１が、撮影によって面取り加工された基板の面取り量を測定したが、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工されたか不十分に加工された場合、制御部は、測定された面取り量の情報に基づいて面取り量を補正するために面取り加工用のホイール１２６の位置を再調整する。より詳しく説明すれば、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工された場合、制御部は、面取り加工用のホイール１２６の間隔を狭めて今後面取り加工される基板は不十分に面取り加工させ、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準より不十分に加工された場合、制御部は、面取り量を補正するために面取り加工用のホイール１２６の間隔を広げて今後面取り加工される基板は測定部６３１によって面取り量の測定された基板に比べてさらに面取り加工させる。
【０１１８】
一方、本実施形態の面取り量の測定ユニット６３０は、基板の面取り量を測定するのに先立って、基板の面取り加工された部分に残存する異物を除去するための異物除去部６４０をさらに含む。このような異物除去部６４０によって基板の両側短辺のエッジ部分に残存する異物を除去することができて測定部６３１でより正確な面取り量を測定できる。
【０１１９】
本実施形態の異物除去部６４０は、図１３ないし図１６に図示されたように、移動フレーム６３５に結合され、面取り量が測定される基板の両側短辺のエッジ部分が通過可能に一側が開放されたトンネル部分６４１ｓに設けられ、基板ローディングユニット１１０の方向に向ける一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間６４２ｓ（図１６参照）が陷沒形成されている異物除去胴体６４１と、異物除去胴体６４１に設けられ、移動空間６４２ｓを通過した異物除去用の作業流体を基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材６４２と、噴射部材６４２が設けられた異物除去胴体６４１の一面に着脱可能に結合されて異物除去胴体６４１の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材６４３とを備える。
【０１２０】
ここで、移動空間６４２ｓを移動した異物除去用の作業流体は、噴射部材６４２と遮蔽部材６４３との結合部分に形成される、すなわち、噴射部材６４２と遮蔽部材６４３とが離隔して結合されて設けられる噴射出口６４２ｈを通じて噴射される。噴射出口６４２ｈは、異物除去用の作業流体が、斜めに噴射されて基板の異物を効果的に除去できるように異物除去胴体６４１の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に傾いて設けられる。
【０１２１】
異物除去胴体６４１は、移動フレーム６３５に固定結合されて測定支持フレーム６３３に対する移動フレーム６３５の摺動時のように移動することができる。したがって、基板のサイズによって基板の両側に置かれた異物除去胴体６４１の位置を調節することができ、これにより、基板が異物除去胴体６４１のトンネル部分６４１ｓを過ぎって測定部６３１の間を通過させうる。
【０１２２】
一対の噴射部材６４２は、トンネル部分６４１ｓが設けられた異物除去胴体６４１の一面に相互対向されるように設けられ、遮蔽部材６４３と隣接した一面は傾いて設けられている。したがって、基板の両側短辺のエッジ部分、すなわち、面取り加工された部分に向けて異物除去用のガスを噴射して基板の両側短辺のエッジ部分から異物を除去することができ、これにより、測定部６３１が基板から正確な面取り量を測定させうる。
【０１２３】
遮蔽部材６４３は、異物除去胴体６４１の内側に配される流体移動管（図示せず）を保護するために、異物除去胴体６４１の一面に着脱可能に結合される。このような遮蔽部材６４３は、異物除去胴体６４１の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で異物除去胴体６４１の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【０１２４】
このような構成を有する面取り機の作用について説明すれば、次の通りである。
【０１２５】
面取り加工対象の基板が、基板ローディングユニット１１０から第１トランスファー４００ａを通じて第１ステージ３００ａに載置されれば、まず第１ステージ３００ａ上のアラインカメラ１２５が基板のアラインマークを撮影する。該撮影された映像情報は、図示していない制御部に伝送されて制御部によって第１ステージ３００ａがＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作することによって、第１ステージ３００ａ上の基板に対するアライン作業が進行する。
【０１２６】
第１ステージ３００ａ上の基板に対するアライン作業が完了すれば、実質的な面取り加工に入る。面取り加工のために、共有面取り加工用のホイール１２６は、共有ガントリー部１２４に沿って図２の実線位置に移動する。面取り加工時、第１ステージ１３００ａが共有面取り加工用のホイール１２６に向けて移動するか、それとも反対に第１ステージ３００ａに対して共有面取り加工用のホイール１２６が移動して基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対してそれぞれ順次に面取り加工が進行する。
【０１２７】
基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対して面取り加工が完了すれば、第１ステージ３００ａがθ軸に回転される。したがって、第１ステージ３００ａは、横方向に配された状態になる。この際は、従来のように別途のピックアップロボットが使われないで第１ステージ３００ａのその自体がθ軸に回転されるために、従来のように基板に対するアライン作業を再び進行する必要がなくてタクトタイムが短縮される。
【０１２８】
第１ステージ３００ａがθ軸に回転すれば、引き続き基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する。この際も、第１ステージ３００ａが共有面取り加工用のホイール１２６に向けて移動するか、それとも反対に第１ステージ３００ａに対して共有面取り加工用のホイール１２６が移動して基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する。
【０１２９】
面取り加工が完了した基板は、第２トランスファー４００ｂによって基板アンローディングユニット１３０に取り出され、基板アンローディングユニット１３０上で面取り量が測定される。もし、誤って面取りされた場合であるか面取り量が不備な場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは基板ローディングユニット１１０側にフィードバックされて面取り加工が再び進行しうる。
【０１３０】
一方、このように、第１ステージ３００ａ上で基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工が進行する過程と並行して、新たな面取り加工対象の基板は第２ステージ３００ｂ上に移送されて同一の面取り加工が進行する。言い換えれば、本実施形態では、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが相互並列構造に配されているために作業が中断されるか、待機する時間なしに連続的に第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上でグラインダー１２３と相互有機的に面取り加工が進行する。例えば、第１ステージ３００ａ上で基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対してそれぞれ順次に面取り加工が進行した後、第１ステージ３００ａがθ軸に回転するうちに新たな面取り加工対象の基板は第２ステージ３００ｂに載置されて第２ステージ３００ｂ上のアラインカメラ１２５を用いてアライン完了した基板に対する面取り作業を行うなど面取り加工作業が第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上でグラインダー１２３によって相互並列的に、有機的に進行しうる。また、これと並行して、新たな基板のローディングのために基板ローディングユニット１１０側に移動するステージ３００ａ、３００ｂは、ステージ洗浄ユニット５３０によってその表面が洗浄された後に作業対象の基板がローディングされるようにすることによって異物による不良発生を予防させうる。そして、前記の説明で適用された基板よりそのサイズが大きい基板やあるいは小さな基板を前述した面取り機に適用するためには、基板を支持する第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの上面全体面積を図３及び図４の方法どおりに調節した後に使えば良いために、その適用範囲がさらに広くなる。
【０１３１】
このように、本実施形態によれば、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させうる。また、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのうち何れか一つに故障が発生しても、装備の中断なしに装備稼動を続いて進行しうる。
【０１３２】
図３は、本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【０１３３】
本実施形態の場合、前述した実施形態とは異なる構造のグラインダー１２３ａを適用している。すなわち、図３に図示されたように、本実施形態のグラインダー１２３ａは、複数のアラインカメラ１２５ａと、複数の面取り加工用のホイール１２６ｂと、複数のアラインカメラ１２５ａを支持するカメラ支持バー１２７と、複数の面取り加工用のホイール１２６ｂを支持するホイール支持用のガントリー部１２８とを備える。
【０１３４】
前述した実施形態では、特に面取り加工用のホイールが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂにすべて共有される共有面取り加工用のホイール１２６として適用されたが、本実施形態の場合には、アラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂ のすべてが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの一つ当り２個ずつ独立的に設けられる構造を適用している。
【０１３５】
このような場合、アラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂのそれぞれは４個設けられるが、前述した実施形態のように共有ガントリー部１２４が使われる必要がないために、図示されたように、４個のアラインカメラ１２５ａは、カメラ支持バー１２７に、そして、４個の面取り加工用のホイール１２６ｂは、ホイール支持用のガントリー部１２８に結合されれば、それで十分である。
【０１３６】
参考までに、図３に見れば、２個ずつの面取り加工用のホイール１２６ｂがホイール支持用のガントリー部１２８の両側にそれぞれ設けられているが、これらはホイール支持用のガントリー部１２８の一側に一列に配されても良い。
【０１３７】
本実施形態のように構成しても、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させうる効果を提供するには十分である。
【０１３８】
特に、本実施形態の場合には、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのうち何れか一つに、あるいは２個ずつのアラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂのうち何れか一つに故障が発生しても、装備の中断なしに装備稼動を進行させ続けるために、従来の面取り機より生産性を向上させうる。
【０１３９】
このように、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び範囲を外れずに多様に修正及び変形できるということは、当業者に自明なものである。したがって、そのような修正例または変形例は、本発明の特許請求の範囲に属すると言わなければならない。
【産業上の利用可能性】
【０１４０】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機に関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図２】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図３】ステージの拡大斜視図である。
【図４】図３のステージに対する動作を図示した斜視図である。
【図５】（ａ）は、ターンテーブルの表面に形成された第１真空ホールに対する構成図であり、（ｂ）は、可変テーブルの表面に形成された第２真空ホールに対する構成図である。
【図６】ステージの概略的な側面図である。
【図７】トランスファーの拡大斜視図である。
【図８】図７のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図である。
【図９】ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図である。
【図１０】図９に図示された単位洗浄部の斜視図である。
【図１１】図１０のＡ−Ａ線による断面図である。
【図１２】基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図である。
【図１３】図１２に図示された“Ｂ”部分を拡大した拡大斜視図である。
【図１４】図１３に図示された異物除去部を説明するための斜視図である。
【図１５】図１４の分解斜視図である。
【図１６】図１４のＣ−Ｃ線による断面図である。
【図１７】本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機に係り、より詳細には、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイム（ｔａｃｔ ｔｉｍｅ）を減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、半導体産業のうち電子ディスプレイ産業が急速度に発展しながら平面ディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）が登場し始めた。
【０００３】
平面ディスプレイ（ＦＰＤ）は、従前にＴＶやコンピュータモニターなどにディスプレイ（Ｄｉｓｐｌａｙ）として主に使われた陰極線管（ＣＲＴ、Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）より薄くて軽い映像表示装置であって、液晶表示装置（ＬＣＤ、Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）、プラズマディスプレイ基板（ＰＤＰ、Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などがある。
【０００４】
以下、ＬＣＤ、ＰＤＰ及びＯＬＥＤなどを含む平面ディスプレイ（ＦＰＤ）を基板と言って説明する。
【０００５】
基板は普通、長方形であり、ガラス材質からなる。したがって、基板の４角と長辺及び短辺に対してエッジ加工、すなわち、面取りをして始めてガラス自体の鋭さが除去されて、工程間の移送及び操作が容易になり、安全事故を未然に予防することができるが、このような面取り加工のために面取り機が使われる。
【０００６】
従来の面取り機のうちには、一つの面取り加工用のホイール（ｗｈｅｅｌ）を通じて基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工した例がある。しかし、このように一つの面取り加工用のホイールを通じて基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工する場合、連続作業が不可能なためにタクトタイムが多くかかる問題点があった。
【０００７】
これにより、このような問題点を考慮して、長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する方式の面取り機が開示された。
【０００８】
図１は、長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【０００９】
図１に図示されたように、従来の面取り機は、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット２０を挟んで両側に配される基板ローディングユニット１０と、基板アンローディングユニット３０とを備える。
【００１０】
面取り加工ユニット２０は、基板が載置されるが、基板ローディングユニット１０と基板アンローディングユニット３０とを連結する仮想の作業ラインに沿って直列に配される第１ステージ２１及び第２ステージ２２と、第１ステージ２１及び第２ステージ２２に載置された基板に対するアラインのための第１アラインカメラ２５ａ及び第２アラインカメラ２５ｂと、第１面取り加工用のホイール２６ａ及び第２面取り加工用のホイール２６ｂとを備える。
【００１１】
第１アラインカメラ２５ａと第１面取り加工用のホイール２６ａは、基板が進行する方向に沿って基板の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対する面取り加工を担当し、第２アラインカメラ２５ｂと第２面取り加工用のホイール２６ｂは、基板の両側長辺に対する面取り加工を担当する。
【００１２】
このような構成で、面取り加工対象の基板が基板ローディングユニット１０から第１ステージ２１に載置されれば、まず第１アラインカメラ２５ａによって撮影された映像情報に基づいて第１ステージ２１によって基板が定位置にアラインされる。以後、第１ステージ２１が、第１面取り加工用のホイール２６ａに向けて移動するか、それとも第１ステージ２１に対して第１面取り加工用のホイール２６ａが移動するように構成することで基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジをそれぞれ順次に面取り加工させる。
【００１３】
その後、別途のピックアップロボット（図示せず）が、第１ステージ２１上の基板をピックアップして実質的に９０°回転させた後、第２ステージ２２上に移す。以後、再び第２ステージ２２上で基板の定位置アライン作業が進行した後、第２面取り加工用のホイール２６ｂによって基板の両側長辺が面取り加工される。以後に、面取り加工が完了した基板は、基板アンローディングユニット３０に取り出される。
【００１４】
このような従来の面取り機は、第２ステージ２２上で基板の長辺を面取り加工する時に、第１ステージ２１では基板の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジを加工することができるために、一つの面取り加工用のホイール（図示せず）を備えた面取り機（図示せず）に比べてはタクトタイムを減少させうる。言い換えれば、面取り加工ユニット２０上で第１ステージ２１及び第２ステージ２２が直列配されるように具現することによって、面取り加工作業をインライン化することができてタクトタイムを減少させうる。
【００１５】
ところが、このように長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機においては、第１ステージ２１から第２ステージ２２に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第２ステージ２２上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第２ステージ２２上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点がある。
【００１６】
また、このような従来の面取り機においては、第１ステージ２１及び第２ステージ２２、そして、第１面取り加工用のホイール２６ａ及び第２面取り加工用のホイール２６ｂが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があって生産性を低下させる要因となっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明の目的は、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる平面ディスプレイ用の面取り機を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記目的は、本発明によって、基板がローディング（ｌｏａｄｉｎｇ）される基板ローディングユニットと、前記基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニットと、前記基板がアンローディング（ｕｎｌｏａｄｉｎｇ）される基板アンローディングユニットと、を含み、前記面取り加工ユニットは、前記基板が載置支持され、前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージと、前記複数のステージに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、前記複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイールとを備えるグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機によって達成される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させ、かつ複数のステージ及び複数の面取り加工用のホイールのうち何れか一つに故障が発生する場合、全体装備が稼動されることができない従来の面取り機の問題点を改善して生産性を向上させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明と本発明の動作上の利点及び本発明の実施によって達成される目的を十分に理解するためには、本発明の望ましい実施形態を例示する添付図面及び添付図面に記載の内容を参照しなければならない。
【００２１】
以下、添付図面を参照して、本発明の望ましい実施形態を説明することによって、本発明を詳しく説明する。各図面に付された同じ参照符号は、同じ部材を表わす。
【００２２】
図２は、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【００２３】
図面の説明に先立って、以下で説明される基板とは、ＴＦＴ−ＬＣＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ−Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ）基板を意味するが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、プラズマディスプレイ基板（ＰＤＰ、Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅｓ）などの平面ディスプレイ（Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐｌａｙ、ＦＰＤ）にも適用可能である。但し、以下では、説明の便宜上、ＴＦＴ−ＬＣＤ基板をその例として説明する。
【００２４】
図２に図示されたように、本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り加工対象の基板がローディングされる基板ローディングユニット１１０と、基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニット１２０と、面取り加工が完了した基板がアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０とを備える。
【００２５】
基板ローディングユニット１１０と基板ローディングユニット１１０のすべては基板を移送させる役割を果たすので、通常のコンベヤータイプ（ｃｏｎｖｅｙｏｒ ｔｙｐｅ）に適用可能である。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、基板ローディングユニット１１０と基板ローディングユニット１１０は、ローラータイプ（ｒｏｌｌｅｒ ｔｙｐｅ）やステージタイプ（ｓｔａｇｅ ｔｙｐｅ）に代替されることもある。それだけではなく、これらとともに空気（ａｉｒ）浮上によって基板を所定高さほど浮上させて移送させる空気噴射モジュールがともに適用されても良い。
【００２６】
参考までに、基板ローディングユニット１１０上の基板が面取り加工ユニット１２０側に移送されるか、面取り加工ユニット１２０から基板アンローディングユニット１３０に基板が移送される場合、移送を感知するセンサーなどが適用されることが望ましいが、これについては説明を省略する。
【００２７】
本実施形態の基板アンローディングユニット１３０には、面取り量の測定ユニット６３０がさらに設けられている。面取り量の測定ユニット６３０は、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する役割を果たす。面取り量の測定ユニット６３０によって測定された基板に対して、もし、誤って面取りされた場合であるか、面取り量が不備な場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは基板ローディングユニット１１０側にフィードバックされて面取り加工が再び進行しうる。本実施形態では、面取り量の測定ユニット６３０が基板アンローディングユニット１３０に設けられているが、面取り加工ユニット１２０に設けられても良い。面取り量の測定ユニット６３０については詳しく後述する。
【００２８】
一方、面取り加工ユニット１２０は、実質的に基板ローディングユニット１１０から提供された基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行する部分である。
【００２９】
従来技術の場合にも、面取り加工のための面取り加工ユニット１２０が設けられていることはあるが、前記図１で説明したように、従来の面取り加工ユニット１２０は、第１ステージ１２１から第２ステージ１２２に基板を移送させる場合、必ずピックアップロボットを使わなければならないために第２ステージ１２２上で基板に対するアライン作業を再び進行しなければならず、このようなピックアップロボットによる移送時間及び第２ステージ１２２上で基板に対するアライン作業所要時間によって、タクトタイムの減少に多少非効率的であるという問題点があった。
【００３０】
それだけではなく、図１で説明した従来の面取り機においては、第１ステージ１２１及び第２ステージ１２２、そして、第１面取り加工用のホイール１２６ａ及び第２面取り加工用のホイール１２６ｂが相互間の直列配置構造を有しているために、何れか一つに故障が発生すれば、全体装備が稼動されることができない問題点があった。
【００３１】
しかし、本実施形態の場合には、後述するように、面取り加工ユニット１２０に備えられた第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される構造、すなわち、従来とは異なる並列配置構造を有し、これに対応するようにグラインダー１２３が備えられることによって、従来の問題点を解消している。
【００３２】
本実施形態の面取り加工ユニット１２０は、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配され、基板が載置支持される第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂと、グラインダー１２３とを備える。
【００３３】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、従来の技術とは異なって、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って相互離隔して設けられる。本実施形態の場合、面取り加工ユニット１２０に二つの第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが備えられているが、ステージの個数は３個以上でも良い。但し、ステージが３個以上備えられても、これらが基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って相互離隔して設けられれば、すなわち、並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【００３４】
詳しくは図示していないが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのそれぞれは、基板に対するアラインのために面取り加工ユニット１２０上の当該位置でＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作可能に設けられる。
【００３５】
参考までに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに対するＸ軸及びＹ軸への動作は、リニアモータ（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｏｒ）などによって遂行され、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに対するθ軸への動作は、回転モータ（ｒｏｔａｔｉｎｇ ｍｏｔｏｒ）などによって遂行されることができるが、本発明が、これに限定されるものではないので、他の構造が適用されて第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂをＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作させても良い。
【００３６】
一方、グラインダー１２３は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂを繋ぐ仮想のラインに沿って第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに亙って設けられる共有ガントリー部１２４と、共有ガントリー部１２４の一側に設けられて共有ガントリー部１２４に沿って移動しながら、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対するアラインを進行するアラインカメラ１２５と、共有ガントリー部１２４の他側に設けられて共有ガントリー部１２４に沿って移動しながら、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対する実質的な面取り加工を進行する共有面取り加工用のホイール１２６とを備える。
【００３７】
共有ガントリー部１２４は、図示されたように、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂを繋ぐ仮想のラインと平行な方向に設けられる。このような共有ガントリー部１２４には、それぞれアラインカメラ１２５と共有面取り加工用のホイール１２６とが結合される。参考までに、図面には、アラインカメラ１２５と共有面取り加工用のホイール１２６とが便宜上概略的に図示されている。
【００３８】
アラインカメラ１２５は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに載置されたそれぞれの基板に対するアラインを進行するため、すなわち、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂをＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作させて基板に対するアラインを進行するため、基板に形成された何れか一辺の２個のアラインマーク（ａｌｉｇｎ ｍａｒｋ）を撮影する役割を果たす。
【００３９】
図面でアラインマークは、十字架（＋）状に図示されている。したがって、アラインカメラ１２５は、何れか一辺の２個のアラインマークを撮影しなければならないために、本実施形態では、ステージの一つ当り２個ずつ設けられる。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されず、アラインカメラ１２５が、共有ガントリー部１２４に沿って移動可能に設けられて第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに共有される共有アラインカメラで適用されることもあるが、この場合、２個の共有アラインカメラが設けられれば良い。このように共有アラインカメラが適用される場合、第１ステージ３００ａ上に載置された基板のアラインマークを撮影する時は、第１ステージ３００ａ上に共有アラインカメラが配され、第２ステージ３００ｂ上に載置された基板のアラインマークを撮影する時は、第２ステージ３００ｂ上の位置に共有アラインカメラが移動配される。
【００４０】
共有面取り加工用のホイール１２６は、共有ガントリー部１２４上でアラインカメラ１２５が位置された反対側に設けられる。これは共有面取り加工用のホイール１２６が、共有ガントリー部１２４上で移動しなければならないので、アラインカメラ１２５との干渉を避けるためである。
【００４１】
このような共有面取り加工用のホイール１２６は、基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行しなければならないために、原則的にはステージの一つ当り２個ずつ設けられることができる。但し、本実施形態では、面取り加工用のホイールが、共有ガントリー部１２４に沿って移動可能な共有面取り加工用のホイール１２６で適用されているために２個の共有面取り加工用のホイール１２６が設けられる。したがって、第１ステージ１３００ａ上に載置された基板の面取り加工時には、図２に実線で図示された位置に共有面取り加工用のホイール１２６が配され、第２ステージ１３００ｂ上に載置された基板の面取り加工時には、図２に点線で図示された位置に共有面取り加工用のホイール１２６が移動配される。
【００４２】
そして、本実施形態での共有面取り加工用のホイール１２６は、前述したように、基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工を進行しているために、単純なホイールではないマルチホイールが適用可能である。
【００４３】
一方、以下では、面取り機に対する作用の説明前に、前記で説明することができないか簡略に説明した構成、すなわち、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ、第１及び第２トランスファー４００ａ、４００ｂ、ステージ洗浄ユニット５３０、面取り量の測定ユニット６３０について図３ないし図１６を参照しながら詳しく説明する。
【００４４】
図３は、ステージの拡大斜視図であり、図４は、図３のステージに対する動作を図示した斜視図であり、図５の（ａ）は、ターンテーブルの表面に形成された第１真空ホールに対する構成図であり、図５の（ｂ）は、可変テーブルの表面に形成された第２真空ホールに対する構成図であり、図６は、ステージの概略的な側面図であり、図７は、トランスファーの拡大斜視図であり、図８は、図７のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図であり、図９は、ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図であり、図１０は、図９に図示された単位洗浄部の斜視図であり、図１１は、図１０のＡ−Ａ線による断面図であり、図１２は、基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図であり、図１３は、図１２に図示された“Ｂ”部分を拡大した拡大斜視図であり、図１４は、図１３に図示された異物除去部を説明するための斜視図であり、図１５は、図１４の分解斜視図であり、図１６は、図１４のＣ−Ｃ線による断面図である。
【００４５】
まず、ステージ３００ａ、３００ｂについて説明すれば、本実施形態において、ステージ３００ａ、３００ｂは、図２に図示されたように、Ｙ軸に沿って２個の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに設けられる。第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、グラインダー２２１の残りの構成とともに面取り加工作業をそれぞれ並列的に進行するために、それほどタクトタイムが減少して生産性が向上する。
【００４６】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、一つのステージのみが備えられることもでき、あるいは３個以上のステージが備えられることもある。これは、前述したような理由であり、但し、３個以上のステージが備えられる場合、これらがＹ軸に沿って並列配置構造を有するならば、それで十分である。
【００４７】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂもその位置のみが相異なっているだけで構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【００４８】
第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂについて説明すれば、本実施形態の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有している。
【００４９】
すなわち、従来の面取り機に開示されたステージ（図示せず）は、上面に載置された基板を真空で吸着する単純なブロック状の構造であり、その上面の面積が一定に定められた大きさを有するために、一種の基板のみを吸着して支持するしかなかった。したがって、このような従来のステージが適用された面取り機は、多様なサイズの基板に混用して適用することができなくて、先に面取り加工した基板とそのサイズが異なる基板とを面取り加工するためにはステージ（図示せず）を取り替えなければならず、このような取り替え時間によって、タクトタイムが増加して生産性が低下する短所があった。しかし、本実施形態の第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂは、必要によって、その上面の全体面積が調節されることができるために、多様なサイズの基板に混用して適用可能である構造を有する。
【００５０】
このために、本実施形態の面取り機に適用される第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのそれぞれは、基板を吸着して回転させるターンテーブル３１０と、ターンテーブル３１０の外郭に配されてターンテーブル３１０とともに基板を吸着して支持し、多様なサイズの基板のすべてに対応できるようにターンテーブル３１０に対して接近及び離隔可能な多数の可変テーブル３２０とを備える。
【００５１】
図３及び図４に図示されたように、ターンテーブル３１０は、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの中央領域に１個設けられ、可変テーブル３２０は、ターンテーブル３１０の外郭で相互対称に４個設けられる。４個の可変テーブル３２０は、２個ずつ対を成してターンテーブル３１０に対して接近及び離隔される。
【００５２】
４個の可変テーブル３２０が、２個ずつ対を成した状態でターンテーブル３１０に対して接近及び離隔されるようにテーブル駆動部３３０がさらに設けられる。
【００５３】
図４を参照すれば、テーブル駆動部３３０は、２個ずつ対を成した可変テーブル３２０をそれぞれ連結する一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂと、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸３３２と、ボールスクリュー軸３３２を正・逆転させる駆動モータ３３３とを含む。
【００５４】
一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、それぞれ四角のブロック構造を有するが、その上面には、一つずつの可変テーブル３２０を支持するブロック支持部３３４がさらに設けられる。ブロック支持部３３４は、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂの一つ当り２個ずつ設けられて２個の可変テーブル３２０を支持する。本実施形態では、図示及び説明の便宜上、ブロック支持部３３４に対してはすべて同じ参照符号を付与している。
【００５５】
ボールスクリュー軸３３２は、外面にネジ山が形成されたものであって、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂを連結しているが、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂが連結されるボールスクリュー軸３３２の当該領域のネジ山は相互反対方向に加工される。
【００５６】
このように、ボールスクリュー軸３３２の外面に形成されたネジ山が相互反対方向に加工されており、反対方向に加工されたネジ山に一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂがそれぞれ螺合されることによって、例えば、ボールスクリュー軸３３２が正転されれば、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、図３のように相互離隔されながら、可変テーブル３２０を開けて大きい基板を吸着可能にすることもでき、反対にボールスクリュー軸３３２が逆転されれば、一対の連結ブロック３３１ａ、３３１ｂは、図４のように相互接近されながら、可変テーブル３２０を狭めて小さな基板を吸着可能にすることもできる。
【００５７】
駆動モータ３３３は、ボールスクリュー軸３３２を正・逆転させるための動力を発生させる部分である。本実施形態では、単一、すなわち、１個の駆動モータ３３３としてボールスクリュー軸３３２を正・逆転させている。このように、単一の駆動モータ３３３のみでも可変テーブル３２０を駆動させることができるために、それほど構成が簡素化されて設置及び維持補修が簡便になり、また、それほどコストを減らしうる利点がある。
【００５８】
ターンテーブル３１０は、その上面がおおよそ円状を有し、４個の可変テーブル３２０は、一部分が切開されたおおよそ長方状を有する。しかし、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではないので、ターンテーブル３１０及び可変テーブル３２０の形状は、適切に変更されることもある。
【００５９】
例えば、少なくともターンテーブル３１０の上面は、楕円状を含めて多角状になっても良い。また、可変テーブル３２０は、必ずしも４個が設けられる必要はないので、可変テーブル３２０は、ターンテーブル３１０の外郭で相互対称に２個設けられることもできる。このような場合でも、テーブル駆動部３３０の構成及びそれによる動作は同様に具現可能である。
【００６０】
前述したように、面取り加工対象の基板サイズが大きい場合には、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との全体吸着面積が広くなるように、図３のようにターンテーブル３１０に対して４個の可変テーブル３２０が離隔されなければならず、面取り加工対象の基板サイズが小さければ、図４のようにターンテーブル３１０に対して４個の可変テーブル３２０が接近されなければならない。この際、図４のように４個の可変テーブル３２０がターンテーブル３１０に対して接近される時、４個の可変テーブル３２０の側面がターンテーブル３１０に衝突されればならないために、可変テーブル３２０の側面には切開部３２１が形成されている。本実施形態において、切開部３２１は、ターンテーブル３１０の外面に対応するアーク（ａｒｃ）状を有することができるが、必ずしもそういうことではない。
【００６１】
ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面には、図５に図示されたように、基板を吸着して支持するために多数の第１及び第２真空ホール３１５、３２５がそれぞれ形成されている。第１及び第２真空ホール３１５、３２５は、それぞれターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との厚さを貫通する形態に設けられる。
【００６２】
このような第１及び第２真空ホール３１５、３２５のみでも、基板を吸着して支持するには事実上十分である。しかし、本実施形態の場合、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面には、ターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して基板に対する真空吸着面積を倍加させる第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａがさらに形成されている。すなわち、第１及び第２真空ホール３１５、３２５に真空吸引力が発生すれば、真空吸引力は第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａを通じてさらに広くなった領域で作用しながら、基板を吸着させることができるために基板に対する真空吸着面積が高くなることができる。本実施形態において、第１及び第２真空吸着ライン溝３１５ａ、３２５ａは、第１及び第２真空ホール３１５、３２５の一つ当り一つずつ設けられているが、必ずしもそういうことではない。
【００６３】
本実施形態において、ターンテーブル３１０に形成された第１真空吸着ライン溝３１５ａは、図５の（ａ）に図示されたように、ピザ（ｐｉｚｚａ）状に、可変テーブル３２０に形成された第２真空吸着ライン溝３２５ａは、図５の（ｂ）に図示されたように、ハングル‘¬’状に形成されることができるが、本発明の権利範囲が、これに限定されるものではない。図５の（ａ）及び図５の（ｂ）に図示されたターンテーブル３１０と可変テーブル３２０との表面でハッチングされていない部分がハッチングされた部分に比べて陷沒されたことを意味する。
【００６４】
前にも記述したように、可変テーブル３２０は４個が設けられるために、もし、４個の可変テーブル３２０に形成される真空圧が互いに格段に異なれば、基板が安定的に支持されることができないか、あるいは一側に歪んだ状態になることもできる。したがって、４個の可変テーブル３２０、少なくとも２個ずつ対を成した可変テーブル３２０に提供される真空圧は実質的に均一になる必要がある。また、基板が中央に整列されるために、すなわち、中央を基準に対称に配されるために真空を対称にオン／オフ（ｏｎ／ｏｆｆ）することが効率的である。
【００６５】
図５の（ｂ）を参照する時、可変テーブル３２０の表面に形成された第２真空ホール３２５には、個別的に真空のオン／オフが制御されるように多数の真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃが連結されており、多数の真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃは、多数の中間配管３２７ａ、３２７ｂ、３２７ｃと連結されている。
【００６６】
この際、真空配管３２６ａ、３２６ｂ、３２６ｃは、中間配管３２７ａ、３２７ｂ、３２７ｃのそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブル３２０に相互対称に分岐されている。すなわち、例えば、参照符号３２７ａの中間配管は一つのラインを成すが、参照符号３２７ａの中間配管から分岐された２個のラインである真空配管３２６ａは、それぞれ隣となった一対の可変テーブル３２０の第２真空ホール３２５に向けている。このような方式で配管を構成することで少なくとも２個ずつ対を成した可変テーブル３２０に提供される真空圧は中央を基準に対称的に均一になることができ、したがって、基板に対する吸着効率を高めうる。
【００６７】
一方、第１及び第２真空ホール３１５、３２５、特に、第２真空ホール３２５を通じて均一な真空圧が形成されるとしても可変テーブル３２０の平坦度が正しく合わなければ、基板との間に間隙が発生するために基板の吸着効率が落ちるしかなくて真空の損失を誘発させる。
【００６８】
これにより、本実施形態では、簡単な方法でも連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに対する可変テーブル３２０の平坦度を調節できるように、平坦度調節部３４０をさらに設けている。
【００６９】
平坦度調節部３４０は、図６に図示されたように、両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が可変テーブル３２０と連結ブロック３３１ａ、３３１ｂとに螺合される多数の調節ボルト３４１と、連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに結合されて一端部が可変テーブル３２０に接触支持される多数の接触支持ボルト３４２とを備える。
【００７０】
このような構成によって、もし、可変テーブル３２０の平坦度を調節しなければならない場合であれば、まず多数の接触支持ボルト３４２を緩めて接触支持ボルト３４２の一端部が可変テーブル３２０から平坦度調節のために要求される位置まで離隔させた後で、当該位置にある調節ボルト３４１を締めるか緩める。調節ボルト３４１の両端部は、反対方向のネジ山が形成されており、反対方向のネジ山は、それぞれ可変テーブル３２０と連結ブロック３３１ａ、３３１ｂとに連結されているために調節ボルト３４１を締めるか緩めれば、可変テーブル３２０が連結ブロック３３１ａ、３３１ｂに対して下降するか上昇される。したがって、このような操作を通じて可変テーブル３２０の平坦度を調節すれば良く、可変テーブル３２０の平坦度が調節されれば、再び接触支持ボルト３４２を締めて接触支持ボルト３４２の一端部が可変テーブル３２０に接触支持されることによって、可変テーブル３２０が任意に傾く現象を予防すれば良い。
【００７１】
一方、図２を参照すれば、基板ローディングユニット１１０と面取り加工ユニット１２０との間の領域、そして、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間の領域には、基板ローディングユニット１１０上の加工前基板を第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上の加工完了基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させるトランスファー４００ａ、４００ｂが設けられている。
【００７２】
本実施形態において、基板ローディングユニット１１０と面取り加工ユニット１２０ との間の領域、そして、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間の領域に設けられているトランスファー４００ａ、４００ｂの構造及び動作はすべて同一である。これにより、図示及び説明の便宜上、トランスファー４００ａ、４００ｂの細部構成に対しては同じ参照符号を付与する。
【００７３】
主に図７及び図８を参照する時、トランスファー４００ａ、４００ｂは、基板の両側面で基板を把持する多数の基本把持ユニット４１０と、多数の基本把持ユニット４１０とは異なる位置に設けられて基板の移送または停止途中、基板が基本把持ユニット４１０から離脱して落下することを防止する安全把持ユニット４３０とを備える。
【００７４】
基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、ヘッド部４４０に結合されている。したがって、後述するＸ軸駆動部４６１、Ｙ軸駆動部４６２及びＺ軸駆動部４６３によってヘッド部４４０が所望の位置に移動すれば、これとともに基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０も当該位置に移動させる。
【００７５】
本実施形態において、多数の基本把持ユニット４１０は、ヘッド部４４０の両側面（短辺）領域に２個ずつ４個設けられ、安全把持ユニット４３０は、面取り加工ユニット１２０あるいは基板アンローディングユニット１３０に向けたヘッド部４４０の前面（長辺）領域に１個設けられる。
【００７６】
しかし、本発明の権利範囲が、これに限定される必要はないので、ヘッド部４４０の両側面領域に１個ずつの基本把持ユニット４１０が設けられるか、あるいはヘッド部４４０の両側面領域に３個ずつ、あるいはそれ以上個数ずつの基本把持ユニット４１０が設けられても良い。そして、安全把持ユニット４３０の場合に、ヘッド部４４０の前面（長辺）領域にも２個以上設けられることができ、ヘッド部４４０の前面（長辺）領域と後面（長辺）領域とにすべて設けられることもできる。安全把持ユニット４３０の個数が多くなれば、大きい基板の垂れを防止できる効果があるので、効率的な構造に適切に選択されることができる。
【００７７】
４個の基本把持ユニット４１０について説明すれば、４個の基本把持ユニット４１０は、本実施形態でヘッド部４４０の短辺領域に２個ずつ設けられる。この際、２個ずつの基本把持ユニット４１０は、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによってそれぞれ連結されている。
【００７８】
一対の連結部４１１ａ、４１１ｂは、ヘッド部４４０の側面に形成されて一対の連結部４１１ａ、４１１ｂの移動を案内する一対の案内部４１２ａ、４１２ｂに移動可能に収容結合されている。本実施形態の場合、案内部４１２ａ、４１２ｂは一対になっているが、案内部４１２ａ、４１２ｂは図面のように分離されないで一体型に貫通された構造を有することもある。
【００７９】
トランスファー４００ａ、４００ｂには、所定の制御信号によって一対の連結部４１１ａ、４１１ｂが一対の案内部４１２ａ、４１２ｂによって案内されながら、相互接近及び離隔されるように一対の連結部４１２ａ、４１２ｂを駆動させる駆動部４１３がさらに備えられる。駆動部４１３に対しては詳しくは図示していないが、駆動部４１３は、モータと、モータによって正・逆転するが、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂに相異なる方向のネジ山を有して連結されるボールスクリュー軸として具現可能である。
【００８０】
これにより、駆動部４１３のモータに電源が印加されてボールスクリュー軸が正転すれば、例えば、図８の点線のように２個ずつの基本把持ユニット４１０は、一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによって相互接近されることができ、反対にボールスクリュー軸が逆転すれば、２個ずつの基本把持ユニット４１０は一対の連結部４１１ａ、４１１ｂによって相互離隔されることができる。このように、４個の基本把持ユニット４１０が、相互接近及び離隔されることによって多様なサイズの基板に共に適用できる利点がある。
【００８１】
１個の安全把持ユニット４３０の構造について説明すれば、安全把持ユニット４３０の装着のために固定ロッド４３１と、回動支持部４３３とが備えられる。
【００８２】
固定ロッド４３１は、ヘッド部４４０に固定されるように設けられる、いわゆるブラケットのような構成であって、固定ロッド４３１は、垂直ロッド４３１ａと、垂直ロッド４３１ａの端部で垂直ロッド４３１ａに横に形成される水平ロッド４３１ｂとを備える。
【００８３】
回動支持部４３３は、水平ロッド４３１ｂの端部で安全把持ユニット４３０を支持するが、回動支持部４３３は、水平ロッド４３１ｂに対して安全把持ユニット４３０を回動可能に支持する。回動支持部４３３の回動動作は、前述した制御信号によって基本把持ユニット４１０が動作する時に連動して動作する。すなわち、図８の点線のように、基本把持ユニット４１０が動作して実質的に基板の両側面及び下面一部を支持する場合、回動支持部４３３の回動動作に基づいて安全把持ユニット４３０をして基板の前面及び下面一部を支持して基板の移送または停止途中、基板が落下する現象を防止する。
【００８４】
このように、実質的に基板を単純に把持するか、あるいは安定的に把持するために設けられる基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、すべてが当該位置で基板の側面に接触された状態で基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘Ｌ’状に製作される。しかし、この形状に本発明の権利範囲が限定されない。
【００８５】
そして、基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０は、すべて基板に接触されながら基板を把持するために、基板に接触される過程で基板にスクラッチ（ｓｃｒａｔｃｈ）を発生させる恐れがある。
【００８６】
これにより、本実施形態では、基板にスクラッチの発生が防止されるように基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０のすべてをＭＤ−ＰＡ材質で製作している。しかし、ＭＤ−ＰＡ材質ではないとしても基板に損傷を与えない材質でありながら、一定の剛性を保有することができれば基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０とが異なる材質で製作されても良い。
【００８７】
一方、前にも記述したように、多様なサイズの基板をいずれも把持できるように、特に、基本把持ユニット４１０は、相互接近及び離隔可能に設けられるが、それ以外にもトランスファー４００ａ、４００ｂのその自体は、基板ローディングユニット１１０上の基板を第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂに、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上の基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させるためにＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸に移動可能に設けられる。
【００８８】
このために、本実施形態のトランスファー４００ａ、４００ｂは、基板ローディングユニット１１０と基板アンローディングユニット１３０とを繋ぐ仮想のＸ軸に沿って基本把持ユニット４１０と安全把持ユニット４３０とが結合されたヘッド部４４０を駆動させるＸ軸駆動部４６１と、Ｘ軸に交差されるＹ軸に沿ってヘッド部４４０を駆動させるＹ軸駆動部４６２と、ヘッド部４４０を上下方向であるＺ軸に沿って駆動させるＺ軸駆動部４６３とをさらに備える。
【００８９】
Ｘ軸駆動部４６１、Ｙ軸駆動部４６２及びＺ軸駆動部４６３は、線形移動制御が容易なリニアモータによって具現可能であるが、場合によって、シリンダーやモータ、ボールスクリュー組合わせなどの構造によって具現されることもある。
【００９０】
一方、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させた後、ステージ３００ａ、３００ｂは、前述した作業を再び反復するために基板ローディングユニット１１０の方向に移動する。ところで、加工対象の基板が載置されるステージ３００ａ、３００ｂの上部には、面取り加工時に発生した異物が残存することができるために基板が載置されるステージ３００ａ、３００ｂの上部を洗浄した後、次の基板をローディングしなければならない。これは、洗浄をしないで新たな基板がステージ３００ａ、３００ｂにローディングされる場合、ステージ３００ａ、３００ｂに残存する異物によって基板が汚染されることができるためである。
【００９１】
したがって、本実施形態の面取り機は、面取り加工ユニット１２０と基板アンローディングユニット１３０との間に設けられてステージ３００ａ、３００ｂの表面を洗浄するステージ洗浄ユニット５３０（図２参照）と、ステージ３００ａ、３００ｂの表面に洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニット５３０の作動を制御する制御部（図示せず）とをさらに含み、これにより、今後面取り加工される基板のステージ３００ａ、３００ｂに残存する異物による汚染を防止できる。
【００９２】
ここで、制御部は、面取り加工が完了した基板を基板アンローディングユニット１３０に移送させ、そして、基板を支持していないステージ３００ａ、３００ｂがまた新たな基板をローディングするために基板ローディングユニット１１０に移動する時、ステージ洗浄ユニット５３０を作動させてステージ３００ａ、３００ｂの表面に残存可能な異物を除去させ、また、ステージ３００ａ、３００ｂがステージ洗浄ユニット５３０の噴射領域を通過すれば、ステージ洗浄ユニット５３０の作動を停止させるようにステージ洗浄ユニット５３０の作動を制御する。
【００９３】
本実施形態のステージ洗浄ユニット５３０は、図２及び図９に図示されたように、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの移動ラインにそれぞれ配される二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂと、ステージ３００ａ、３００ｂの移動方向の横方向に配され、二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂが結合されるユニットフレーム５４５とを備える。
【００９４】
但し、二対の単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂは、実質的に同一の構成を有するために、以下では、第１ステージ３００ａの上部に配される一対の単位洗浄部５３１ａについてのみ説明する。
【００９５】
一対の単位洗浄部５３１ａは、図９ないし図１１に詳しく図示されたように、移動ラインに沿って移動可能に配される第１ステージ３００ａの上部に配されて第１ステージ３００ａの上面方向に洗浄のための洗浄流体を噴射する。この際、一対の単位洗浄部５３１ａは、偏平に設けられる第１ステージ３００ａの上面に残存する異物が外側に離脱されることができるように相互対称される角度で傾いて設けられる。
【００９６】
言い換えれば、洗浄流体の噴射方向が、第１ステージ３００ａの上面の面方向と傾くようにすることによって、第１ステージ３００ａの上面に残存する異物が洗浄流体の押す力によって外側に離脱されることができるようにする。第１ステージ３００ａの上面とは、前述したターンテーブル３１０及び多数の可変テーブル３２０の上面を示す。
【００９７】
したがって、単位洗浄部５３１ａが、洗浄流体の噴射方向を調節してステージ５７０ａに残存する異物を最大限効率的に除去できるように単位洗浄部５３１ａは、ユニットフレーム５４５に対して多方向に回動可能に設けられる。
【００９８】
このような単位洗浄部５３１ａの具体的な構成について説明すれば、本実施形態の単位洗浄部５３１ａは、第１ステージ３００ａに洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部５３２と、噴射胴体部５３２が、ユニットフレーム５４５に対して多方向に回動可能に噴射胴体部５３２をユニットフレーム５４５に結合させる回動結合部５４０とを備える。
【００９９】
噴射胴体部５３２は、回動結合部５４０に対して回動可能に結合される回動部材５３３と、回動部材５３３と実質的に並んで回動部材５３３に結合され、上端部から内側方向に洗浄流体が移動する移動空間５３４ｓが陷沒形成されている噴射部材５３４と、噴射部材５３４の上面に結合されて噴射部材５３４の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材５３５とを備える。
【０１００】
ここで、噴射部材５３４と遮蔽部材５３５とを結合させれば、その先端部に移動空間５３４ｓと連通されるスリット状の噴射口５３４ｈが設けられるが、このような噴射口５３４ｈを通じて洗浄流体が第１ステージ３００ａの上面に斜めに噴射されて第１ステージ３００ａの異物をきれいに除去することができる。
【０１０１】
まず回動部材５３３は、図１０及び図１１に図示されたように、回動結合部５４０に対して‘θ１’方向に回動可能に結合される。したがって、噴射部材５３４の噴射口５３４ｈを通じて噴射される洗浄流体の噴射方向を調節することができる。すなわち、洗浄流体が、第１ステージ３００ａに残存する異物を外側に押し出すように第１ステージ３００ａに対する噴射部材５３４の傾斜角度を容易に調節することができる。
【０１０２】
遮蔽部材５３５は、噴射部材５３４の内側部分を保護するため、すなわち、外部の異物が洗浄流体が移動する噴射部材５３４の内側に侵透することを防止するため、噴射部材５３４の上面に結合される。また、遮蔽部材５３５は、噴射部材５３４の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で噴射部材５３４の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【０１０３】
一方、このような噴射胴体部５３２が結合される回動結合部５４０は、ユニットフレーム５４５に締結されるフレーム締結部材５４１と、回動部材５３３が軸中心に回動可能に回動部材５３３に結合される回動結合部材５４２と、フレーム締結部材５４１及び回動結合部材５４２の間に結合され、回動結合部材５４２をフレーム締結部材５４１に対して相対回動させる連結部材５４３とを備える。
【０１０４】
このような回動結合部５４０の構造によって、前述したように、噴射胴体部５３２は、‘θ１’方向に回動できるだけではなく、フレーム締結部材５４１に対して回動結合部材５４２が‘θ２’方向に相対回動することで噴射胴体部５３２の全体が回動結合部５４０に対して‘θ２’方向に相対回動することができる。したがって、第１ステージ３００ａに対する単位洗浄部５３１ａの傾斜角度を適切に調節することによって、第１ステージ３００ａ上に残存する異物をより効果的に除去することができる。
【０１０５】
一方、前述した第１ステージ３００ａの洗浄作業は、工程を一時的に中断させて進行することではなく、工程中に進行する。すなわち、面取り加工された基板が基板アンローディングユニット５４０に移送されて基板が積載されていない第１ステージ３００ａは、今後の作業のために移動ラインに沿って再び基板ローディングユニット１１０の方向に移動するが、この際、ステージ洗浄ユニット５３０が動作して第１ステージ３００ａ上に残存する異物を除去する。したがって、基板に対する面取り加工工程のタクトタイムを短縮させることができ、これにより、全体的な生産性を向上させうる長所がある。
【０１０６】
一方、本実施形態では、ステージ３００ａ、３００ｂの数に対応する対ほどの単位洗浄部５３１ａ、５３１ｂがユニットフレーム５４５に結合されると上述したが、ユニットフレームに一対の単位洗浄部が移動可能に結合されることによって、交番的に移動する複数のステージに対する洗浄作業を進行することもできる。
【０１０７】
一方、前にも記述したように、図２、そして、図１２ないし図１６を参照すれば、本実施形態の面取り機で基板アンローディングユニット１３０には、面取り加工された基板の面取り量を測定するための面取り量の測定ユニット６３０が設けられている。これは、基板を面取り加工する時、既定の面取り量の基準内で面取り加工がなされなければならないが、例えば、既定の基準を超えるか、超えないように基板が面取り加工されることができるので、面取り量の測定ユニット６３０によって基板の面取り量を正確に測定して、これを面取り加工用のホイール１２６側にフィードバックされて面取り量を補正することによって、今後面取り加工される基板の面取り加工を正確にするためである。
【０１０８】
ところが、前述したように、従来技術による面取り機の場合、面取り量の測定ユニット（図示せず）が、面取り加工ユニット２０（図１参照）に設けられて面取り加工とともに面取り量を測定して来たために全体的なタクトタイムを増加させる問題点があった。すなわち、従来には、面取り加工ユニット２０に設けられた面取り量の測定ユニットによって面取り量が測定されるために、面取り加工作業に対するタクトタイムが増加するだけではなく、面取り量の測定のために基板が停止される別途の時間が割り当てられねばならない問題点があった。
【０１０９】
したがって、本実施形態の面取り機は、このようなタクトタイムの増加問題を解消するために、面取り加工が完了した基板が外部にアンローディングされる基板アンローディングユニット１３０のローラーに沿って基板が移送される時、基板の面取り量を測定できるように基板アンローディングユニット１３０の上下部に面取り量の測定ユニット６３０が設けられている。以下では、このような面取り量の測定ユニット６３０の構成について詳しく説明する。
【０１１０】
図２、そして、図１２ないし図１６を参照する時、本実施形態の面取り量の測定ユニット６３０は、基板アンローディングユニット１３０の上部及び下部にそれぞれ配されて基板の短辺エッジ部分の面取り量を測定する測定部６３１と、基板アンローディングユニット１３０の長手方向の横方向に設けられて測定部６３１が移動可能に結合される測定支持フレーム６３３と、測定部６３１が搭載されて測定支持フレーム６３３の長手方向に沿って移動することによって、基板に対する測定部６３１の位置を調節させる移動フレーム６３５と、移動フレーム６３５上で測定部６３１を昇降させて測定部６３１が基板アンローディングユニット１３０に対して接近及び離隔可能にする昇降駆動部６３７とを備える。
【０１１１】
本実施形態において、測定部６３１は、基板の一側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために基板アンローディングユニット１３０の上部及び下部に一対設けられ、全体的に基板の両側短辺のエッジ部分の面取り量を測定するために二対が設けられる。
【０１１２】
測定部６３１は、昇降駆動部６３７によって移動フレーム６３５上で昇降することができて基板アンローディングユニット６４０のローラー（図示せず）に沿って移送される基板の両側短辺のエッジ部分に接近するか離隔される。また、測定部６３１が結合された移動フレーム６３５は、測定支持フレーム６３３の長手方向に沿って摺動可能で基板のサイズによって左右方向への位置調節が可能であり、これにより、測定部６３１が相互異なるサイズを有する多数の基板に対する面取り量の測定を柔軟にさせる。
【０１１３】
ここで、昇降駆動部６３７は、測定部６３１が移動フレーム６３５の高さ方向に沿ってリニアモーション（ｌｉｎｅａｒ ｍｏｔｉｏｎ）に移動できるようにリニアモータで設けられることができる。また、移動フレーム６３５も測定支持フレーム６３３に対してリニアモーションに移動できるように移動フレーム６３５を駆動させる別途の移動駆動部６３８が測定支持フレーム６３３上に装着されることもある。
【０１１４】
本実施形態の測定部６３１は、基板の面取り量を正確に測定するために面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分を連続的に撮影するラインスキャンカメラ６３１（ｌｉｎｅ ｓｃａｎ ｃａｍｅｒａ）が適用される。したがって、基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる長所がある。
【０１１５】
但し、本実施形態では、測定部６３１としてラインスキャンカメラ６３１が適用されるが、それ以外にもエリアカメラ（ａｒｅａ ｃａｍｅｒａ）などが適用されて基板の面取り量及び面取り状態などを測定することもできる。エリアカメラは、ラインスキャンカメラとは異なって面取り加工された基板の両側短辺のエッジ部分のうち一部分を撮影して基板の面取り量を測定するカメラとしてラインスキャンカメラと同様に基板の面取り量及び面取り状態などを正確に測定できる。
【０１１６】
一方、本実施形態の平面ディスプレイ用の面取り機は、面取り量の測定ユニットの測定部６３１によって面取り加工された基板の面取り量を測定した後、該測定された値に基づいて面取り加工用のホイール１２６の面取り量を補正して、今後加工される基板の面取り量を再調整できるように、面取り加工用のホイール１２６を制御する制御部（図示せず）をさらに備える。
【０１１７】
言い換えれば、測定部６３１が、撮影によって面取り加工された基板の面取り量を測定したが、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工されたか不十分に加工された場合、制御部は、測定された面取り量の情報に基づいて面取り量を補正するために面取り加工用のホイール１２６の位置を再調整する。より詳しく説明すれば、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準よりさらに加工された場合、制御部は、面取り加工用のホイール１２６の間隔を狭めて今後面取り加工される基板は不十分に面取り加工させ、例えば、基板の面取り加工された部分が既定の基準より不十分に加工された場合、制御部は、面取り量を補正するために面取り加工用のホイール１２６の間隔を広げて今後面取り加工される基板は測定部６３１によって面取り量の測定された基板に比べてさらに面取り加工させる。
【０１１８】
一方、本実施形態の面取り量の測定ユニット６３０は、基板の面取り量を測定するのに先立って、基板の面取り加工された部分に残存する異物を除去するための異物除去部６４０をさらに含む。このような異物除去部６４０によって基板の両側短辺のエッジ部分に残存する異物を除去することができて測定部６３１でより正確な面取り量を測定できる。
【０１１９】
本実施形態の異物除去部６４０は、図１３ないし図１６に図示されたように、移動フレーム６３５に結合され、面取り量が測定される基板の両側短辺のエッジ部分が通過可能に一側が開放されたトンネル部分６４１ｓに設けられ、基板ローディングユニット１１０の方向に向ける一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間６４２ｓ（図１６参照）が陷沒形成されている異物除去胴体６４１と、異物除去胴体６４１に設けられ、移動空間６４２ｓを通過した異物除去用の作業流体を基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材６４２と、噴射部材６４２が設けられた異物除去胴体６４１の一面に着脱可能に結合されて異物除去胴体６４１の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材６４３とを備える。
【０１２０】
ここで、移動空間６４２ｓを移動した異物除去用の作業流体は、噴射部材６４２と遮蔽部材６４３との結合部分に形成される、すなわち、噴射部材６４２と遮蔽部材６４３とが離隔して結合されて設けられる噴射出口６４２ｈを通じて噴射される。噴射出口６４２ｈは、異物除去用の作業流体が、斜めに噴射されて基板の異物を効果的に除去できるように異物除去胴体６４１の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に傾いて設けられる。
【０１２１】
異物除去胴体６４１は、移動フレーム６３５に固定結合されて測定支持フレーム６３３に対する移動フレーム６３５の摺動時のように移動することができる。したがって、基板のサイズによって基板の両側に置かれた異物除去胴体６４１の位置を調節することができ、これにより、基板が異物除去胴体６４１のトンネル部分６４１ｓを過ぎって測定部６３１の間を通過させうる。
【０１２２】
一対の噴射部材６４２は、トンネル部分６４１ｓが設けられた異物除去胴体６４１の一面に相互対向されるように設けられ、遮蔽部材６４３と隣接した一面は傾いて設けられている。したがって、基板の両側短辺のエッジ部分、すなわち、面取り加工された部分に向けて異物除去用のガスを噴射して基板の両側短辺のエッジ部分から異物を除去することができ、これにより、測定部６３１が基板から正確な面取り量を測定させうる。
【０１２３】
遮蔽部材６４３は、異物除去胴体６４１の内側に配される流体移動管（図示せず）を保護するために、異物除去胴体６４１の一面に着脱可能に結合される。このような遮蔽部材６４３は、異物除去胴体６４１の内側に設けられる構造を保護しながらも、結合及び分離が容易で異物除去胴体６４１の内側構造に対する維持補修を容易にできる長所がある。
【０１２４】
このような構成を有する面取り機の作用について説明すれば、次の通りである。
【０１２５】
面取り加工対象の基板が、基板ローディングユニット１１０から第１トランスファー４００ａを通じて第１ステージ３００ａに載置されれば、まず第１ステージ３００ａ上のアラインカメラ１２５が基板のアラインマークを撮影する。該撮影された映像情報は、図示していない制御部に伝送されて制御部によって第１ステージ３００ａがＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作することによって、第１ステージ３００ａ上の基板に対するアライン作業が進行する。
【０１２６】
第１ステージ３００ａ上の基板に対するアライン作業が完了すれば、実質的な面取り加工に入る。面取り加工のために、共有面取り加工用のホイール１２６は、共有ガントリー部１２４に沿って図２の実線位置に移動する。面取り加工時、第１ステージ１３００ａが共有面取り加工用のホイール１２６に向けて移動するか、それとも反対に第１ステージ３００ａに対して共有面取り加工用のホイール１２６が移動して基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対してそれぞれ順次に面取り加工が進行する。
【０１２７】
基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対して面取り加工が完了すれば、第１ステージ３００ａがθ軸に回転される。したがって、第１ステージ３００ａは、横方向に配された状態になる。この際は、従来のように別途のピックアップロボットが使われないで第１ステージ３００ａのその自体がθ軸に回転されるために、従来のように基板に対するアライン作業を再び進行する必要がなくてタクトタイムが短縮される。
【０１２８】
第１ステージ３００ａがθ軸に回転すれば、引き続き基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する。この際も、第１ステージ３００ａが共有面取り加工用のホイール１２６に向けて移動するか、それとも反対に第１ステージ３００ａに対して共有面取り加工用のホイール１２６が移動して基板の両側長辺に対する面取り加工が進行する。
【０１２９】
面取り加工が完了した基板は、第２トランスファー４００ｂによって基板アンローディングユニット１３０に取り出され、基板アンローディングユニット１３０上で面取り量が測定される。もし、誤って面取りされた場合であるか面取り量が不備な場合であれば、当該基板は破棄されるか、あるいは基板ローディングユニット１１０側にフィードバックされて面取り加工が再び進行しうる。
【０１３０】
一方、このように、第１ステージ３００ａ上で基板の４角、長辺及び短辺に対する面取り加工が進行する過程と並行して、新たな面取り加工対象の基板は第２ステージ３００ｂ上に移送されて同一の面取り加工が進行する。言い換えれば、本実施形態では、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂが相互並列構造に配されているために作業が中断されるか、待機する時間なしに連続的に第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上でグラインダー１２３と相互有機的に面取り加工が進行する。例えば、第１ステージ３００ａ上で基板進行方向の前面両側のエッジ、両側短辺、そして、後面両側のエッジに対してそれぞれ順次に面取り加工が進行した後、第１ステージ３００ａがθ軸に回転するうちに新たな面取り加工対象の基板は第２ステージ３００ｂに載置されて第２ステージ３００ｂ上のアラインカメラ１２５を用いてアライン完了した基板に対する面取り作業を行うなど面取り加工作業が第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂ上でグラインダー１２３によって相互並列的に、有機的に進行しうる。また、これと並行して、新たな基板のローディングのために基板ローディングユニット１１０側に移動するステージ３００ａ、３００ｂは、ステージ洗浄ユニット５３０によってその表面が洗浄された後に作業対象の基板がローディングされるようにすることによって異物による不良発生を予防させうる。そして、前記の説明で適用された基板よりそのサイズが大きい基板やあるいは小さな基板を前述した面取り機に適用するためには、基板を支持する第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの上面全体面積を図３及び図４の方法どおりに調節した後に使えば良いために、その適用範囲がさらに広くなる。
【０１３１】
このように、本実施形態によれば、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させうる。また、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのうち何れか一つに故障が発生しても、装備の中断なしに装備稼動を続いて進行しうる。
【０１３２】
図３は、本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【０１３３】
本実施形態の場合、前述した実施形態とは異なる構造のグラインダー１２３ａを適用している。すなわち、図３に図示されたように、本実施形態のグラインダー１２３ａは、複数のアラインカメラ１２５ａと、複数の面取り加工用のホイール１２６ｂと、複数のアラインカメラ１２５ａを支持するカメラ支持バー１２７と、複数の面取り加工用のホイール１２６ｂを支持するホイール支持用のガントリー部１２８とを備える。
【０１３４】
前述した実施形態では、特に面取り加工用のホイールが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂにすべて共有される共有面取り加工用のホイール１２６として適用されたが、本実施形態の場合には、アラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂ のすべてが、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂの一つ当り２個ずつ独立的に設けられる構造を適用している。
【０１３５】
このような場合、アラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂのそれぞれは４個設けられるが、前述した実施形態のように共有ガントリー部１２４が使われる必要がないために、図示されたように、４個のアラインカメラ１２５ａは、カメラ支持バー１２７に、そして、４個の面取り加工用のホイール１２６ｂは、ホイール支持用のガントリー部１２８に結合されれば、それで十分である。
【０１３６】
参考までに、図３に見れば、２個ずつの面取り加工用のホイール１２６ｂがホイール支持用のガントリー部１２８の両側にそれぞれ設けられているが、これらはホイール支持用のガントリー部１２８の一側に一列に配されても良い。
【０１３７】
本実施形態のように構成しても、基板に対する面取り加工時、従来に比べてタクトタイムを減らせて生産性を向上させうる効果を提供するには十分である。
【０１３８】
特に、本実施形態の場合には、第１及び第２ステージ３００ａ、３００ｂのうち何れか一つに、あるいは２個ずつのアラインカメラ１２５ａ及び面取り加工用のホイール１２６ｂのうち何れか一つに故障が発生しても、装備の中断なしに装備稼動を進行させ続けるために、従来の面取り機より生産性を向上させうる。
【０１３９】
このように、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の思想及び範囲を外れずに多様に修正及び変形できるということは、当業者に自明なものである。したがって、そのような修正例または変形例は、本発明の特許請求の範囲に属すると言わなければならない。
【産業上の利用可能性】
【０１４０】
本発明は、平面ディスプレイ用の面取り機に関連の技術分野に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４１】
【図１】長辺及び短辺に対する面取り加工を個別的に進行する従来の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図２】本発明の一実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【図３】ステージの拡大斜視図である。
【図４】図３のステージに対する動作を図示した斜視図である。
【図５】（ａ）は、ターンテーブルの表面に形成された第１真空ホールに対する構成図であり、（ｂ）は、可変テーブルの表面に形成された第２真空ホールに対する構成図である。
【図６】ステージの概略的な側面図である。
【図７】トランスファーの拡大斜視図である。
【図８】図７のトランスファーに対する動作を部分的に図示した斜視図である。
【図９】ステージの上部に設けられたステージ洗浄ユニットの装着状態を図示した斜視図である。
【図１０】図９に図示された単位洗浄部の斜視図である。
【図１１】図１０のＡ−Ａ線による断面図である。
【図１２】基板アンローディングユニットの後尾に配される面取り量の測定ユニットの構成を図示した斜視図である。
【図１３】図１２に図示された“Ｂ”部分を拡大した拡大斜視図である。
【図１４】図１３に図示された異物除去部を説明するための斜視図である。
【図１５】図１４の分解斜視図である。
【図１６】図１４のＣ−Ｃ線による断面図である。
【図１７】本発明の他の実施形態による平面ディスプレイ用の面取り機に対する概略的な構成図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板がローディングされる基板ローディングユニットと、
前記基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニットと、
前記基板がアンローディングされる基板アンローディングユニットと、を含み、
前記面取り加工ユニットは、
前記基板が載置支持され、前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージと、
前記複数のステージに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、前記複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイールとを備えるグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２】
前記複数のステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って設けられる二つの第１ステージ及び第２ステージであることを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３】
前記複数のステージのそれぞれは、
前記基板のアライン作業のために前記面取り加工ユニット上の当該位置でＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作可能に設けられることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられて、前記少なくとも一つのアラインカメラを支持するカメラ支持バーをさらに含み、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
一つの基板に対する両側エッジの撮影のために前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられるように前記カメラ支持バーに結合されることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられ、
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられて、前記面取り加工用のホイールが結合されるホイール支持用のガントリー部をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項６】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有面取り加工用のホイールであり、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有アラインカメラであることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項７】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられる共有ガントリー部をさらに含み、
前記共有面取り加工用のホイールは、
前記共有ガントリー部の一側に設けられ、
前記共有アラインカメラは、
前記共有ガントリー部の他側に設けられることを特徴とする請求項６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項８】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有面取り加工用のホイールであり、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
一つの基板に対する両側エッジの撮影のために前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項９】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられる共有ガントリー部をさらに含み、
前記アラインカメラは、
前記共有ガントリー部の一側に設けられ、
前記共有面取り加工用のホイールは、
前記共有ガントリー部の他側に設けられることを特徴とする請求項８に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１０】
前記面取り加工用のホイールは、
前記基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工可能なマルチホイールであることを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１１】
前記複数のステージのそれぞれは、
前記基板を吸着して回転させる少なくとも一つのターンテーブルと、
前記ターンテーブルに対して接近及び離隔可能に前記ターンテーブルの外郭に配され、前記基板のサイズによって既定の前記ターンテーブルに対する相対的な位置で前記ターンテーブルとともに前記基板を吸着支持する多数の可変テーブルと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１２】
前記少なくとも一つのターンテーブルは、
中央領域に１個設けられ、
前記多数の可変テーブルは、
前記ターンテーブルの外郭で相互対称に４個設けられることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１３】
前記可変テーブルの側面には、
前記可変テーブルの前記ターンテーブルへの接近時に、前記ターンテーブルへの衝突を防止させる切開部が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１４】
前記ターンテーブルの表面には、
前記基板を真空吸着する多数の第１真空ホールが形成されており、
前記可変テーブルの表面には、
前記基板を真空吸着するが、多数の真空配管によって個別的に真空のオン／オフが制御される多数の第２真空ホールが形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１５】
前記多数の真空配管と連結される中間配管をさらに含み、
前記多数の真空配管は、
前記中間配管のそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブルに相互対称に分岐されることを特徴とする請求項１４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１６】
前記第１及び第２真空ホールの周辺に設けられ、前記ターンテーブル及び前記可変テーブルの表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して前記基板に対する真空吸着面積を倍加させる第１及び第２真空吸着ライン溝をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１７】
前記第１及び第２真空吸着ライン溝は、
前記第１及び第２真空ホールの一つ当り一つずつ設けられることを特徴とする請求項１６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１８】
前記４個の可変テーブルを前記ターンテーブルに対して接近及び離隔させるテーブル駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１９】
前記テーブル駆動部は、
２個ずつ対を成した可変テーブルをそれぞれ連結する一対の連結ブロックと、
前記一対の連結ブロックにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、前記一対の連結ブロックを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸と、
前記ボールスクリュー軸を正・逆転させる単一の駆動モータと、を含むことを特徴とする請求項１８に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２０】
前記可変テーブルと前記連結ブロックとに設けられて、前記連結ブロックに対する前記可変テーブルの平坦度を調節する平坦度調節部をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２１】
前記平坦度調節部は、
両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が前記可変テーブルと前記連結ブロックとに螺合される多数の調節ボルトと、
前記可変テーブルと前記連結ブロックとのうち何れか一つに結合されて一端部が他の一つに接触支持される多数の接触支持ボルトと、を含むことを特徴とする請求項２０に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２２】
前記複数のステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想のＸ軸の横方向に沿って複数個設けられることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２３】
前記基板ローディングユニットと前記面取り加工ユニットとの間の領域、そして、前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間の領域にそれぞれ設けられてＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸に移動しながら前記基板を移送するトランスファーをさらに含み、
前記トランスファーは、
相互離隔及び接近可能に設けられて、前記基板の両側面で前記基板を把持する多数の基本把持ユニットと、
前記基板の移送または停止途中、前記基板が前記基本把持ユニットから離脱して落下することを防止するように、前記基本把持ユニットの相互離隔及び接近方向に交差される方向で前記基板を把持する少なくとも一つの安全把持ユニットと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２４】
前記トランスファーは、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとが結合されるヘッド部をさらに含み、
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記面取り加工ユニットに向けた前記ヘッド部の前面領域に設けられることを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２５】
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に２個ずつ４個設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、１個設けられることを特徴とする請求項２４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２６】
前記トランスファーは、
前記２個ずつの基本把持ユニットをそれぞれ連結する一対の連結部と、
前記ヘッド部に設けられて、前記一対の連結部の移動を案内する一対の案内部と、
前記一対の連結部が、前記一対の案内部によって案内されながら相互接近及び離隔されるように前記一対の連結部を駆動させる駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２７】
前記トランスファーは、
前記ヘッド部に連結される固定ロッドと、
前記固定ロッドに対して前記安全把持ユニットを回動可能に支持する回動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２８】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板の側面に接触された状態で前記基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘Ｌ’状を有することを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２９】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板にスクラッチの発生が防止されるようにＭＤ−ＰＡ材質で製作可能であることを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３０】
前記トランスファーは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のＸ軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるＸ軸駆動部と、
前記Ｘ軸に交差されるＹ軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるＹ軸駆動部と、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを上下方向であるＺ軸に沿って駆動させるＺ軸駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３１】
前記面取り加工ユニットの隣接した領域に設けられ、新たな基板をローディングするために、前記基板ローディングユニット方向に移動する前記ステージの表面に前記ステージの洗浄のための洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３２】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記ステージの移動方向の横方向に沿って設けられるユニットフレームと、
前記ステージの上部領域で前記ユニットフレームに着脱可能に結合されて、前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する少なくとも一つの単位洗浄部と、を含むことを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３３】
前記単位洗浄部から前記ステージの表面に噴射される前記洗浄流体が、前記ステージの内側から外側方向に噴射されるように、前記単位洗浄部は、ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項３２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３４】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの一つ当り一対ずつ設けられるように前記ユニットフレームに結合され、
前記ステージにそれぞれ設けられる一対の前記単位洗浄部は、相互対称傾斜度を有するように前記ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項３３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３５】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部と、
前記噴射胴体部が、前記ユニットフレームに対して回動可能に前記噴射胴体部を前記ユニットフレームに結合させる回動結合部と、を含むことを特徴とする請求項３２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３６】
前記噴射胴体部は、
前記回動結合部に対して回動可能に結合される回動部材と、
前記回動部材と実質的に平行な方向を有するように前記回動部材に結合され、上端部から内側方向に前記洗浄流体が移動する移動空間が陷沒形成されている噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項３５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３７】
前記噴射胴体部は、
前記噴射部材の上端部に結合されて、前記噴射部材の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射口は、
前記噴射部材の先端部と前記遮蔽部材の先端部とが相互離隔して結合されてスリット状に設けられることを特徴とする請求項３６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３８】
前記回動結合部は、
前記ユニットフレームに結合されるフレーム締結部材と、
前記回動部材が、軸中心に回動可能に前記回動部材に結合される回動結合部材と、
前記回動部材の長手方向の横方向に設けられ、前記回動結合部材を前記フレーム締結部材に対して相対回動可能に前記フレーム締結部材及び前記回動結合部材の間を連結させる連結部材と、を含むことを特徴とする請求項３６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３９】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間に設けられることを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４０】
面取り加工が完了した前記基板が前記基板アンローディングユニットに移送され、前記ステージが前記基板ローディングユニット方向に移動する時、前記ステージ洗浄ユニットから前記洗浄流体が噴射されるように、前記ステージ洗浄ユニットの動作を制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４１】
前記基板アンローディングユニットに設けられて、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する面取り量の測定ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４２】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板アンローディングユニットの上部及び下部にそれぞれ設けられ、前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の長辺または短辺の面取り量を測定する少なくとも一対の測定部を含むことを特徴とする請求項４１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４３】
前記少なくとも一対の測定部は、
前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の相互平行な一対の長辺または一対の短辺を連続的に撮影する二対の撮影カメラであることを特徴とする請求項４２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４４】
前記撮影カメラは、
ラインスキャンカメラ及びエリアカメラのうち何れか一つであることを特徴とする請求項４３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４５】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板の移送方向の横方向に沿って相互離隔して設けられ、前記基板の移送方向に対して前記測定部より上流に配されて前記基板上に残存可能な異物を除去する一対の異物除去部をさらに含むことを特徴とする請求項４２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４６】
前記異物除去部は、
前記基板アンローディングユニットにローディングされて移送される前記基板の長辺または短辺が通過可能に一側が開放されたトンネル構造に設けられ、一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間が陷沒形成されている異物除去胴体と、
前記異物除去胴体に設けられ、前記移動空間を通過した前記異物除去用の作業流体を前記基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項４５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４７】
前記異物除去部は、
前記異物除去胴体の内側に配される流体移動管を保護するために、前記異物除去胴体の一面に着脱可能に結合される遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射部材と前記遮蔽部材は、相互離隔して結合されて前記移動空間と外部とを連通させる噴射出口を形成することを特徴とする請求項４６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４８】
前記噴射出口は、
前記異物除去胴体の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に対して傾いて設けられることを特徴とする請求項４７に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４９】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のＸ軸に交差するＹ軸に沿って設けられる測定支持フレームと、
前記Ｙ軸に沿って移動可能に前記測定支持フレームに結合され、前記測定部が搭載される移動フレームと、を含むことを特徴とする請求項４５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５０】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記移動フレーム上で前記測定部を前記基板アンローディングユニットに対して接近及び離隔させる昇降駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項４９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５１】
前記異物除去部は、
前記移動フレームに結合され、
前記作業流体は、
異物除去用のガスであることを特徴とする請求項４９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１】
基板がローディングされる基板ローディングユニットと、
前記基板に対する面取り加工が進行する面取り加工ユニットと、
前記基板がアンローディングされる基板アンローディングユニットと、を含み、
前記面取り加工ユニットは、
前記基板が載置支持され、前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインとの交差方向に相互離隔配される複数のステージと、
前記複数のステージに載置される基板のアライン作業のための少なくとも一つのアラインカメラと、前記複数のステージに載置される基板に対する面取り加工作業を進行する少なくとも一つの面取り加工用のホイールとを備えるグラインダーと、を含むことを特徴とする平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２】
前記複数のステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想の作業ラインに横方向に沿って設けられる二つの第１ステージ及び第２ステージであることを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３】
前記複数のステージのそれぞれは、
前記基板のアライン作業のために前記面取り加工ユニット上の当該位置でＸ軸、Ｙ軸及びθ軸に動作可能に設けられることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられて、前記少なくとも一つのアラインカメラを支持するカメラ支持バーをさらに含み、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
一つの基板に対する両側エッジの撮影のために前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられるように前記カメラ支持バーに結合されることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられ、
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられて、前記面取り加工用のホイールが結合されるホイール支持用のガントリー部をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項６】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有面取り加工用のホイールであり、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有アラインカメラであることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項７】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられる共有ガントリー部をさらに含み、
前記共有面取り加工用のホイールは、
前記共有ガントリー部の一側に設けられ、
前記共有アラインカメラは、
前記共有ガントリー部の他側に設けられることを特徴とする請求項６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項８】
前記少なくとも一つの面取り加工用のホイールは、
前記第１及び第２ステージにいずれも共有される共有面取り加工用のホイールであり、
前記少なくとも一つのアラインカメラは、
一つの基板に対する両側エッジの撮影のために前記第１及び第２ステージの一つ当り２個ずつ独立的に設けられることを特徴とする請求項２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項９】
前記グラインダーは、
前記第１及び第２ステージを連結する仮想の作業ラインに沿って前記第１及び第２ステージに亙って設けられる共有ガントリー部をさらに含み、
前記アラインカメラは、
前記共有ガントリー部の一側に設けられ、
前記共有面取り加工用のホイールは、
前記共有ガントリー部の他側に設けられることを特徴とする請求項８に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１０】
前記面取り加工用のホイールは、
前記基板の４角、長辺及び短辺をいずれも加工可能なマルチホイールであることを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１１】
前記複数のステージのそれぞれは、
前記基板を吸着して回転させる少なくとも一つのターンテーブルと、
前記ターンテーブルに対して接近及び離隔可能に前記ターンテーブルの外郭に配され、前記基板のサイズによって既定の前記ターンテーブルに対する相対的な位置で前記ターンテーブルとともに前記基板を吸着支持する多数の可変テーブルと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１２】
前記少なくとも一つのターンテーブルは、
中央領域に１個設けられ、
前記多数の可変テーブルは、
前記ターンテーブルの外郭で相互対称に４個設けられることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１３】
前記可変テーブルの側面には、
前記可変テーブルの前記ターンテーブルへの接近時に、前記ターンテーブルへの衝突を防止させる切開部が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１４】
前記ターンテーブルの表面には、
前記基板を真空吸着する多数の第１真空ホールが形成されており、
前記可変テーブルの表面には、
前記基板を真空吸着するが、多数の真空配管によって個別的に真空のオン／オフが制御される多数の第２真空ホールが形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１５】
前記多数の真空配管と連結される中間配管をさらに含み、
前記多数の真空配管は、
前記中間配管のそれぞれの一ラインから隣となった一対の可変テーブルに相互対称に分岐されることを特徴とする請求項１４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１６】
前記第１及び第２真空ホールの周辺に設けられ、前記ターンテーブル及び前記可変テーブルの表面から下方に一定深さほど陷沒された状態で一定の形状のラインを成して前記基板に対する真空吸着面積を倍加させる第１及び第２真空吸着ライン溝をさらに含むことを特徴とする請求項１４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１７】
前記第１及び第２真空吸着ライン溝は、
前記第１及び第２真空ホールの一つ当り一つずつ設けられることを特徴とする請求項１６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１８】
前記４個の可変テーブルを前記ターンテーブルに対して接近及び離隔させるテーブル駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項１２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項１９】
前記テーブル駆動部は、
２個ずつ対を成した可変テーブルをそれぞれ連結する一対の連結ブロックと、
前記一対の連結ブロックにそれぞれ回転可能に結合されて正・逆転時、前記一対の連結ブロックを相互接近及び離隔させるボールスクリュー軸と、
前記ボールスクリュー軸を正・逆転させる単一の駆動モータと、を含むことを特徴とする請求項１８に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２０】
前記可変テーブルと前記連結ブロックとに設けられて、前記連結ブロックに対する前記可変テーブルの平坦度を調節する平坦度調節部をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２１】
前記平坦度調節部は、
両端部のネジ山が相互反対方向に加工された状態で両端部が前記可変テーブルと前記連結ブロックとに螺合される多数の調節ボルトと、
前記可変テーブルと前記連結ブロックとのうち何れか一つに結合されて一端部が他の一つに接触支持される多数の接触支持ボルトと、を含むことを特徴とする請求項２０に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２２】
前記複数のステージは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを連結する仮想のＸ軸の横方向に沿って複数個設けられることを特徴とする請求項１１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２３】
前記基板ローディングユニットと前記面取り加工ユニットとの間の領域、そして、前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間の領域にそれぞれ設けられてＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸に移動しながら前記基板を移送するトランスファーをさらに含み、
前記トランスファーは、
相互離隔及び接近可能に設けられて、前記基板の両側面で前記基板を把持する多数の基本把持ユニットと、
前記基板の移送または停止途中、前記基板が前記基本把持ユニットから離脱して落下することを防止するように、前記基本把持ユニットの相互離隔及び接近方向に交差される方向で前記基板を把持する少なくとも一つの安全把持ユニットと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２４】
前記トランスファーは、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとが結合されるヘッド部をさらに含み、
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記面取り加工ユニットに向けた前記ヘッド部の前面領域に設けられることを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２５】
前記多数の基本把持ユニットは、
前記ヘッド部の両側面領域に２個ずつ４個設けられ、
前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、１個設けられることを特徴とする請求項２４に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２６】
前記トランスファーは、
前記２個ずつの基本把持ユニットをそれぞれ連結する一対の連結部と、
前記ヘッド部に設けられて、前記一対の連結部の移動を案内する一対の案内部と、
前記一対の連結部が、前記一対の案内部によって案内されながら相互接近及び離隔されるように前記一対の連結部を駆動させる駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２７】
前記トランスファーは、
前記ヘッド部に連結される固定ロッドと、
前記固定ロッドに対して前記安全把持ユニットを回動可能に支持する回動支持部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２８】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板の側面に接触された状態で前記基板の下面を部分的に支えて支持できるように‘Ｌ’状を有することを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項２９】
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットは、
前記基板にスクラッチの発生が防止されるようにＭＤ−ＰＡ材質で製作可能であることを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３０】
前記トランスファーは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のＸ軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるＸ軸駆動部と、
前記Ｘ軸に交差されるＹ軸に沿って前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを駆動させるＹ軸駆動部と、
前記多数の基本把持ユニットと前記少なくとも一つの安全把持ユニットとを上下方向であるＺ軸に沿って駆動させるＺ軸駆動部と、をさらに含むことを特徴とする請求項２３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３１】
前記面取り加工ユニットの隣接した領域に設けられ、新たな基板をローディングするために、前記基板ローディングユニット方向に移動する前記ステージの表面に前記ステージの洗浄のための洗浄流体を噴射するステージ洗浄ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３２】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記ステージの移動方向の横方向に沿って設けられるユニットフレームと、
前記ステージの上部領域で前記ユニットフレームに着脱可能に結合されて、前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する少なくとも一つの単位洗浄部と、を含むことを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３３】
前記単位洗浄部から前記ステージの表面に噴射される前記洗浄流体が、前記ステージの内側から外側方向に噴射されるように、前記単位洗浄部は、ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項３２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３４】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの一つ当り一対ずつ設けられるように前記ユニットフレームに結合され、
前記ステージにそれぞれ設けられる一対の前記単位洗浄部は、相互対称傾斜度を有するように前記ユニットフレームに傾いて結合されることを特徴とする請求項３３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３５】
前記単位洗浄部は、
前記ステージの表面に前記洗浄流体を噴射する噴射口が設けられている噴射胴体部と、
前記噴射胴体部が、前記ユニットフレームに対して回動可能に前記噴射胴体部を前記ユニットフレームに結合させる回動結合部と、を含むことを特徴とする請求項３２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３６】
前記噴射胴体部は、
前記回動結合部に対して回動可能に結合される回動部材と、
前記回動部材と実質的に平行な方向を有するように前記回動部材に結合され、上端部から内側方向に前記洗浄流体が移動する移動空間が陷沒形成されている噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項３５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３７】
前記噴射胴体部は、
前記噴射部材の上端部に結合されて、前記噴射部材の内部を外部と遮蔽する遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射口は、
前記噴射部材の先端部と前記遮蔽部材の先端部とが相互離隔して結合されてスリット状に設けられることを特徴とする請求項３６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３８】
前記回動結合部は、
前記ユニットフレームに結合されるフレーム締結部材と、
前記回動部材が、軸中心に回動可能に前記回動部材に結合される回動結合部材と、
前記回動部材の長手方向の横方向に設けられ、前記回動結合部材を前記フレーム締結部材に対して相対回動可能に前記フレーム締結部材及び前記回動結合部材の間を連結させる連結部材と、を含むことを特徴とする請求項３６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項３９】
前記ステージ洗浄ユニットは、
前記面取り加工ユニットと前記基板アンローディングユニットとの間に設けられることを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４０】
面取り加工が完了した前記基板が前記基板アンローディングユニットに移送され、前記ステージが前記基板ローディングユニット方向に移動する時、前記ステージ洗浄ユニットから前記洗浄流体が噴射されるように、前記ステージ洗浄ユニットの動作を制御する制御部をさらに含むことを特徴とする請求項３１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４１】
前記基板アンローディングユニットに設けられて、面取り加工が完了した基板に対する面取り量を測定する面取り量の測定ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４２】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板アンローディングユニットの上部及び下部にそれぞれ設けられ、前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の長辺または短辺の面取り量を測定する少なくとも一対の測定部を含むことを特徴とする請求項４１に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４３】
前記少なくとも一対の測定部は、
前記基板アンローディングユニットによって移送される前記基板の相互平行な一対の長辺または一対の短辺を連続的に撮影する二対の撮影カメラであることを特徴とする請求項４２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４４】
前記撮影カメラは、
ラインスキャンカメラ及びエリアカメラのうち何れか一つであることを特徴とする請求項４３に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４５】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板の移送方向の横方向に沿って相互離隔して設けられ、前記基板の移送方向に対して前記測定部より上流に配されて前記基板上に残存可能な異物を除去する一対の異物除去部をさらに含むことを特徴とする請求項４２に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４６】
前記異物除去部は、
前記基板アンローディングユニットにローディングされて移送される前記基板の長辺または短辺が通過可能に一側が開放されたトンネル構造に設けられ、一面から内側方向に異物除去のための異物除去用の作業流体が移動する移動空間が陷沒形成されている異物除去胴体と、
前記異物除去胴体に設けられ、前記移動空間を通過した前記異物除去用の作業流体を前記基板の長辺または短辺に向けて噴射させる噴射部材と、を含むことを特徴とする請求項４５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４７】
前記異物除去部は、
前記異物除去胴体の内側に配される流体移動管を保護するために、前記異物除去胴体の一面に着脱可能に結合される遮蔽部材をさらに含み、
前記噴射部材と前記遮蔽部材は、相互離隔して結合されて前記移動空間と外部とを連通させる噴射出口を形成することを特徴とする請求項４６に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４８】
前記噴射出口は、
前記異物除去胴体の上端と下端とを繋ぐ仮想の線に対して傾いて設けられることを特徴とする請求項４７に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項４９】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記基板ローディングユニットと前記基板アンローディングユニットとを繋ぐ仮想のＸ軸に交差するＹ軸に沿って設けられる測定支持フレームと、
前記Ｙ軸に沿って移動可能に前記測定支持フレームに結合され、前記測定部が搭載される移動フレームと、を含むことを特徴とする請求項４５に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５０】
前記面取り量の測定ユニットは、
前記移動フレーム上で前記測定部を前記基板アンローディングユニットに対して接近及び離隔させる昇降駆動部をさらに含むことを特徴とする請求項４９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【請求項５１】
前記異物除去部は、
前記移動フレームに結合され、
前記作業流体は、
異物除去用のガスであることを特徴とする請求項４９に記載の平面ディスプレイ用の面取り機。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【公開番号】特開２００９−１６０７２５（Ｐ２００９−１６０７２５Ａ）
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２５０８２１（Ｐ２００８−２５０８２１）
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（５０８２９２３２７）エスエフエー エンジニアリング コーポレーション (4)
【氏名又は名称原語表記】ＳＦＡ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ＣＯＲＰ．
【住所又は居所原語表記】１６６，Ｓｉｎｈａｎｇ−ｒｉ，Ｄｕｎｐｏ−ｍｙｅｏｎ，Ａｓａｎ−ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月２３日（２００９．７．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月２９日（２００８．９．２９）
【出願人】（５０８２９２３２７）エスエフエー エンジニアリング コーポレーション (4)
【氏名又は名称原語表記】ＳＦＡ ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ ＣＯＲＰ．
【住所又は居所原語表記】１６６，Ｓｉｎｈａｎｇ−ｒｉ，Ｄｕｎｐｏ−ｍｙｅｏｎ，Ａｓａｎ−ｓｉ，Ｃｈｕｎｇｃｈｅｏｎｇｎａｍ−ｄｏ，Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｋｏｒｅａ
【Ｆターム（参考）】
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