感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
【課題】 サイドウォールピットの発生を最小限に抑え、優れた密着性及び優れた解像度を有し、且つ、側面ギザのない良好なレジスト形状を有するレジストパターンが形成可能な感光性エレメントを提供すること。
【解決手段】 支持フィルム１０と、該支持フィルム１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、を備える感光性エレメントであって、支持フィルム１０のヘーズが０．０１〜１．５％であり、感光層２０が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメント。
【解決手段】 支持フィルム１０と、該支持フィルム１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層２０と、を備える感光性エレメントであって、支持フィルム１０のヘーズが０．０１〜１．５％であり、感光層２０が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の製造分野及び金属の精密加工分野において、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物からなる層（以下、「感光層」という）、支持フィルム及び保護フィルムで構成される感光性エレメントが広く用いられている。
【０００３】
プリント配線板は、例えば下記のようにして製造される。まず、感光性エレメントの保護フィルムを感光層から剥離した後、回路形成用基板の導電膜上に感光層をラミネートする。次いで、感光層にパターン露光を施した後、未露光部分を現像液で除去し、レジストパターンを形成する。そして、このレジストパターンに基づいて、導電膜をパターンニングすることによって、プリント配線板が形成される。
【０００４】
この未露光部分の除去に用いられる現像液としては、炭酸水素ナトリウム溶液等のアルカリ現像液が主に用いられている。現像液は、通常、ある程度感光層を溶解する能力があればよく、現像時には感光層が現像液に溶解又は現像液中に分散される。
【０００５】
近年、プリント配線板の高密度化に伴い、回路形成用基板とレジスト材料である感光層との接触面積が小さくなっている。そのため、感光層には、エッチング又はめっき工程において優れた機械強度、耐薬品性、柔軟性が要求されると共に、回路形成用基板との優れた密着性やパターン形成における優れた解像度が要求されている。最近では、特にパッケージ基板用途としてライン幅及びスペース幅が共に１０μｍ以下のレジストパターンを形成し得る材料が望まれている。また、レジストパターンの高解像度化に伴い、レジストの側面ギザやマウスバイト等のレジスト形状が問題となっている。
【０００６】
通常、感光性エレメントを用いてレジストを形成する際には、感光層を基板上にラミネートした後、支持フィルムを剥離することなく露光を行う。このような露光処理に対応するためには、支持フィルムに光透過性の材料を採用すればよい。その一方で、パターン形成における高い解像度を得るためには、支持フィルムをなるべく薄くする必要がある。しかしながら、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を均一な厚さで歩留り良く塗布するためには、支持フィルムにある程度の厚さ（一般に１０μｍ〜３０μｍ）が要求される。また、支持フィルムの生産性を向上させるために、すなわち支持フィルムの巻き取り性等を向上させる目的で、一般的に支持フィルムには、無機又は有機微粒子を含有させている。そのため、従来の支持フィルムは、ヘーズ値が増大し、支持フィルムが含有する微粒子により、露光時に光散乱が起こり、感光性フィルムの高解像度化の要求に応えられない傾向にある。
【０００７】
高解像度化を達成する方法としては、露光前に、感光性エレメントに備えられた支持フィルムを剥離し、支持フィルムを介さずに露光する方法がある。しかしながら、感光層は通常、ある程度の粘着性を有しているため、フォトツールを感光層に直接密着させて露光を行う場合、密着させたフォトツールの除去が困難となる。また、感光層によりフォトツールが汚染されたり、支持フィルムを剥離することにより感光層が大気中の酸素に曝されたりして、光感度が低下しやすくなる。
【０００８】
上述の点を改善するために、種々の手段が提案されている。例えば、特許文献１及び２には、二層以上の感光層を形成し、そのうちのフォトツールと直接密着する層を非粘着性とする方法が開示されている。また、特許文献３〜８では、支持フィルムと感光層との間に中間層を設ける方法が提案されている。また、特許文献９又は１０では、支持フィルムの片側の最表面に平均粒径０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させることでヘーズ値を低くし、支持フィルムを介して露光しても高解像度化できる方法が提案されている。
【０００９】
一方、近年の高密度化するプリント配線板の製造方法における有用な工法としては、セミアディティブ工法がある。本工法でレジストに要求される特性としては、密着性、解像度、現像後のレジスト形状、柔軟性及びめっき後のはく離性が挙げられる。このセミアディティブ工法は高濃度の薬品溶液中で長時間電流を流す工程を有するため、細線部におけるレジストの密着性が低下し、めっきもぐりが発生するという問題があった。
【００１０】
そこで、密着性を向上させる手段として、感光層に密着性付与剤を添加する方法が提案されている。例えば、特許文献１１には、密着性付与剤として含窒素複素環式化合物を用いる手法が開示されている。また、特許文献１２には１，２，３−ベンゾトリアゾール等の−ＮＨ−含有の複素環化合物を用いる手法が、特許文献１３にはインダゾール又はその誘導体を用いる手法が、特許文献１４にはフタラゾン又はその誘導体を用いる手法がそれぞれ開示されている。また、特許文献１５にはカルボキシベンゾトリアゾールを用いる手法が、特許文献１６にはカルボキシベンゾトリアゾールと２級アルキルアミンとアルデヒド類から合成される化合物を用いる手法がそれぞれ開示されている。
【００１１】
【特許文献１】特開平０１−２２１７３５号公報
【特許文献２】特開平０２−２３０１４９号公報
【特許文献３】特開昭４７−０４６１０２号公報
【特許文献４】特表昭５５−５０１０７２号公報
【特許文献５】特開昭４７−０００４６９号公報
【特許文献６】特開昭５９−０９７１３８号公報
【特許文献７】特開昭５９−２１６１４１号公報
【特許文献８】特開昭６３−１９７９４２号公報
【特許文献９】特開平０７−３３３８５３号公報
【特許文献１０】国際公開第００／０７９３４４号パンフレット
【特許文献１１】特開平１０−１２３７１４号公報
【特許文献１２】特公昭５０−９１７７号公報
【特許文献１３】特開昭５５−６５２０３号公報
【特許文献１４】特開昭５５−６５２０２号公報
【特許文献１５】米国特許４，６８０，２４９号
【特許文献１６】特開平０２−３３１４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記特許文献１〜８に記載の手段では、中間層を設けたり、複数の感光層を設けたりするための余計な塗布工程が必要となり、その製造工程の数が増加する問題がある。また、特許文献１又は２に記載の手段では、基板に設置した際に感光層は大気中の酸素に曝されるため、その光感度を高く維持することが困難である。さらに、特許文献３〜８に記載の手段では、中間層が薄いために、感光性エレメントの取扱いが容易ではない。
【００１３】
さらに、本発明者らが検討した結果、特許文献９又は１０に記載の手段においては、解像度や側面ギザ等のレジスト形状は改善されるものの、感光層の膜厚を薄膜化するに従い、また感光性樹脂組成物の解像度等の特性が向上するに従い、現像後のレジストの側面に１μｍ程度の穴（以下、「サイドウォールピット」という）が生じることが判明した。特にセミアディティブ工法の場合、現像後のレジスト形状がそのままめっきライン形状に転写されるため、サイドウォールピットはめっきラインの側面に突起物を発生させる原因となり、プリント配線板の製造歩留りを低下させる問題がある。
【００１４】
一方で、本発明者らが検討した結果、特許文献１１に記載の手段によるとレジストの密着性は向上するものの、密着性付与剤を添加することでサイドウォールピットが通常よりも多数発生することが判明した。
【００１５】
さらに、特許文献１２〜１４に記載の手段では、密着性付与剤の増加に伴い、フォトレジストの感度低下、解像度の悪化、現像・はく離後の銅面の色やけ、はく離後のエッチング速度の遅延化、めっき不良等の新たな問題が発生するため、実際には添加量に制限があり、従来の添加量では、ライン幅の狭いレジストパターンの部分で充分な密着性が得られないという問題がある。
【００１６】
また、特許文献１５に記載の手段では、化合物の溶解性が低く分散性が悪いため、要求される諸特性を充分に満たすことができないという問題がある。
【００１７】
さらに、特許文献１６に記載の手段では、回路配線板の金属表面への密着性が充分でなく、高濃度の薬品溶液中で長時間電流を流すめっき処理を行うとレジストが剥がれ、めっきもぐり等の問題が発生する。
【００１８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、優れた密着性及び解像度を有し、且つ、サイドウォールピットの発生を最小限に抑え、側面ギザのないレジストパターンが形成可能な感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記目的を達成するために、本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントであって、上記支持フィルムのヘーズが０．０１〜１．５％であり、上記感光層が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、上記（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメントを提供する。
【００２０】
本発明者らは、（Ｄ）密着性付与剤として上記（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を感光層に含有させることにより、高解像のレジストパターンで問題となるサイドウォールピットの発生が低減されることを発見した。また、支持フィルムのヘーズを０．０１〜１．５％と十分に低減したことに加え、感光層が（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、且つ（Ｄ）密着性付与剤として上記（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有することで、レジストの側面ギザを改善するだけでなく、密着性及び解像度を共に高水準で達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２１】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光層は、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有することが好ましい。これにより、より高い密着性を有するレジストパターンが形成可能となる。
【００２２】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光性樹脂組成物からなる上記感光層の膜厚は、３〜３０μｍであることが好ましい。膜厚をこの範囲にすることで、現像後により高解像なレジストパターンが形成可能となる。
【００２３】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光層は、上記（Ｂ）光重合性化合物として下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。これにより、感光層の光感度及びレジストパターンの解像度がより優れたものとなる。
【００２４】
【化１】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【００２５】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーの重量平均分子量は、３０，０００〜１５０，０００であることが好ましい。これにより、感光層の薄膜化が容易となり、より高解像なレジストパターンが形成可能となる。
【００２６】
本発明はまた、上記本発明の感光性エレメントを、上記感光層、上記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルムを通して上記感光層の所定部分に照射して、上記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の上記感光層を除去する現像工程と、を含む、レジストパターンの形成方法を提供する。
【００２７】
本発明はさらに、上記本発明のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、優れた密着性及び解像度を有し、且つ、サイドウォールピットの発生を最小限に抑え、側面ギザのないレジストパターンが形成可能な感光性エレメントを提供することができる。すなわち、かかる感光性エレメントによれば、その後のめっき処理等の工程においてめっきもぐり等が発生せず、高精細で且つ表面に突起物等を有さない良好なめっきライン形状を得ることができ、プリント配線板の製造歩留を向上することが可能となる。また、本発明は、上記本発明の感光性エレメントを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。同様に「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及びそれに対応する「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリロイル」とは「アクリロイル」及びそれに対応する「メタクリロイル」を意味する。
【００３０】
図１は、本発明の感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、感光層２０とで構成される。感光層２０は支持フィルム１０の第１の主面１２上に設けられている。また、支持フィルム１０は、第１の主面１２とは反対側に第２の主面１４を有している。
【００３１】
（支持フィルム）
本発明の支持フィルム１０のヘーズは、０．０１〜１．５％であり、０．０１〜１．３％であることがより好ましく、０．０１〜１．０％であることがさらに好ましく、０．０１〜０．８％であることが特に好ましく、０．０１〜０．６％であることが極めて好ましい。このヘーズが０．０１％未満では製造容易性が劣る傾向があり、１．５％を超えると感度及び解像度が悪化し、レジストの側面ギザが発生する傾向がある。なお、本発明におけるヘーズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定したものである。ここで、「ヘーズ」とは曇り度を意味し、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定される方法に準拠して市販の曇り度計（濁度計）を用いて測定された値をいう。例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製、商品名）等の市販の濁度計などでヘーズの測定が可能である。
【００３２】
支持フィルム１０としては、感光層２０を支持することができれば特に制限されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエステル等の樹脂材料を含むフィルムが挙げられ、これらの樹脂材料を２種以上含むフィルムを用いることもできる。樹脂材料としては、中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００３３】
支持フィルム１０の厚みは特に制限されないが、５〜４０μｍであることが好ましく、８〜３５μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることがさらに好ましく、１２〜２５μｍであることが特に好ましい。厚さが５μｍ未満であると、感光性エレメント１から支持フィルム１０を剥離する際に、支持フィルム１０が破れやすくなる傾向がある。また、厚さが４０μｍを超えると、解像度が低下する傾向があると共に、廉価性に劣る傾向がある。
【００３４】
また、支持フィルム１０は、その製造方法については特に制限はなく、単層であっても多層であってもよい。例えば、２層からなる２層支持フィルムを用いる場合、二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層してなる２層フィルムを支持フィルムとして使用し、上記微粒子を含有する樹脂層を形成した面とは反対側の面に感光層を形成することが好ましい。また、支持フィルムとして、３層からなる多層支持フィルム（例えば、Ａ層／Ｂ層／Ａ層）を用いることもできる。多層支持フィルムの構成は特に制限されないが、最外層（上記３層からなるものの場合はＡ層）はいずれも微粒子を含有する樹脂層であることが、フィルムの滑り性等の見地から好ましい。
【００３５】
なお、従来の２層支持フィルムは、微粒子を有する樹脂層を二軸配向ポリエステルフィルムに塗布して製造しているため、感光性エレメントのラミネート時に微粒子を含有する樹脂層が剥がれやすく、剥がれた樹脂層が感光層に付着して不良の原因になる可能性がある。そのため、本発明においては、微粒子を有する樹脂層と二軸配向ポリエステルフィルム射出成形された３層からなる多層支持フィルムを用いることが好ましい。
【００３６】
上記微粒子の平均粒子径は、微粒子を含有する樹脂層の層厚の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．２〜５倍であることがより好ましい。平均粒子径が０．１倍未満では滑り性が劣る傾向があり、１０倍を超えると感光層に特に凹凸が生じ易い傾向がある。
【００３７】
上記微粒子は、微粒子を含有する樹脂層中に０．５〜５０質量％含有されていることが好ましい。そして、上記微粒子としては、例えば、各種核剤により重合時に生成した微粒子、凝集体、二酸化珪素微粒子（凝集シリカ等）、炭酸カルシウム微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、硫酸バリウム微粒子等の無機微粒子、架橋ポリスチレン微粒子、アクリル微粒子、イミド微粒子等の有機微粒子、これらの混合体等を用いることができる。
【００３８】
３層以上の多層支持フィルムの微粒子を含有する最外層で挟まれた１以上の中間層は、上記微粒子を含有するものであっても含有しないものであってもよいが、支持フィルムのヘーズ値を本発明の範囲内に調整するためには、上記微粒子を含有していないことが好ましい。中間層が上記微粒子を含有する場合は、中間層における含有量は最外層の含有量の１／３以下であることが好ましく、１／５以下であることがより好ましい。
【００３９】
解像度の見地からは、上記微粒子を含有する樹脂層の層厚は０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがより好ましく、０．１〜２μｍであることがさらに好ましい。そして、最外層の中間層に対向しない面は、１．２以下の静摩擦係数を有することが好ましい。静摩擦係数が１．２を超えると、フィルム製造時及び感光性エレメント製造時にしわが入りやすく、また、静電気を生じ易くなるためごみが付着しやすくなる傾向がある。本発明において、静摩擦係数は、ＡＳＴＭＤ１８９４に準じて測定することができる。
【００４０】
、本発明の支持フィルム１０は、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子及び凝集物（以下、単に「粒子等」という）が５個／ｍｍ２以下のものであることが好ましく、３個／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１個／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。この粒子等の数が５個／ｍｍ２を超えると、露光及び現像後のレジストパターンの一部欠損（レジスト欠け）が生じ易くなる。そして、このような感光性エレメントをプリント配線板に使用すると、エッチング時のオープン不良発生や、めっき時のショート不良発生の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。
【００４１】
本発明者らは、上記特許文献９及び１０には、平均粒径が０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させた二層支持フィルムが明記されているものの、実際には、支持フィルム中に含まれる直径５μｍ以上２０μｍ未満の粒子が多数（本発明者らの調査によれば、２０個／ｍｍ２以上）存在することを突き止めた。そして、高密度化が要求されているプリント配線板分野においてそのような支持フィルムを用いた場合には、露光時に照射した活性光線の光散乱が起こり、活性光線が感光層まで到達し難くなるため、現像後にレジストパターンの一部欠損（レジスト欠け）が製造歩留り低下に影響を及ぼす可能性がある。
【００４２】
ここで、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等とは、支持フィルムを構成する成分（例えば、ポリマーのゲル状物、原料であるモノマー、製造時に使用される触媒、必要に応じて含まれる無機又は有機微粒子）がフィルム作製時に凝集し形成される凝集物、滑剤含有層をフィルム上に塗布した際に発生する滑剤と接着剤による膨らみ、フィルム中に含有する直径５μｍ以上の無機又は有機微粒子等に起因して生じたものである。直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下にするには、これらの粒子等のうち、粒径の小さなもの又は分散性に優れたものを選択的に用いればよい。なお、上記直径５μｍ以上の粒子等の数は、偏光顕微鏡を用いて測定することができる。
【００４３】
なお、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下とするために、上述した樹脂層が含有する微粒子の粒径は５μｍ未満であることが好ましい。そして、露光時の光散乱をより一層低減するために、微粒子の粒径に合わせて微粒子を含有する樹脂層の層厚を適宜調整することが好ましい。
【００４４】
支持フィルム１０は、市販の一般工業用フィルムの中から、感光性エレメント１の支持フィルムとして使用可能なものを入手し、適宜加工して用いてもよい。支持フィルム１０として使用可能な市販の一般工業用フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムである「ＱＳ−４８」（東レ（株）製、商品名）、「ＨＴＦ−０１」（帝人デュポンフィルム（株）製、商品名）、「Ａ−１５１７」、「Ａ２１００−１６」（以上、東洋紡績（株）製、商品名）及び「Ｒ−３４０Ｇ」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、商品名）が挙げられる。中でも、支持フィルム中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下とする観点からは、「ＱＳ−４８」（東レ（株）製、商品名）が好ましい。
【００４５】
なお、支持フィルム１０は、その感光特性を損なわない範囲で、必要に応じて、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
【００４６】
（感光層）
感光層２０は感光性樹脂組成物からなる層である。感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマー（以下、場合により「（Ａ）成分」という）、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（以下、場合により「（Ｂ）成分」という）、（Ｃ）光重合開始剤（以下、場合により「（Ｃ）成分」という）、及び、（Ｄ）密着性付与剤（以下、場合により「（Ｄ）成分」という）を含有し、且つ、（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物（以下、場合により「（ａ）成分」という）を含有する。
【００４７】
また、感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物（以下、場合により「（ｂ）成分」という）をさらに含有することが好ましい。以下、上記各成分について詳細に説明する。
【００４８】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーとしては、アルカリ現像性の見地から、分子内にカルボキシル基を含有するものであれば特に制限されず、従来の感光性樹脂組成物に用いられているものを使用することができる。かかる（Ａ）バインダーポリマーは、例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体と、他の重合性単量体とを、ラジカル重合させて製造することができる。上記のカルボキシル基を有する重合性単量体としては、メタクリル酸が好ましい。
【００４９】
また、（Ａ）バインダーポリマーは、密着性及び耐薬品性（耐めっき性）の見地からスチレン又はスチレン誘導体をモノマー単位として有することが好ましい。スチレン又はスチレン誘導体を共重合成分として、密着性及び剥離特性を共に良好にするには、（Ａ）バインダーポリマーがこれらを３〜３０質量％含むことが好ましく、４〜２８質量％含むことがより好ましく、５〜２７質量％含むことが特に好ましい。この含有量が３質量％未満では密着性が低下する傾向があり、３０質量％を超えると剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向がある。
【００５０】
また、上記（Ａ）バインダーポリマーは、スチレン及び／又はスチレン誘導体と、（メタ）アクリル酸と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、の共重合体であることが好ましい。
【００５１】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、エステル部位のアルキル基が炭素数１〜１２のアルキル基であるものが挙げられる。かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、並びに、これらの構造異性体が挙げられる。さらには、上記アルキル基が、水酸基、エポキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。
【００５２】
（Ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量は、３０，０００〜１５０，０００であることが好ましく、３５，０００〜１００，０００であることがより好ましく、４０，０００〜８０，０００であることが更に好ましい。この重量平均分子量が３０，０００未満では、感光層が脆くなる傾向があり、１５０，０００を超えると糸状現象残りが発生し、解像度が低下する傾向がある。なお、上記重量平均分子量はゲルパーミェションクロマトグラフィーにより測定し、標準ポリスチレン換算した値を使用したものである。
【００５３】
（Ａ）バインダーポリマーの酸価は、３０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、１００〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、１３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。この酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像時間が長くなる傾向があり、３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると光硬化したレジストのアルカリ現像液に対する酸性が低下する傾向がある。
【００５４】
これらのバインダーポリマーは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。２種以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーの組合せとしては、例えば、異なる共重合成分からなる２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度を有する２種類以上のバインダーポリマーが挙げられる。また、特開平１１−３２７１３７号公報記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。
【００５５】
なお、現像工程として有機溶剤での現像を行う場合は、カルボキシル基を有する重合性単量体を少量に調製することが好ましい。また、必要に応じてバインダーポリマーは感光性基を有していてもよい。
【００５６】
（Ｂ）成分である分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５７】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１４であり、プロピレン基の数が２〜１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレー、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、１，４−テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−キサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロ−キサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５８】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位に水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−１１」等が挙げられる。また、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−１３」等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５９】
本発明における（Ｂ）成分は、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物を含むことが好ましい。（Ｂ）成分としてこのような化合物を含有することによって、（Ａ）バインダーポリマーとの相溶性を向上することができる。
【００６０】
上記炭素数２〜６のオキシアルキレン単位としては、オキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、オキシイソプロピレン単位、オキシブチレン単位、オキシペンチレン単位及びオキシへキシレン単位が挙げられる。これらの中で、上記オキシアルキレン単位としては、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、オキシエチレン単位又はオキシイソプロピレン単位が好ましい。
【００６１】
また、本発明の（Ｂ）成分は、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物のうち、解像度及び感度を良好にする観点から、下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。
【００６２】
【化２】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【００６３】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。上記一般式（Ｉ）中、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。なお、式中、複数存在するＸは同一であっても異なっていてもよい。上記一般式（Ｉ）中、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。ｐ＋ｑの値は６〜３４であることが好ましく、８〜３０であることがより好ましく、８〜２８であることがさらに好ましく、８〜２０であることが特に好ましく、８〜１６であることが極めて好ましく、８〜１２であることが最も好ましい。ｐ＋ｑの値がこのような範囲であると、感光性エレメントの解像度がより向上する。ｐ＋ｑの値が４未満では、（Ａ）成分であるバインダーポリマーとの相溶性が低下し、回路形成用基板に感光性エレメントをラミネートした際に剥がれやすい傾向がある。また、ｐ＋ｑの値が４０を超えると、親水性が増加し、現像時にレジスト像が剥がれやすく、耐めっき性が低下する傾向がある。
【００６４】
炭素数２〜６のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基及びへキシレン基が挙げられる。これらの中では、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、エチレン基又はイソプロピレン基が好ましい。
【００６５】
また、上記一般式（Ｉ）中の芳香環は置換基を有していてもよい。それら置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、フェナシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のアシル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のＮ−アルキルカルバモイル基又は複素環を含む基、あるいは、これらの置換基で置換されたアリール基が挙げられる。上記置換基は、縮合環を形成していてもよく、また、これらの置換基中の水素原子がハロゲン原子等の上記置換基などに置換されていてもよい。なお、置換基の数がそれぞれ２以上の場合、２以上の置換基は各々同一でも異なっていてもよい。
【００６６】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては具体的には、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００６７】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカエトキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらのうち、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンがより好ましく、ＢＰＥ−５００（製品名、新中村化学工業（株）製）として商業的に入手可能である。また、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（商品名、新中村化学工業（株）製）として商業的に入手可能である。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６８】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００６９】
なお、本発明の（Ｂ）成分の総量に対する上記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有割合は、５０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９０質量％であることがより好ましく、６５〜８５質量％であることがさらに好ましく、７０〜８０質量％であることが特に好ましい。上記一般式（Ｉ）で表される化合物をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメントはより高い解像度及び感度を有するものとなる。
【００７０】
また、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートも好ましく使用できる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００７１】
【化３】
【００７２】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。上記一般式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹは各々独立に炭素数２〜６のアルキレン基を示し、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。上記一般式（ＩＩ）中、ｓ、ｔ及びｕはｓ＋ｔ＋ｕ＝４〜４０となるように選ばれる０〜３０の整数を示す。ｓ＋ｔ＋ｕの値は５〜３０であることが好ましく、８〜２３であることがより好ましく、１０〜１５であることが特に好ましい。このｓ＋ｔ＋ｕの値が４未満では、当該化合物の沸点が低下し、感光層２０の臭気が強くなる傾向がある。また、ｓ＋ｔ＋ｕが４０を超えると、単位質量当たりの光反応性部位の濃度が低くなるため、感度が低下する傾向がある。
【００７３】
また、一般式（ＩＩ）中のオキシアルキレン単位（−（Ｘ−Ｏ）ｓ−、−（Ｙ−Ｏ）ｔ−、及び、−（Ｘ−Ｏ）ｕ−）が、例えば、オキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位を含む場合、それらが複数存在する際に、複数のオキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位は各々連続してブロック的に存在してもよいし、ランダムに存在してもよい。
【００７４】
更に、オキシアルキレン単位がオキシイソプロピレン単位である場合、プロピレン基の２級炭素が酸素原子に結合していてもよく、１級炭素が酸素原子に結合していてもよい。
【００７５】
これら上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の好ましい例としては、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物及び下記一般式（Ｖ）で表される化合物が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００７６】
【化４】
【００７７】
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ１、ｍ２及びｎ１はｍ１＋ｍ２＋ｎ１＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００７８】
【化５】
【００７９】
上記一般式（ＩＶ）中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ３、ｎ２及びｎ３はｍ３＋ｎ２＋ｎ３＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００８０】
【化６】
【００８１】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ４及びｎ４はｍ４＋ｎ４＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００８２】
一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）における炭素数１〜３のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
【００８３】
また、上記一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）におけるオキシエチレン単位の繰り返し数の総数（ｍ１＋ｍ２、ｍ３及びｍ４）は各々独立に１〜３０の整数であることが好ましく、１〜１０の整数であることがより好ましく、４〜９の整数であることがさらに好ましく、５〜８の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えるとテント信頼性及びレジスト形状が悪化する傾向がある。
【００８４】
上記一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）におけるオキシプロピレン単位の繰り返し数の総数（ｎ１、ｎ２＋ｎ３及びｎ４）は各々独立に１〜３０の整数であることが好ましく、５〜２０の整数であることがより好ましく、８〜１６の整数であることがさらに好ましく、１０〜１４の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えると解像度が低下し、現像時にスラッジが発生する傾向がある。
【００８５】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ５及びＲ６がメチル基、ｍ１＋ｍ２＝４（平均値）、ｎ１＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業（株）製、商品名：ＦＡ−０２３Ｍ）等が挙げられる。
【００８６】
上記一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ７及びＲ８がメチル基、ｍ３＝６（平均値）、ｎ２＋ｎ３＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業（株）製、商品名：ＦＡ−０２４Ｍ）等が挙げられる。
【００８７】
上記一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ９及びＲ１０が水素原子、ｍ４＝１（平均値）、ｎ４＝９（平均値）であるビニル化合物（新中村化学工業（株）製、サンプル名：ＮＫエステルＨＥＭＡ−９Ｐ）等が挙げられる。
【００８８】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００８９】
（Ｂ）成分には、現像液特性及び剥離性等を向上する見地から、更に、エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物を含有させることが好ましい。中でも、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を含有させることがより好ましい。
【００９０】
【化７】
【００９１】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基であり、水素原子であることが好ましい。上記一般式（ＶＩ）中、Ｘは上述した一般式（Ｉ）中のＸと同意義であり、エチレン基であることが好ましい。上記一般式（ＶＩ）中、ｒは４〜２０の正の整数であり、現像液特性の見地から、５〜１８であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましく、６〜１０であることがさらに好ましい。
【００９２】
また、上記一般式（ＶＩ）中の芳香環は置換基を有していてもよく、それら置換基としては、上述した一般式（Ｉ）中の芳香環と同様の置換基が挙げられる。
【００９３】
上記一般式（ＶＩ）で表される化合物としては具体的には、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９４】
上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシドデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９５】
上記ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ブチルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘキサエチレンオクシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９６】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００９７】
（Ｃ）光重合開始剤は、必須成分として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含む。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−ブロモフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｐ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量休、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量休、２，２’−ビス（ｍ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｍ，ｐ−ジプロモフェニル）−４，４’，５，５−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４−５−ジフェニルイミダゾール二畳体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−タロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジプロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体等が挙げられる。これらの中でも、密着性及び感度をより向上させる観点から、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体が好ましい。
【００９８】
また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
【００９９】
なお、本発明における（Ｃ）成分の総量に対する２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の含有割合は、７０〜１００質量％であることが好ましく、８５〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることがさらに好ましく、９３〜１００質量％であることが特に好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメントはより優れた密着性及び感度を有するものとなる。
【０１００】
また、（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、上記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の他に、その他の光重合開始剤を用いてもよい。その他の光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン類、ｐ−アミノフェニルケトン類、キノン類、ベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン化合物、ベンジル誘導体、アクリジン誘導体、クマリン系化合物、オキシムエステル類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物、脂肪族多官能チオール化合物、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、３級アミン化合物類等が挙げられ、これら化合物を組み合わせて使用してもよい。
【０１０１】
上記芳香族ケトン類としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１０２】
上記ｐ−アミノフェニルケトン類としては、例えば、アミノベンゾフェノン、ブチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオフェニルアセトフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン等が挙げられる。
【０１０３】
上記キノン類としては、例えば、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、９，１０−フェナンタラキノン、１，２−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、２−アミノアントラキノン等が挙げられる。
【０１０４】
上記ベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１０５】
上記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等が挙げられる。
【０１０６】
上記ベンジル誘導体としては、例えば、ベンジルメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジプロピンケタール、ベンジルジフェニルケタール等が挙げられる。
【０１０７】
上記アクリジン誘導体としては、例えば、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−オキサプロパン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−チアプロパン、１，５−ビス（９−アクリジニル）−３−チアペンタン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、９−モノペンチルアミノアクリジン、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ブロモフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジエチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ブロモフェニル）アクリジン、９−シアノエチルアクリジン、９−ヒドロキシエチルアクリジン、９−クロロエチルアクリジン、９−ｎ−プロポキシアクリジン、９−クロロエトキシアクリジンなどが挙げられる。
【０１０８】
上記クマリン系化合物としては、例えば、７−アミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−メチルアミノ−４−メチルクマリン、７−エチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−アミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−ジエチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、４，６−ジメチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジエチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジメチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−ジメチルアミノクマリン、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサンヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−シクロペンタ［３，４］［１］ベンゾピラノ−［６，７，８−ｉｊ］キノリジン１２（９Ｈ）−オン、７−ジエチルアミノ−５’，７’−ジメトキシ−３，３’−カルボニルビスクマリン、３，３’−カルボニルビス［７−（ジエチルアミノ）クマリン］、７−ジエチルアミノ−３−チエノキシルクマリン等が挙げられる。
【０１０９】
上記オキシムエステル類としては、例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等が挙げられる。
【０１１０】
上記Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（メトキシエチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルロイシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）グリシン等が挙げられる。
【０１１１】
上記脂肪族多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンチオール、デカンチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、及びその他の多価ヒドロキシ化合物のチオグリコレート、チオプロピオネート等が挙げられる。
【０１１２】
上記アシルホスフィンオキサイド類としては、例えば、（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１１３】
上記チオキサントン類としては、例えば、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−フルオロチオキサントン、４−フルオロチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
【０１１４】
その他の光重合開始剤としては、例えば、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフィニルホスフィネイト、２，３−ジオキソ−３−フェニルプロピオンジ酸エチル−２−（ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム、ｐ−ニトロジフェニル、ｍ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン、２，６−ジニトロアニリン等が挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【０１１５】
上記３級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸、ジエチルアミノ安息香酸、ジイソプロピルアミノ安息香酸等が挙げられる。
【０１１６】
本発明の（Ｃ）光重合開始剤としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の他に、上記芳香族ケトン類を含有することが好ましく、中でもＮ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）を含有することが好ましい。
【０１１７】
（Ｄ）密着性付与剤は、必須成分として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含む。（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物としては、分子内にカルボキシル基を１つ又は２つ以上有する脂肪族カルボン酸、分子内にカルボキシル基を２つ以上有する芳香族カルボン酸を挙げることができる。また、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は、本発明の効果がより十分に得られることから、ジカルボン酸化合物であることが好ましい。これらの中でも、（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は、脂肪族カルボン酸化合物、及び、一分子中にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物の両方に該当するもの、すなわち、分子内にカルボキシル基を２つ以上有する脂肪族カルボン酸化合物であることが好ましく、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するジカルボン酸化合物であることがより好ましい。なお、これらの（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１８】
ここで、脂肪族カルボン酸としては、炭素原子数１〜３０個で、１個または２個以上のカルボキシル基をもつ化合物群であり、構造的に飽和でも、不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでいても良く、置換基として、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸（ヘキサン酸）、ヘプタン酸、カプリル酸（オクタン酸）、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、オブツシル酸、カプロレイン酸、ウンデシレン酸、リンデン酸、ツズ酸、フィゼテリン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、エライジン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、アスクレピン酸、バクセン酸、ガドレイン酸、ゴンドイン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸、セラコレイン酸、ネルゴン酸、キシメン酸、ルメクエン酸、ソルビン酸、リノール酸、ヒラゴ酸、アルファーリノレン酸、プニカ酸、アルファーエレオステアリン酸、ベーターエレオステアリン酸、モロクチ酸、ステアリドン酸、アラキドン酸、エイコサペンタン酸、イワシ酸、ドコサヘキサエン酸、ニシン酸、タリリン酸、ステアロール酸、クレペニン酸、キシメニン酸、２−メチルプロパン酸、２−メチルブタン酸、イソ吉草酸、ネオペンタン酸、２，３−ジメチルペンタン酸、４，４−ジメチルペンタン酸、２−エチル酪酸、２，２−ジメチルヘキサン酸、２−エチルヘキサン酸、オクタン酸、イソオクタン酸、イソノナン酸、イソデカン酸、ネオデカン酸、イソトリデカン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、メタクリル酸、セネシオ酸、シトロネル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、ヘキサデカン二酸、オクタデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、オクテニルコハク酸、ドゼセニルコハク酸、オクタデセン二酸、ペンテデセニルコハク酸、トリカルバリル酸、グルタミン酸、２，５−ジベンズアミドペンタン酸、グリコール酸、乳酸、アルファーオキシ酪酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、エチレンジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラアミン六酢酸、ジカルボキシメチルグルタミン酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、１，３−プロパンジアミン四酢酸、１，３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン四酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、メチルグリシン二酢酸等ガ挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、オクタン酸、セバシン酸、イソステアリン酸、オクタデカン二酸、オクテニルコハク酸、エチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、酒石酸等が特に好ましい。
【０１１９】
芳香族カルボン酸としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン構造を骨格とし、これらと直接結合する２個以上のカルボキシル基を持ち、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオルール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ヘミメリット酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ウビチン酸、プレーニト酸、ピロメリット酸、メリット酸、ジフェン酸、ｍ−ヘミピン酸等が挙げられる。なお、これら化合物の中でも、イソフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が特に好ましい。
【０１２０】
また、一分子中にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物としては、上述した化合物以外に、ホモフタル酸、ホモイソフタル酸、ホモテレフタル酸、フタロン酸、イソフタロン酸、テレフタロン酸等が挙げられる。
【０１２１】
（Ｄ）成分としては、（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群から選択される１種または２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有することが好ましい。
【０１２２】
トリアゾール類としては、トリアゾール（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、２Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール）又はこれらとベンゼン環あるいはナフタレン環の環縮合構造を有する化合物群；トリアゾール環及び／又は芳香環に、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、２Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、ニトロベンゾトリアゾール、アミノベンゾトリアゾール、シクトヘキサノ［１，２−ｄ］トリアゾール、４，５，６，７−テトラヒドロキシトリウトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、ナフトトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］ベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（１−ブチル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（１−オクチル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−（２’，３’−ジ−ヒドロキシプロピル）ベンゾトリアゾール、１−（２’，３’−ジ−カルボキシエチル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール−６−カルボン酸、１−オレオイルベンゾトリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−オール、５−アミノ−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキシアミド、４−アミノウラゾール、１，２，４−トリアゾール−５−オン等が挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、シクロヘキサノ［１，２−ｄ］トリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−オール、５−アミノ−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキシアミド、４−アミノウラゾール、１，２，４−トリアゾール−５−オン等が特に好ましい。
【０１２３】
テトラゾール類としては、テトラゾール（１Ｈ−テトラゾール、２Ｈ−テトラゾール）の１，５位が、水素又は置換基としてＣ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有する化合物が好ましい。例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−（ジメチルアミノエチル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、５，５’−ビス−１Ｈ−テトラゾール２アンモニウム塩、５，５’−アゾビス−１Ｈ−テトラゾール等が挙げられる。なお、これら化合物のなかでも、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５，５’−アゾビス−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール等が特に好ましい。
【０１２４】
イミダゾール類としては、１Ｈ−イミダゾール又はこれらと１〜２個のベンゼン環の環縮合構造を骨格とする化合物類；イミダゾール環及び／又はベンゼン環に、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有する化合物が好ましい。例えば、１Ｈ−イミダゾール、１−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、５−メチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイイダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、２−アミノ−４，５−ジシアノイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトメチルベンズイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾール、１−ビニルイミダゾール、１−ベンジル−２−フォルミルイミダゾール、１−アリルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、２−ブチル−５−フォルミルイミダゾール、２−ブチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フォルミルイミダゾール、４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、テトラヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２−アミノ−３−（１Ｈ−イミダゾール−４−イル）プロパノイル、２−（３−アミノプロパンアミド）−３−（１Ｈ−イミダゾール−４−イル）プロパノイル、イミダゾール−４−エタンアミン等が挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、１Ｈ−イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールが特に好ましい。
【０１２５】
感光性樹脂組成物において、上述した各成分の好ましい含有量は以下の通りである。
【０１２６】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、４０〜７０質量部であることが好ましく、４５〜６７質量部であることがより好ましく、５０〜６５質量部であることがさらに好ましい。この含有量が４０質量部未満では光硬化物が脆くなる傾向にあり、７０質量部を超えると、解像度及び光感度が不十分となる傾向にある。
【０１２７】
（Ｂ）成分である分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、３０〜６０質量部であることが好ましく、３３〜５５質量部であることがより好ましく、３５〜５０質量部であることがさらに好ましい。この含有量が３０質量部未満では、解像度及び光感度が不十分となる傾向があり、６０質量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【０１２８】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．１５〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜５質量部であることが特に好ましい。この含有量が０．１質量部未満では光感度が不十分となる傾向があり、２０質量部を超えると、露光の際に感光性樹脂組成物の表面での光吸収が増大して内部の光硬化が不十分となる傾向がある。
【０１２９】
（Ｄ）成分である密着性付与剤の（ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０００５〜１質量部であることが好ましく、０．００１〜０．７質量部であることがより好ましく、０．０１〜０．５質量部であることがさらに好ましく、０．０５〜０．３質量部であることが特に好ましい。（ａ）成分の含有量がこの範囲であると、金属表面とレジストとの密着性及び剥離性をバランスよく向上できる。
【０１３０】
（Ｄ）成分である密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群から選択される１種または２種以上のヘテロ環化合物を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０００５〜１質量部であることが好ましく、０．００１〜０．７質量部であることがより好ましく、０．０１〜０．５質量部であることがさらに好ましく、０．０５〜０．３質量部であることが特に好ましい。（ｂ）成分の含有量がこの範囲であると、金属表面とレジストの密着性及び剥離性をよりバランスよく向上できる。
【０１３１】
また、本発明における感光性樹脂組成物には、上述した（ａ）成分及び（ｂ）成分の樹脂への溶解性を高める目的で、（ｃ）アミン類を更に配合することができる。（ｃ）アミン類としては、例えば、アンモニア、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ジエチレントリアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ヘキサヒドロアニリン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、アリルアミン、２−アミニプロパノール、３−アミノプロパノール、４−アミノブタノール、４−メチルアミノブタノール、エチルアミノエチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、オレイルアミン、ドデシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、オクチルアミン、オクタデシルアミン、ヘキシルアミン等が挙げることができる、これらの化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、これらの化合物の中でも、モノイソプロパノールアミン、ジシソプロパノールアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン等が特に好ましい。
【０１３２】
なお、（ｃ）アミン類を含む場合の含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分に使用される酸１当量に対して５当量以下が好ましく、０．５〜２当量であることがより好ましい。この含有量を超えると、金属表面とレジストの密着性の向上を阻害する傾向がある。
【０１３３】
また、感光性樹脂組成物には、必要に応じて、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、禁止剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を含有させてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。これらの添加剤は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して各々０．０００１〜２０質量部程度含有してもよい。
【０１３４】
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して、固形分３０〜６０質量％程度の溶液として調製することができる。
【０１３５】
本発明の感光性エレメント１における感光層２０は、上述の感光性樹脂組成物を支持フィルム１０上に塗布し、溶剤を除去することにより形成することができる。ここで、塗布方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート等の公知の方法を採用することができる。また、溶剤の除去は、例えば、７０〜１５０℃の温度で５〜３０分間程度処理することで行うことができる。なお、感光層２０中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。
【０１３６】
このようにして形成される感光層２０の厚さは、乾燥後の厚さで３〜３０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍであることがより好ましく、７〜２５μｍであることがさらに好ましく、１０〜２０μｍであることが特に好ましい。この厚さが３μｍ未満であると、回路形成用基板に感光層を積層する際に不具合が発生しやすくなる、又はテンティング性が劣り、現像及びエッチング工程中でレジストが破損し、オープン不良の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。一方、厚さが３０μｍを超えると、感光層２０の解像度が悪化する、又はエッチング液の液まわりが悪化するため、サイドエッチングの影響が大きくなり、高密度なプリント配線板の製造が困難になる傾向がある。
【０１３７】
また、感光性エレメント１は、感光層２０の支持フィルム１０に接する第１の主面１２とは反対側の主面上に保護フィルム（図示せず）を備えていてもよい。保護フィルムとしては、感光層２０と支持フィルム１０との間の接着力よりも、感光層２０と保護フィルムとの間の接着力が小さくなるようなフィルムを用いることが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムを用いることが好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の不活性なポリオレフィンフィルムが挙げられる。感光層２０からの剥離性の見地から、ポリエチレンフィルムが好ましい。保護フィルムの厚みは、用途により異なるが１〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【０１３８】
感光性エレメント１は、支持フィルム１０、感光層２０及び保護フィルムの他に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層又は保護層を更に備えていてもよい。
【０１３９】
本実施形態の感光性エレメント１は、例えば、そのままの状態で又は感光層２０上に保護フィルムを更に積層したものを、円筒状の巻芯に巻き取った状態で貯蔵されてもよい。この際、支持フィルム１０が再外層になるようにロール状に巻き取られることが好ましい。また、ロール状に巻き取った感光性エレメント１の端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の低いブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【０１４０】
巻芯の材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。
【０１４１】
（レジストパターンの形成方法）
本実施形態のレジストパターンの形成方法は、上記感光性エレメント１を、感光層２０、支持フィルム１０の順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルム１０を通して感光層２０の所定部分に照射して、感光層２０に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の感光層２０の部分を除去する現像工程と、を含む方法である。
【０１４２】
積層工程において、感光層２０を回路形成用基板上に積層する方法としては、感光層２０上に保護フィルムが存在している場合には、該保護フィルムを除去した後、感光層２０を７０〜１３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１ＭＰａ程度の圧力で圧着することにより積層する方法等が挙げられる。この積層工程において、減圧下で積層することも可能である。なお、回路形成用基板の積層される表面は通常金属面であるが、特に制限されない。また、積層性を更に向上させるために、回路形成用基板の予熱処理を行ってもよい。
【０１４３】
次に、上記積層工程で積層が完了した感光層２０に対して、ネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスクを支持フィルム１０の第２の主面１４に位置合わせをして密着させる。その後、露光工程では、感光層２０に対して、支持フィルム１０を通して活性光線が画像状に照射し、感光層２０に光硬化部を形成させることによって行われる。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線や可視光等を有効に放射するものが用いられる。また、レーザー直接描画露光法にも使用される。
【０１４４】
次いで、上記露光工程後、フォトマスクを支持フィルム１０から剥離する。更に、支持フィルム１０を感光層２０から剥離除去する。次に露光工程において、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で感光層２０の未露光部（光硬化部）を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。
【０１４５】
アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光層２０の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。また、現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
【０１４６】
また、現像工程後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化してもよい。
【０１４７】
（プリント配線板の製造方法）
本実施形態のプリント配線板の製造方法は、上記レジストパターンの形成方法によりレジストパターンの形成された回路形成用基板を、エッチング又はめっきすることによって行われる。ここで、回路形成用基板のエッチング又はめっきは、現像されたレジストパターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を公知の方法によりエッチング又はめっきすることによって行われる。
【０１４８】
エッチングに用いられるエッチング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液等を用いることができる。
【０１４９】
めっきとしては、例えば、銅めっき、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっき等が挙げられる。
【０１５０】
エッチング又はめっきを行った後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。また、剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられる。なお、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。
【０１５１】
また、めっきが絶縁層と絶縁層上に形成された導体層とを備えた回路形成用基板に対して行われた場合には、パターン以外の導体層を除去する必要がある。この除去方法としては、例えば、レジストパターンを剥離した後に軽くエッチングする方法や、上記めっきに続いてはんだめっき等を行い、その後レジストパターンを剥離することで配線部分をはんだでマスクし、次いで導体層のみをエッチング可能なエッチング液を用いて処理する方法等が挙げられる。
【０１５２】
（半導体パッケージ基板の製造方法）
本発明の感光性エレメント１は、リジット基板と、そのリジット基板上に形成された絶縁膜とを備えるパッケージ基板に用いることもできる。この場合、感光層の光硬化部を絶縁膜として用いればよい。感光層の光硬化部を、例えば半導体パッケージ用のソルダーレジストとして用いる場合は、上述のレジストパターンの形成方法における現像終了後、はんだ耐熱性、耐薬品性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプによる紫外線照射や加熱を行うことが好ましい。紫外線を照射させる場合は必要に応じてその照射量を調整することができ、例えば０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の照射量で照射を行うこともできる。また、レジストパターンを加熱する場合は、１００〜１７０℃程度の範囲で１５〜９０分程行われることが好ましい。さらに紫外線照射と加熱とを同時に行うこともでき、いずれか一方を実施した後、他方を実施することもできる。紫外線の照射と加熱とを同時に行う場合、はんだ耐熱性、耐薬品性等を効果的に付与する観点から、６０〜１５０℃に加熱することがより好ましい。
【０１５３】
このソルダーレジストは、基板にはんだ付けを施した後の配線の保護膜を兼ね、引張強度や伸び率等の物理特性及び耐熱衝撃性に優れているので、半導体パッケージ用の永久マスクとして有効である。
【０１５４】
このようにしてレジストパターンを備えたパッケージ基板は、その後、半導体素子などの実装（例えば、ワイヤーボンディング、はんだ接続）がなされ、そして、パソコン等の電子機器へ装着される。
【０１５５】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【実施例】
【０１５６】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５７】
［実施例１〜１８及び比較例１〜５］
（感光性樹脂組成物の溶液の作製）
下記表１に示す各成分を配合して、感光性樹脂組成物の基本溶液を調製した。
【０１５８】
【表１】
【０１５９】
上記基本溶液に、（Ｄ）成分である密着性付与剤を下記表２〜５に示すように必要に応じ添加し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【０１６０】
（感光性エレメントの作製）
感光性エレメントの支持フィルムとして、表２〜５に示すポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）フィルムを用意した。各ＰＥＴフィルムのヘーズ及び５μｍ以上の粒子等の個数を測定した結果を表２〜５に示す。
【０１６１】
上記粒子等の個数は、１ｍｍ２単位に存在する５μｍ以上の粒子等の数を偏光顕微鏡を用いて測定した値である。その際のｎ数は５とした。また、ヘーズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した値である。これらの支持フィルムの厚みは、いずれも１６μｍであった。
【０１６２】
次に、それぞれのＰＥＴフィルム上に上記の感光性樹脂組成物の溶液を厚さが均一になるようにして塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で２分間乾燥して溶媒を除去して感光層を形成した。乾燥後、ポリエチレン製保護フィルム（タマポリ社製、商品名「ＮＦ−１５」、厚さ２０μｍ）で感光層を被覆して感光性エレメントを得た。なお、乾燥後の感光層の厚さは、いずれも１５μｍであった。
【０１６３】
また、表２〜５中、ＨＴＲ−０２＊１は、微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン（株）製、商品名）であり、ＱＳ−４８＊２は、微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名）であり、１−［Ｎ，Ｎ−ビス−（２−エチルヘキシル）］アミノメチルベンゾトリアゾール−５−カルボン酸＊３は、千代田化学（株）製のものである。
【０１６４】
（積層体の作製）
銅箔（厚さ：３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である銅張積層板（日立化成工業社製、商品名「ＭＬＣ−Ｅ−６７９」）を、表面粗化処理液「メックエッチボンドＣＺ−８１００」（メック社製、商品名）を用いて表面処理し、水洗、酸洗及び水洗後、空気流で乾燥した。得られた銅張積層板を８０℃に加温し、保護フィルムを剥離しながら、感光層が銅表面に接するように感光性エレメントをラミネートした。こうして、銅張積層板、感光層、支持フィルムの順に積層された積層体を得た。ラミネートは、１２０℃のヒートロールを用いて、０．４ＭＰａの圧着圧力、１．５ｍ／分のロール速度で行なった。これらの積層体は、以下に示す試験における試験片として用いた。
【０１６５】
（光感度測定試験）
試験片の支持フィルム上に、ネガとしてストーファー２１段ステップタブレットを載置し、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の照射エネルギー量となるように感光層を露光した。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間（未露光部分が除去される最少時間）の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。そして、銅張積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の光感度を評価した。結果を表２〜５に示す。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高いことを示す。
【０１６６】
（サイドウォールピット発生数測定試験）
レジストの側面に発生するサイドウォールピットの発生数を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。
【０１６７】
その後、レジストラインの側面に発生しているサイドウォールピットの発生数を走査型電子顕微鏡（日立製作所社製、商品名「Ｓ−２１００Ａ」）により数えた。サンプル台の傾きを４５度、倍率を１０００倍に設定したときの１５０μｍ×７０μｍの観察範囲を１視野と定義し、１枚の基板をランダムに２００視野観察した。サイドウォールピットの発生数は、２００視野中に観測されたサイドウォールピットの総数とした。なお、レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍを超える場合は、約１μｍサイズであるサイドウォールピットの発生数を数えるのは困難なため、「観測不可」とした。その結果を表２〜５に示す。また、レジストパターンの側面に観測されるサイドウォールピットを示す電子顕微鏡写真（倍率１０００倍）を図２に示す。図２は上記観察範囲の１視野に相当するものであり、丸で囲った部分がサイドウォールピットの発生箇所である。
【０１６８】
（密着性測定試験）
密着性を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／１０００〜３０／１０００（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、密着性は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができたライン幅の最も小さい値（単位：μｍ）により評価した。なお、密着性の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表２〜５に示す。
【０１６９】
（解像度測定試験）
解像度を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／２〜３０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、解像度は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができたライン幅間のスペース幅の最も小さい値（単位：μｍ）により評価した。なお、解像度の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表２〜５に示す。
【０１７０】
（レジストパターンの側面ギザ性試験）
レジストパターンの側面ギザ性を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。その後、得られたレジストパターンの形状を走査型電子顕微鏡（日立製作所社製、商品名「Ｓ−２１００Ａ」）により観察し、レジストパターンの側面ギザ性を下記基準により評価した。レジストパターンの側面ギザとは、レジストパターンの形状がストレートではなく、ギザつき（凹凸）があって好ましくない状態をいい、レジストパターンの側面ギザの凹凸は浅い方が好ましい。結果を表２〜５に示す。
浅い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍ以下の場合、
深い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍを超える場合。
【０１７１】
【表２】
【０１７２】
【表３】
【０１７３】
【表４】
【０１７４】
【表５】
【０１７５】
表２〜５に示した結果から明らかなように、本発明の一実施形態である実施例１〜１８は、サイドウォールピットの発生数が少なく、密着性及び解像度が共に１０μｍ以下を達成している。また、レジストパターンの側面ギザ性も良好である。これに対し、比較例１〜５は、上記特性のうちいずれかが劣る結果となった。
【図面の簡単な説明】
【０１７６】
【図１】本発明の感光性エレメントの好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図２】レジストパターンの側面に観測されるサイドウォールピットを示す電子顕微鏡写真（倍率１０００倍）である。
【符号の説明】
【０１７７】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、１２…第１の主面、１４…第２の主面、２０…感光層。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板の製造分野及び金属の精密加工分野において、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料としては、感光性樹脂組成物からなる層（以下、「感光層」という）、支持フィルム及び保護フィルムで構成される感光性エレメントが広く用いられている。
【０００３】
プリント配線板は、例えば下記のようにして製造される。まず、感光性エレメントの保護フィルムを感光層から剥離した後、回路形成用基板の導電膜上に感光層をラミネートする。次いで、感光層にパターン露光を施した後、未露光部分を現像液で除去し、レジストパターンを形成する。そして、このレジストパターンに基づいて、導電膜をパターンニングすることによって、プリント配線板が形成される。
【０００４】
この未露光部分の除去に用いられる現像液としては、炭酸水素ナトリウム溶液等のアルカリ現像液が主に用いられている。現像液は、通常、ある程度感光層を溶解する能力があればよく、現像時には感光層が現像液に溶解又は現像液中に分散される。
【０００５】
近年、プリント配線板の高密度化に伴い、回路形成用基板とレジスト材料である感光層との接触面積が小さくなっている。そのため、感光層には、エッチング又はめっき工程において優れた機械強度、耐薬品性、柔軟性が要求されると共に、回路形成用基板との優れた密着性やパターン形成における優れた解像度が要求されている。最近では、特にパッケージ基板用途としてライン幅及びスペース幅が共に１０μｍ以下のレジストパターンを形成し得る材料が望まれている。また、レジストパターンの高解像度化に伴い、レジストの側面ギザやマウスバイト等のレジスト形状が問題となっている。
【０００６】
通常、感光性エレメントを用いてレジストを形成する際には、感光層を基板上にラミネートした後、支持フィルムを剥離することなく露光を行う。このような露光処理に対応するためには、支持フィルムに光透過性の材料を採用すればよい。その一方で、パターン形成における高い解像度を得るためには、支持フィルムをなるべく薄くする必要がある。しかしながら、支持フィルム上に感光性樹脂組成物を均一な厚さで歩留り良く塗布するためには、支持フィルムにある程度の厚さ（一般に１０μｍ〜３０μｍ）が要求される。また、支持フィルムの生産性を向上させるために、すなわち支持フィルムの巻き取り性等を向上させる目的で、一般的に支持フィルムには、無機又は有機微粒子を含有させている。そのため、従来の支持フィルムは、ヘーズ値が増大し、支持フィルムが含有する微粒子により、露光時に光散乱が起こり、感光性フィルムの高解像度化の要求に応えられない傾向にある。
【０００７】
高解像度化を達成する方法としては、露光前に、感光性エレメントに備えられた支持フィルムを剥離し、支持フィルムを介さずに露光する方法がある。しかしながら、感光層は通常、ある程度の粘着性を有しているため、フォトツールを感光層に直接密着させて露光を行う場合、密着させたフォトツールの除去が困難となる。また、感光層によりフォトツールが汚染されたり、支持フィルムを剥離することにより感光層が大気中の酸素に曝されたりして、光感度が低下しやすくなる。
【０００８】
上述の点を改善するために、種々の手段が提案されている。例えば、特許文献１及び２には、二層以上の感光層を形成し、そのうちのフォトツールと直接密着する層を非粘着性とする方法が開示されている。また、特許文献３〜８では、支持フィルムと感光層との間に中間層を設ける方法が提案されている。また、特許文献９又は１０では、支持フィルムの片側の最表面に平均粒径０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させることでヘーズ値を低くし、支持フィルムを介して露光しても高解像度化できる方法が提案されている。
【０００９】
一方、近年の高密度化するプリント配線板の製造方法における有用な工法としては、セミアディティブ工法がある。本工法でレジストに要求される特性としては、密着性、解像度、現像後のレジスト形状、柔軟性及びめっき後のはく離性が挙げられる。このセミアディティブ工法は高濃度の薬品溶液中で長時間電流を流す工程を有するため、細線部におけるレジストの密着性が低下し、めっきもぐりが発生するという問題があった。
【００１０】
そこで、密着性を向上させる手段として、感光層に密着性付与剤を添加する方法が提案されている。例えば、特許文献１１には、密着性付与剤として含窒素複素環式化合物を用いる手法が開示されている。また、特許文献１２には１，２，３−ベンゾトリアゾール等の−ＮＨ−含有の複素環化合物を用いる手法が、特許文献１３にはインダゾール又はその誘導体を用いる手法が、特許文献１４にはフタラゾン又はその誘導体を用いる手法がそれぞれ開示されている。また、特許文献１５にはカルボキシベンゾトリアゾールを用いる手法が、特許文献１６にはカルボキシベンゾトリアゾールと２級アルキルアミンとアルデヒド類から合成される化合物を用いる手法がそれぞれ開示されている。
【００１１】
【特許文献１】特開平０１−２２１７３５号公報
【特許文献２】特開平０２−２３０１４９号公報
【特許文献３】特開昭４７−０４６１０２号公報
【特許文献４】特表昭５５−５０１０７２号公報
【特許文献５】特開昭４７−０００４６９号公報
【特許文献６】特開昭５９−０９７１３８号公報
【特許文献７】特開昭５９−２１６１４１号公報
【特許文献８】特開昭６３−１９７９４２号公報
【特許文献９】特開平０７−３３３８５３号公報
【特許文献１０】国際公開第００／０７９３４４号パンフレット
【特許文献１１】特開平１０−１２３７１４号公報
【特許文献１２】特公昭５０−９１７７号公報
【特許文献１３】特開昭５５−６５２０３号公報
【特許文献１４】特開昭５５−６５２０２号公報
【特許文献１５】米国特許４，６８０，２４９号
【特許文献１６】特開平０２−３３１４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、上記特許文献１〜８に記載の手段では、中間層を設けたり、複数の感光層を設けたりするための余計な塗布工程が必要となり、その製造工程の数が増加する問題がある。また、特許文献１又は２に記載の手段では、基板に設置した際に感光層は大気中の酸素に曝されるため、その光感度を高く維持することが困難である。さらに、特許文献３〜８に記載の手段では、中間層が薄いために、感光性エレメントの取扱いが容易ではない。
【００１３】
さらに、本発明者らが検討した結果、特許文献９又は１０に記載の手段においては、解像度や側面ギザ等のレジスト形状は改善されるものの、感光層の膜厚を薄膜化するに従い、また感光性樹脂組成物の解像度等の特性が向上するに従い、現像後のレジストの側面に１μｍ程度の穴（以下、「サイドウォールピット」という）が生じることが判明した。特にセミアディティブ工法の場合、現像後のレジスト形状がそのままめっきライン形状に転写されるため、サイドウォールピットはめっきラインの側面に突起物を発生させる原因となり、プリント配線板の製造歩留りを低下させる問題がある。
【００１４】
一方で、本発明者らが検討した結果、特許文献１１に記載の手段によるとレジストの密着性は向上するものの、密着性付与剤を添加することでサイドウォールピットが通常よりも多数発生することが判明した。
【００１５】
さらに、特許文献１２〜１４に記載の手段では、密着性付与剤の増加に伴い、フォトレジストの感度低下、解像度の悪化、現像・はく離後の銅面の色やけ、はく離後のエッチング速度の遅延化、めっき不良等の新たな問題が発生するため、実際には添加量に制限があり、従来の添加量では、ライン幅の狭いレジストパターンの部分で充分な密着性が得られないという問題がある。
【００１６】
また、特許文献１５に記載の手段では、化合物の溶解性が低く分散性が悪いため、要求される諸特性を充分に満たすことができないという問題がある。
【００１７】
さらに、特許文献１６に記載の手段では、回路配線板の金属表面への密着性が充分でなく、高濃度の薬品溶液中で長時間電流を流すめっき処理を行うとレジストが剥がれ、めっきもぐり等の問題が発生する。
【００１８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、優れた密着性及び解像度を有し、且つ、サイドウォールピットの発生を最小限に抑え、側面ギザのないレジストパターンが形成可能な感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記目的を達成するために、本発明は、支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントであって、上記支持フィルムのヘーズが０．０１〜１．５％であり、上記感光層が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、上記（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメントを提供する。
【００２０】
本発明者らは、（Ｄ）密着性付与剤として上記（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を感光層に含有させることにより、高解像のレジストパターンで問題となるサイドウォールピットの発生が低減されることを発見した。また、支持フィルムのヘーズを０．０１〜１．５％と十分に低減したことに加え、感光層が（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、且つ（Ｄ）密着性付与剤として上記（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有することで、レジストの側面ギザを改善するだけでなく、密着性及び解像度を共に高水準で達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２１】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光層は、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有することが好ましい。これにより、より高い密着性を有するレジストパターンが形成可能となる。
【００２２】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光性樹脂組成物からなる上記感光層の膜厚は、３〜３０μｍであることが好ましい。膜厚をこの範囲にすることで、現像後により高解像なレジストパターンが形成可能となる。
【００２３】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記感光層は、上記（Ｂ）光重合性化合物として下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。これにより、感光層の光感度及びレジストパターンの解像度がより優れたものとなる。
【００２４】
【化１】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【００２５】
また、本発明の感光性エレメントにおいて、上記（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーの重量平均分子量は、３０，０００〜１５０，０００であることが好ましい。これにより、感光層の薄膜化が容易となり、より高解像なレジストパターンが形成可能となる。
【００２６】
本発明はまた、上記本発明の感光性エレメントを、上記感光層、上記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルムを通して上記感光層の所定部分に照射して、上記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の上記感光層を除去する現像工程と、を含む、レジストパターンの形成方法を提供する。
【００２７】
本発明はさらに、上記本発明のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、優れた密着性及び解像度を有し、且つ、サイドウォールピットの発生を最小限に抑え、側面ギザのないレジストパターンが形成可能な感光性エレメントを提供することができる。すなわち、かかる感光性エレメントによれば、その後のめっき処理等の工程においてめっきもぐり等が発生せず、高精細で且つ表面に突起物等を有さない良好なめっきライン形状を得ることができ、プリント配線板の製造歩留を向上することが可能となる。また、本発明は、上記本発明の感光性エレメントを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及びそれに対応する「メタクリレート」を意味する。同様に「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及びそれに対応する「メタクリル」を意味し、「（メタ）アクリロイル」とは「アクリロイル」及びそれに対応する「メタクリロイル」を意味する。
【００３０】
図１は、本発明の感光性エレメントの好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した感光性エレメント１は、支持フィルム１０と、感光層２０とで構成される。感光層２０は支持フィルム１０の第１の主面１２上に設けられている。また、支持フィルム１０は、第１の主面１２とは反対側に第２の主面１４を有している。
【００３１】
（支持フィルム）
本発明の支持フィルム１０のヘーズは、０．０１〜１．５％であり、０．０１〜１．３％であることがより好ましく、０．０１〜１．０％であることがさらに好ましく、０．０１〜０．８％であることが特に好ましく、０．０１〜０．６％であることが極めて好ましい。このヘーズが０．０１％未満では製造容易性が劣る傾向があり、１．５％を超えると感度及び解像度が悪化し、レジストの側面ギザが発生する傾向がある。なお、本発明におけるヘーズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定したものである。ここで、「ヘーズ」とは曇り度を意味し、ＪＩＳ Ｋ７１０５に規定される方法に準拠して市販の曇り度計（濁度計）を用いて測定された値をいう。例えば、ＮＤＨ−１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製、商品名）等の市販の濁度計などでヘーズの測定が可能である。
【００３２】
支持フィルム１０としては、感光層２０を支持することができれば特に制限されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエステル等の樹脂材料を含むフィルムが挙げられ、これらの樹脂材料を２種以上含むフィルムを用いることもできる。樹脂材料としては、中でもポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００３３】
支持フィルム１０の厚みは特に制限されないが、５〜４０μｍであることが好ましく、８〜３５μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることがさらに好ましく、１２〜２５μｍであることが特に好ましい。厚さが５μｍ未満であると、感光性エレメント１から支持フィルム１０を剥離する際に、支持フィルム１０が破れやすくなる傾向がある。また、厚さが４０μｍを超えると、解像度が低下する傾向があると共に、廉価性に劣る傾向がある。
【００３４】
また、支持フィルム１０は、その製造方法については特に制限はなく、単層であっても多層であってもよい。例えば、２層からなる２層支持フィルムを用いる場合、二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、微粒子を含有する樹脂層を積層してなる２層フィルムを支持フィルムとして使用し、上記微粒子を含有する樹脂層を形成した面とは反対側の面に感光層を形成することが好ましい。また、支持フィルムとして、３層からなる多層支持フィルム（例えば、Ａ層／Ｂ層／Ａ層）を用いることもできる。多層支持フィルムの構成は特に制限されないが、最外層（上記３層からなるものの場合はＡ層）はいずれも微粒子を含有する樹脂層であることが、フィルムの滑り性等の見地から好ましい。
【００３５】
なお、従来の２層支持フィルムは、微粒子を有する樹脂層を二軸配向ポリエステルフィルムに塗布して製造しているため、感光性エレメントのラミネート時に微粒子を含有する樹脂層が剥がれやすく、剥がれた樹脂層が感光層に付着して不良の原因になる可能性がある。そのため、本発明においては、微粒子を有する樹脂層と二軸配向ポリエステルフィルム射出成形された３層からなる多層支持フィルムを用いることが好ましい。
【００３６】
上記微粒子の平均粒子径は、微粒子を含有する樹脂層の層厚の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．２〜５倍であることがより好ましい。平均粒子径が０．１倍未満では滑り性が劣る傾向があり、１０倍を超えると感光層に特に凹凸が生じ易い傾向がある。
【００３７】
上記微粒子は、微粒子を含有する樹脂層中に０．５〜５０質量％含有されていることが好ましい。そして、上記微粒子としては、例えば、各種核剤により重合時に生成した微粒子、凝集体、二酸化珪素微粒子（凝集シリカ等）、炭酸カルシウム微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、硫酸バリウム微粒子等の無機微粒子、架橋ポリスチレン微粒子、アクリル微粒子、イミド微粒子等の有機微粒子、これらの混合体等を用いることができる。
【００３８】
３層以上の多層支持フィルムの微粒子を含有する最外層で挟まれた１以上の中間層は、上記微粒子を含有するものであっても含有しないものであってもよいが、支持フィルムのヘーズ値を本発明の範囲内に調整するためには、上記微粒子を含有していないことが好ましい。中間層が上記微粒子を含有する場合は、中間層における含有量は最外層の含有量の１／３以下であることが好ましく、１／５以下であることがより好ましい。
【００３９】
解像度の見地からは、上記微粒子を含有する樹脂層の層厚は０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜３μｍであることがより好ましく、０．１〜２μｍであることがさらに好ましい。そして、最外層の中間層に対向しない面は、１．２以下の静摩擦係数を有することが好ましい。静摩擦係数が１．２を超えると、フィルム製造時及び感光性エレメント製造時にしわが入りやすく、また、静電気を生じ易くなるためごみが付着しやすくなる傾向がある。本発明において、静摩擦係数は、ＡＳＴＭＤ１８９４に準じて測定することができる。
【００４０】
、本発明の支持フィルム１０は、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子及び凝集物（以下、単に「粒子等」という）が５個／ｍｍ２以下のものであることが好ましく、３個／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１個／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。この粒子等の数が５個／ｍｍ２を超えると、露光及び現像後のレジストパターンの一部欠損（レジスト欠け）が生じ易くなる。そして、このような感光性エレメントをプリント配線板に使用すると、エッチング時のオープン不良発生や、めっき時のショート不良発生の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。
【００４１】
本発明者らは、上記特許文献９及び１０には、平均粒径が０．０１〜５μｍ程度の無機又は有機微粒子を含有させた二層支持フィルムが明記されているものの、実際には、支持フィルム中に含まれる直径５μｍ以上２０μｍ未満の粒子が多数（本発明者らの調査によれば、２０個／ｍｍ２以上）存在することを突き止めた。そして、高密度化が要求されているプリント配線板分野においてそのような支持フィルムを用いた場合には、露光時に照射した活性光線の光散乱が起こり、活性光線が感光層まで到達し難くなるため、現像後にレジストパターンの一部欠損（レジスト欠け）が製造歩留り低下に影響を及ぼす可能性がある。
【００４２】
ここで、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等とは、支持フィルムを構成する成分（例えば、ポリマーのゲル状物、原料であるモノマー、製造時に使用される触媒、必要に応じて含まれる無機又は有機微粒子）がフィルム作製時に凝集し形成される凝集物、滑剤含有層をフィルム上に塗布した際に発生する滑剤と接着剤による膨らみ、フィルム中に含有する直径５μｍ以上の無機又は有機微粒子等に起因して生じたものである。直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下にするには、これらの粒子等のうち、粒径の小さなもの又は分散性に優れたものを選択的に用いればよい。なお、上記直径５μｍ以上の粒子等の数は、偏光顕微鏡を用いて測定することができる。
【００４３】
なお、支持フィルム１０中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下とするために、上述した樹脂層が含有する微粒子の粒径は５μｍ未満であることが好ましい。そして、露光時の光散乱をより一層低減するために、微粒子の粒径に合わせて微粒子を含有する樹脂層の層厚を適宜調整することが好ましい。
【００４４】
支持フィルム１０は、市販の一般工業用フィルムの中から、感光性エレメント１の支持フィルムとして使用可能なものを入手し、適宜加工して用いてもよい。支持フィルム１０として使用可能な市販の一般工業用フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムである「ＱＳ−４８」（東レ（株）製、商品名）、「ＨＴＦ−０１」（帝人デュポンフィルム（株）製、商品名）、「Ａ−１５１７」、「Ａ２１００−１６」（以上、東洋紡績（株）製、商品名）及び「Ｒ−３４０Ｇ」（三菱化学ポリエステルフィルム（株）製、商品名）が挙げられる。中でも、支持フィルム中に含まれる直径５μｍ以上の粒子等を５個／ｍｍ２以下とする観点からは、「ＱＳ−４８」（東レ（株）製、商品名）が好ましい。
【００４５】
なお、支持フィルム１０は、その感光特性を損なわない範囲で、必要に応じて、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
【００４６】
（感光層）
感光層２０は感光性樹脂組成物からなる層である。感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマー（以下、場合により「（Ａ）成分」という）、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物（以下、場合により「（Ｂ）成分」という）、（Ｃ）光重合開始剤（以下、場合により「（Ｃ）成分」という）、及び、（Ｄ）密着性付与剤（以下、場合により「（Ｄ）成分」という）を含有し、且つ、（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物（以下、場合により「（ａ）成分」という）を含有する。
【００４７】
また、感光層２０を構成する感光性樹脂組成物は、上記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物（以下、場合により「（ｂ）成分」という）をさらに含有することが好ましい。以下、上記各成分について詳細に説明する。
【００４８】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーとしては、アルカリ現像性の見地から、分子内にカルボキシル基を含有するものであれば特に制限されず、従来の感光性樹脂組成物に用いられているものを使用することができる。かかる（Ａ）バインダーポリマーは、例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体と、他の重合性単量体とを、ラジカル重合させて製造することができる。上記のカルボキシル基を有する重合性単量体としては、メタクリル酸が好ましい。
【００４９】
また、（Ａ）バインダーポリマーは、密着性及び耐薬品性（耐めっき性）の見地からスチレン又はスチレン誘導体をモノマー単位として有することが好ましい。スチレン又はスチレン誘導体を共重合成分として、密着性及び剥離特性を共に良好にするには、（Ａ）バインダーポリマーがこれらを３〜３０質量％含むことが好ましく、４〜２８質量％含むことがより好ましく、５〜２７質量％含むことが特に好ましい。この含有量が３質量％未満では密着性が低下する傾向があり、３０質量％を超えると剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向がある。
【００５０】
また、上記（Ａ）バインダーポリマーは、スチレン及び／又はスチレン誘導体と、（メタ）アクリル酸と、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、の共重合体であることが好ましい。
【００５１】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、エステル部位のアルキル基が炭素数１〜１２のアルキル基であるものが挙げられる。かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、並びに、これらの構造異性体が挙げられる。さらには、上記アルキル基が、水酸基、エポキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。
【００５２】
（Ａ）バインダーポリマーの重量平均分子量は、３０，０００〜１５０，０００であることが好ましく、３５，０００〜１００，０００であることがより好ましく、４０，０００〜８０，０００であることが更に好ましい。この重量平均分子量が３０，０００未満では、感光層が脆くなる傾向があり、１５０，０００を超えると糸状現象残りが発生し、解像度が低下する傾向がある。なお、上記重量平均分子量はゲルパーミェションクロマトグラフィーにより測定し、標準ポリスチレン換算した値を使用したものである。
【００５３】
（Ａ）バインダーポリマーの酸価は、３０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、１００〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、１３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。この酸価が３０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では現像時間が長くなる傾向があり、３００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると光硬化したレジストのアルカリ現像液に対する酸性が低下する傾向がある。
【００５４】
これらのバインダーポリマーは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。２種以上を組み合わせて使用する場合のバインダーポリマーの組合せとしては、例えば、異なる共重合成分からなる２種類以上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種類以上のバインダーポリマー、異なる分散度を有する２種類以上のバインダーポリマーが挙げられる。また、特開平１１−３２７１３７号公報記載のマルチモード分子量分布を有するポリマーを使用することもできる。
【００５５】
なお、現像工程として有機溶剤での現像を行う場合は、カルボキシル基を有する重合性単量体を少量に調製することが好ましい。また、必要に応じてバインダーポリマーは感光性基を有していてもよい。
【００５６】
（Ｂ）成分である分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物等のウレタンモノマー、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５７】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エチレン基の数が２〜１４であり、プロピレン基の数が２〜１４であるポリエチレンポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレー、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、１，４−テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−キサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロ−キサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５８】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位に水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、及び１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−１１」等が挙げられる。また、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）製、製品名「ＵＡ−１３」等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００５９】
本発明における（Ｂ）成分は、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物を含むことが好ましい。（Ｂ）成分としてこのような化合物を含有することによって、（Ａ）バインダーポリマーとの相溶性を向上することができる。
【００６０】
上記炭素数２〜６のオキシアルキレン単位としては、オキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、オキシイソプロピレン単位、オキシブチレン単位、オキシペンチレン単位及びオキシへキシレン単位が挙げられる。これらの中で、上記オキシアルキレン単位としては、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、オキシエチレン単位又はオキシイソプロピレン単位が好ましい。
【００６１】
また、本発明の（Ｂ）成分は、炭素数２〜６のオキシアルキレン単位（アルキレングリコールユニット）を分子内に４〜４０有する化合物のうち、解像度及び感度を良好にする観点から、下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有することが好ましい。
【００６２】
【化２】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【００６３】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。上記一般式（Ｉ）中、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。なお、式中、複数存在するＸは同一であっても異なっていてもよい。上記一般式（Ｉ）中、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。ｐ＋ｑの値は６〜３４であることが好ましく、８〜３０であることがより好ましく、８〜２８であることがさらに好ましく、８〜２０であることが特に好ましく、８〜１６であることが極めて好ましく、８〜１２であることが最も好ましい。ｐ＋ｑの値がこのような範囲であると、感光性エレメントの解像度がより向上する。ｐ＋ｑの値が４未満では、（Ａ）成分であるバインダーポリマーとの相溶性が低下し、回路形成用基板に感光性エレメントをラミネートした際に剥がれやすい傾向がある。また、ｐ＋ｑの値が４０を超えると、親水性が増加し、現像時にレジスト像が剥がれやすく、耐めっき性が低下する傾向がある。
【００６４】
炭素数２〜６のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基及びへキシレン基が挙げられる。これらの中では、解像度及び耐めっき性を向上させる観点から、エチレン基又はイソプロピレン基が好ましい。
【００６５】
また、上記一般式（Ｉ）中の芳香環は置換基を有していてもよい。それら置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１８のアリール基、フェナシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、カルボニル基、メルカプト基、炭素数１〜１０のアルキルメルカプト基、アリル基、水酸基、炭素数１〜２０のヒドロキシアルキル基、カルボキシル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が１〜１０のアシル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１０のアルキルカルボニル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数２〜１０のＮ−アルキルカルバモイル基又は複素環を含む基、あるいは、これらの置換基で置換されたアリール基が挙げられる。上記置換基は、縮合環を形成していてもよく、また、これらの置換基中の水素原子がハロゲン原子等の上記置換基などに置換されていてもよい。なお、置換基の数がそれぞれ２以上の場合、２以上の置換基は各々同一でも異なっていてもよい。
【００６６】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては具体的には、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００６７】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシオクタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシウンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシドデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサデカエトキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらのうち、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンがより好ましく、ＢＰＥ−５００（製品名、新中村化学工業（株）製）として商業的に入手可能である。また、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（商品名、新中村化学工業（株）製）として商業的に入手可能である。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６８】
２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシテトラエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン及び２，２−ビス（４−（（メタ）アクリロキシヘキサエトキシヘキサプロポキシ）フェニル）プロパンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００６９】
なお、本発明の（Ｂ）成分の総量に対する上記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有割合は、５０〜１００質量％であることが好ましく、６０〜９０質量％であることがより好ましく、６５〜８５質量％であることがさらに好ましく、７０〜８０質量％であることが特に好ましい。上記一般式（Ｉ）で表される化合物をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメントはより高い解像度及び感度を有するものとなる。
【００７０】
また、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートも好ましく使用できる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００７１】
【化３】
【００７２】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、メチル基であることが好ましい。上記一般式（ＩＩ）中、Ｘ及びＹは各々独立に炭素数２〜６のアルキレン基を示し、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましい。上記一般式（ＩＩ）中、ｓ、ｔ及びｕはｓ＋ｔ＋ｕ＝４〜４０となるように選ばれる０〜３０の整数を示す。ｓ＋ｔ＋ｕの値は５〜３０であることが好ましく、８〜２３であることがより好ましく、１０〜１５であることが特に好ましい。このｓ＋ｔ＋ｕの値が４未満では、当該化合物の沸点が低下し、感光層２０の臭気が強くなる傾向がある。また、ｓ＋ｔ＋ｕが４０を超えると、単位質量当たりの光反応性部位の濃度が低くなるため、感度が低下する傾向がある。
【００７３】
また、一般式（ＩＩ）中のオキシアルキレン単位（−（Ｘ−Ｏ）ｓ−、−（Ｙ−Ｏ）ｔ−、及び、−（Ｘ−Ｏ）ｕ−）が、例えば、オキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位を含む場合、それらが複数存在する際に、複数のオキシエチレン単位及びオキシプロピレン単位は各々連続してブロック的に存在してもよいし、ランダムに存在してもよい。
【００７４】
更に、オキシアルキレン単位がオキシイソプロピレン単位である場合、プロピレン基の２級炭素が酸素原子に結合していてもよく、１級炭素が酸素原子に結合していてもよい。
【００７５】
これら上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の好ましい例としては、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物及び下記一般式（Ｖ）で表される化合物が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。
【００７６】
【化４】
【００７７】
上記一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ１、ｍ２及びｎ１はｍ１＋ｍ２＋ｎ１＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００７８】
【化５】
【００７９】
上記一般式（ＩＶ）中、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ３、ｎ２及びｎ３はｍ３＋ｎ２＋ｎ３＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００８０】
【化６】
【００８１】
上記一般式（Ｖ）中、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を示し、ＥＯはオキシエチレン単位を示し、ＰＯはオキシプロピレン単位を示し、ｍ４及びｎ４はｍ４＋ｎ４＝４〜４０となるように選ばれる１〜３０の整数を示す。
【００８２】
一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）における炭素数１〜３のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
【００８３】
また、上記一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）におけるオキシエチレン単位の繰り返し数の総数（ｍ１＋ｍ２、ｍ３及びｍ４）は各々独立に１〜３０の整数であることが好ましく、１〜１０の整数であることがより好ましく、４〜９の整数であることがさらに好ましく、５〜８の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えるとテント信頼性及びレジスト形状が悪化する傾向がある。
【００８４】
上記一般式（ＩＩＩ）、一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）におけるオキシプロピレン単位の繰り返し数の総数（ｎ１、ｎ２＋ｎ３及びｎ４）は各々独立に１〜３０の整数であることが好ましく、５〜２０の整数であることがより好ましく、８〜１６の整数であることがさらに好ましく、１０〜１４の整数であることが特に好ましい。この繰り返し数が３０を超えると解像度が低下し、現像時にスラッジが発生する傾向がある。
【００８５】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ５及びＲ６がメチル基、ｍ１＋ｍ２＝４（平均値）、ｎ１＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業（株）製、商品名：ＦＡ−０２３Ｍ）等が挙げられる。
【００８６】
上記一般式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ７及びＲ８がメチル基、ｍ３＝６（平均値）、ｎ２＋ｎ３＝１２（平均値）であるビニル化合物（日立化成工業（株）製、商品名：ＦＡ−０２４Ｍ）等が挙げられる。
【００８７】
上記一般式（Ｖ）で表される化合物の具体例としては、例えば、Ｒ９及びＲ１０が水素原子、ｍ４＝１（平均値）、ｎ４＝９（平均値）であるビニル化合物（新中村化学工業（株）製、サンプル名：ＮＫエステルＨＥＭＡ−９Ｐ）等が挙げられる。
【００８８】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００８９】
（Ｂ）成分には、現像液特性及び剥離性等を向上する見地から、更に、エチレン性不飽和結合を一つ有する光重合性化合物を含有させることが好ましい。中でも、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を含有させることがより好ましい。
【００９０】
【化７】
【００９１】
上記一般式（ＶＩ）中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基であり、水素原子であることが好ましい。上記一般式（ＶＩ）中、Ｘは上述した一般式（Ｉ）中のＸと同意義であり、エチレン基であることが好ましい。上記一般式（ＶＩ）中、ｒは４〜２０の正の整数であり、現像液特性の見地から、５〜１８であることが好ましく、６〜１２であることがより好ましく、６〜１０であることがさらに好ましい。
【００９２】
また、上記一般式（ＶＩ）中の芳香環は置換基を有していてもよく、それら置換基としては、上述した一般式（Ｉ）中の芳香環と同様の置換基が挙げられる。
【００９３】
上記一般式（ＶＩ）で表される化合物としては具体的には、例えば、ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９４】
上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ノニルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシドデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９５】
上記ブチルフェノキシポリエチレンオキシ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ブチルフェノキシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘキサエチレンオクシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシヘプタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシオクタエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシノナエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ブチルフェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９６】
なお、これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００９７】
（Ｃ）光重合開始剤は、必須成分として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含む。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−ブロモフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｍ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｐ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量休、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量休、２，２’−ビス（ｍ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｍ，ｐ−ジプロモフェニル）−４，４’，５，５−テトラフェニルイミダゾール二量体、２，２’−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４−５−ジフェニルイミダゾール二畳体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロナフチル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−クロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−タロロ−ｐ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジプロモフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ−プロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）イミダゾール二量体等が挙げられる。これらの中でも、密着性及び感度をより向上させる観点から、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体が好ましい。
【００９８】
また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
【００９９】
なお、本発明における（Ｃ）成分の総量に対する２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の含有割合は、７０〜１００質量％であることが好ましく、８５〜１００質量％であることがより好ましく、９０〜１００質量％であることがさらに好ましく、９３〜１００質量％であることが特に好ましい。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体をこの割合で含有することにより、本発明の感光性エレメントはより優れた密着性及び感度を有するものとなる。
【０１００】
また、（Ｃ）成分である光重合開始剤としては、上記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の他に、その他の光重合開始剤を用いてもよい。その他の光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン類、ｐ−アミノフェニルケトン類、キノン類、ベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン化合物、ベンジル誘導体、アクリジン誘導体、クマリン系化合物、オキシムエステル類、Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物、脂肪族多官能チオール化合物、アシルホスフィンオキサイド類、チオキサントン類、３級アミン化合物類等が挙げられ、これら化合物を組み合わせて使用してもよい。
【０１０１】
上記芳香族ケトン類としては、例えば、アセトフェノン、ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパノン−１、４，４’−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。
【０１０２】
上記ｐ−アミノフェニルケトン類としては、例えば、アミノベンゾフェノン、ブチルアミノアセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メチルチオフェニルアセトフェノン、ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（エチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジブチルアミノ）ベンゾフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン等が挙げられる。
【０１０３】
上記キノン類としては、例えば、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、９，１０−フェナンタラキノン、１，２−ナフトキノン、１，４−ナフトキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、２−アミノアントラキノン等が挙げられる。
【０１０４】
上記ベンゾインエーテル化合物としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等が挙げられる。
【０１０５】
上記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等が挙げられる。
【０１０６】
上記ベンジル誘導体としては、例えば、ベンジルメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジプロピンケタール、ベンジルジフェニルケタール等が挙げられる。
【０１０７】
上記アクリジン誘導体としては、例えば、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−オキサプロパン、１，３−ビス（９−アクリジニル）−２−チアプロパン、１，５−ビス（９−アクリジニル）−３−チアペンタン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、９−モノペンチルアミノアクリジン、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ブロモフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジエチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−クロロフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ブロモフェニル）アクリジン、９−シアノエチルアクリジン、９−ヒドロキシエチルアクリジン、９−クロロエチルアクリジン、９−ｎ−プロポキシアクリジン、９−クロロエトキシアクリジンなどが挙げられる。
【０１０８】
上記クマリン系化合物としては、例えば、７−アミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−メチルアミノ−４−メチルクマリン、７−エチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ジメチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−アミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、７−ジエチルアミノシクロペンタ［ｃ］クマリン、４，６−ジメチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジエチルアミノクマリン、４，６−ジメチル−７−ジメチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−エチルアミノクマリン、４，６−ジエチル−７−ジメチルアミノクマリン、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサンヒドロ−１Ｈ，５Ｈ−シクロペンタ［３，４］［１］ベンゾピラノ−［６，７，８−ｉｊ］キノリジン１２（９Ｈ）−オン、７−ジエチルアミノ−５’，７’−ジメトキシ−３，３’−カルボニルビスクマリン、３，３’−カルボニルビス［７−（ジエチルアミノ）クマリン］、７−ジエチルアミノ−３−チエノキシルクマリン等が挙げられる。
【０１０９】
上記オキシムエステル類としては、例えば、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−ｏ−ベンゾイルオキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等が挙げられる。
【０１１０】
上記Ｎ−アリール−α−アミノ酸化合物としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−（メトキシエチル）−Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−フェニルアラニン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルバリン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルロイシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−トリル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−エチル−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ−（ｐ−ヨードフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−プロモフェニル）グリシン、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）グリシン、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）グリシン等が挙げられる。
【０１１１】
上記脂肪族多官能チオール化合物としては、例えば、ヘキサンチオール、デカンチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、及びその他の多価ヒドロキシ化合物のチオグリコレート、チオプロピオネート等が挙げられる。
【０１１２】
上記アシルホスフィンオキサイド類としては、例えば、（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１１３】
上記チオキサントン類としては、例えば、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２−フルオロチオキサントン、４−フルオロチオキサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
【０１１４】
その他の光重合開始剤としては、例えば、エチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフィニルホスフィネイト、２，３−ジオキソ−３−フェニルプロピオンジ酸エチル−２−（ｏ−ベンゾイルカルボニル）−オキシム、ｐ−ニトロジフェニル、ｍ−ニトロアニリン、ｐ−ニトロアニリン、２，６−ジニトロアニリン等が挙げられる。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。
【０１１５】
上記３級アミン化合物としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸、ジエチルアミノ安息香酸、ジイソプロピルアミノ安息香酸等が挙げられる。
【０１１６】
本発明の（Ｃ）光重合開始剤としては、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体の他に、上記芳香族ケトン類を含有することが好ましく、中でもＮ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）を含有することが好ましい。
【０１１７】
（Ｄ）密着性付与剤は、必須成分として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含む。（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物としては、分子内にカルボキシル基を１つ又は２つ以上有する脂肪族カルボン酸、分子内にカルボキシル基を２つ以上有する芳香族カルボン酸を挙げることができる。また、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は、本発明の効果がより十分に得られることから、ジカルボン酸化合物であることが好ましい。これらの中でも、（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は、脂肪族カルボン酸化合物、及び、一分子中にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物の両方に該当するもの、すなわち、分子内にカルボキシル基を２つ以上有する脂肪族カルボン酸化合物であることが好ましく、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するジカルボン酸化合物であることがより好ましい。なお、これらの（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物は１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１８】
ここで、脂肪族カルボン酸としては、炭素原子数１〜３０個で、１個または２個以上のカルボキシル基をもつ化合物群であり、構造的に飽和でも、不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでいても良く、置換基として、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸（ヘキサン酸）、ヘプタン酸、カプリル酸（オクタン酸）、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、オブツシル酸、カプロレイン酸、ウンデシレン酸、リンデン酸、ツズ酸、フィゼテリン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、エライジン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、アスクレピン酸、バクセン酸、ガドレイン酸、ゴンドイン酸、セトレイン酸、エルカ酸、ブラシジン酸、セラコレイン酸、ネルゴン酸、キシメン酸、ルメクエン酸、ソルビン酸、リノール酸、ヒラゴ酸、アルファーリノレン酸、プニカ酸、アルファーエレオステアリン酸、ベーターエレオステアリン酸、モロクチ酸、ステアリドン酸、アラキドン酸、エイコサペンタン酸、イワシ酸、ドコサヘキサエン酸、ニシン酸、タリリン酸、ステアロール酸、クレペニン酸、キシメニン酸、２−メチルプロパン酸、２−メチルブタン酸、イソ吉草酸、ネオペンタン酸、２，３−ジメチルペンタン酸、４，４−ジメチルペンタン酸、２−エチル酪酸、２，２−ジメチルヘキサン酸、２−エチルヘキサン酸、オクタン酸、イソオクタン酸、イソノナン酸、イソデカン酸、ネオデカン酸、イソトリデカン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、メタクリル酸、セネシオ酸、シトロネル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン酸、ドデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸、ヘキサデカン二酸、オクタデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、オクテニルコハク酸、ドゼセニルコハク酸、オクタデセン二酸、ペンテデセニルコハク酸、トリカルバリル酸、グルタミン酸、２，５−ジベンズアミドペンタン酸、グリコール酸、乳酸、アルファーオキシ酪酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、エチレンジアミン四酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ニトリロ三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラアミン六酢酸、ジカルボキシメチルグルタミン酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ジヒドロキシエチルグリシン、１，３−プロパンジアミン四酢酸、１，３−ジアミノ−２−ヒドロキシプロパン四酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、メチルグリシン二酢酸等ガ挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、オクタン酸、セバシン酸、イソステアリン酸、オクタデカン二酸、オクテニルコハク酸、エチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、酒石酸等が特に好ましい。
【０１１９】
芳香族カルボン酸としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン構造を骨格とし、これらと直接結合する２個以上のカルボキシル基を持ち、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオルール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ヘミメリット酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ウビチン酸、プレーニト酸、ピロメリット酸、メリット酸、ジフェン酸、ｍ−ヘミピン酸等が挙げられる。なお、これら化合物の中でも、イソフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が特に好ましい。
【０１２０】
また、一分子中にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物としては、上述した化合物以外に、ホモフタル酸、ホモイソフタル酸、ホモテレフタル酸、フタロン酸、イソフタロン酸、テレフタロン酸等が挙げられる。
【０１２１】
（Ｄ）成分としては、（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群から選択される１種または２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有することが好ましい。
【０１２２】
トリアゾール類としては、トリアゾール（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、２Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール）又はこれらとベンゼン環あるいはナフタレン環の環縮合構造を有する化合物群；トリアゾール環及び／又は芳香環に、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有することができる化合物が好ましい。例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、１Ｈ−１，２，３−トリアゾール、２Ｈ−１，２，３−トリアゾール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、４Ｈ−１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、クロロベンゾトリアゾール、ニトロベンゾトリアゾール、アミノベンゾトリアゾール、シクトヘキサノ［１，２−ｄ］トリアゾール、４，５，６，７−テトラヒドロキシトリウトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、エチルベンゾトリアゾール、ナフトトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］ベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（１−ブチル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（１−オクチル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、１−（２’，３’−ジ−ヒドロキシプロピル）ベンゾトリアゾール、１−（２’，３’−ジ−カルボキシエチル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール−６−カルボン酸、１−オレオイルベンゾトリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−オール、５−アミノ−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキシアミド、４−アミノウラゾール、１，２，４−トリアゾール−５−オン等が挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］トリルトリアゾール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル］カルボキシベンゾトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、４−アミノ−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、シクロヘキサノ［１，２−ｄ］トリアゾール、１，２，４−トリアゾール−３−オール、５−アミノ−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、５−アミノ−１，２，４−トリアゾール−３−カルボン酸、１，２，４−トリアゾール−３−カルボキシアミド、４−アミノウラゾール、１，２，４−トリアゾール−５−オン等が特に好ましい。
【０１２３】
テトラゾール類としては、テトラゾール（１Ｈ−テトラゾール、２Ｈ−テトラゾール）の１，５位が、水素又は置換基としてＣ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、直鎖型でも分岐型でも良く、構造中に環状構造（脂環、芳香環）を含んでも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有する化合物が好ましい。例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５−メチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−エチル−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−フェニル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−（ジメチルアミノエチル）−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、５−フェニル−１Ｈ−テトラゾール、５，５’−ビス−１Ｈ−テトラゾール２アンモニウム塩、５，５’−アゾビス−１Ｈ−テトラゾール等が挙げられる。なお、これら化合物のなかでも、１Ｈ−テトラゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、５，５’−アゾビス−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール等が特に好ましい。
【０１２４】
イミダゾール類としては、１Ｈ−イミダゾール又はこれらと１〜２個のベンゼン環の環縮合構造を骨格とする化合物類；イミダゾール環及び／又はベンゼン環に、置換基として、Ｃ１〜Ｃ１２の構造的に飽和でも不飽和でも良く、酸素（ヒドロキシル基、カルボニル基、カルボキシル基、エーテル、エステル等）、窒素（アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基等）、硫黄（チオール基、スルフィド等）、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等）を含有する化合物が好ましい。例えば、１Ｈ−イミダゾール、１−メチルイミダゾール、４−メチルイミダゾール、５−メチルイミダゾール、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイイダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、２−アミノ−４，５−ジシアノイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトメチルベンズイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾール、１−ビニルイミダゾール、１−ベンジル−２−フォルミルイミダゾール、１−アリルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、２−ブチルイミダゾール、２−ブチル−５−フォルミルイミダゾール、２−ブチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フォルミルイミダゾール、４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、テトラヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２−メチル−４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、２−アミノ−３−（１Ｈ−イミダゾール−４−イル）プロパノイル、２−（３−アミノプロパンアミド）−３−（１Ｈ−イミダゾール−４−イル）プロパノイル、イミダゾール−４−エタンアミン等が挙げられる。なお、これらの化合物の中でも、１Ｈ−イミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールが特に好ましい。
【０１２５】
感光性樹脂組成物において、上述した各成分の好ましい含有量は以下の通りである。
【０１２６】
（Ａ）成分であるバインダーポリマーの含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、４０〜７０質量部であることが好ましく、４５〜６７質量部であることがより好ましく、５０〜６５質量部であることがさらに好ましい。この含有量が４０質量部未満では光硬化物が脆くなる傾向にあり、７０質量部を超えると、解像度及び光感度が不十分となる傾向にある。
【０１２７】
（Ｂ）成分である分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、３０〜６０質量部であることが好ましく、３３〜５５質量部であることがより好ましく、３５〜５０質量部であることがさらに好ましい。この含有量が３０質量部未満では、解像度及び光感度が不十分となる傾向があり、６０質量部を超えると光硬化物が脆くなる傾向がある。
【０１２８】
（Ｃ）成分である光重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．１５〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜５質量部であることが特に好ましい。この含有量が０．１質量部未満では光感度が不十分となる傾向があり、２０質量部を超えると、露光の際に感光性樹脂組成物の表面での光吸収が増大して内部の光硬化が不十分となる傾向がある。
【０１２９】
（Ｄ）成分である密着性付与剤の（ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０００５〜１質量部であることが好ましく、０．００１〜０．７質量部であることがより好ましく、０．０１〜０．５質量部であることがさらに好ましく、０．０５〜０．３質量部であることが特に好ましい。（ａ）成分の含有量がこの範囲であると、金属表面とレジストとの密着性及び剥離性をバランスよく向上できる。
【０１３０】
（Ｄ）成分である密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群から選択される１種または２種以上のヘテロ環化合物を含む場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０００５〜１質量部であることが好ましく、０．００１〜０．７質量部であることがより好ましく、０．０１〜０．５質量部であることがさらに好ましく、０．０５〜０．３質量部であることが特に好ましい。（ｂ）成分の含有量がこの範囲であると、金属表面とレジストの密着性及び剥離性をよりバランスよく向上できる。
【０１３１】
また、本発明における感光性樹脂組成物には、上述した（ａ）成分及び（ｂ）成分の樹脂への溶解性を高める目的で、（ｃ）アミン類を更に配合することができる。（ｃ）アミン類としては、例えば、アンモニア、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、モノエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ジエチレントリアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ヘキサヒドロアニリン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、アリルアミン、２−アミニプロパノール、３−アミノプロパノール、４−アミノブタノール、４−メチルアミノブタノール、エチルアミノエチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、オレイルアミン、ドデシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、オクチルアミン、オクタデシルアミン、ヘキシルアミン等が挙げることができる、これらの化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、これらの化合物の中でも、モノイソプロパノールアミン、ジシソプロパノールアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン等が特に好ましい。
【０１３２】
なお、（ｃ）アミン類を含む場合の含有量は、（ａ）成分及び（ｂ）成分に使用される酸１当量に対して５当量以下が好ましく、０．５〜２当量であることがより好ましい。この含有量を超えると、金属表面とレジストの密着性の向上を阻害する傾向がある。
【０１３３】
また、感光性樹脂組成物には、必要に応じて、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染料、トリブロモフェニルスルホン、ロイコクリスタルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、禁止剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を含有させてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用される。これらの添加剤は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して各々０．０００１〜２０質量部程度含有してもよい。
【０１３４】
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して、固形分３０〜６０質量％程度の溶液として調製することができる。
【０１３５】
本発明の感光性エレメント１における感光層２０は、上述の感光性樹脂組成物を支持フィルム１０上に塗布し、溶剤を除去することにより形成することができる。ここで、塗布方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート等の公知の方法を採用することができる。また、溶剤の除去は、例えば、７０〜１５０℃の温度で５〜３０分間程度処理することで行うことができる。なお、感光層２０中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する点から、２質量％以下とすることが好ましい。
【０１３６】
このようにして形成される感光層２０の厚さは、乾燥後の厚さで３〜３０μｍであることが好ましく、５〜２５μｍであることがより好ましく、７〜２５μｍであることがさらに好ましく、１０〜２０μｍであることが特に好ましい。この厚さが３μｍ未満であると、回路形成用基板に感光層を積層する際に不具合が発生しやすくなる、又はテンティング性が劣り、現像及びエッチング工程中でレジストが破損し、オープン不良の一因になる可能性があり、プリント配線板の製造歩留りが低下する傾向がある。一方、厚さが３０μｍを超えると、感光層２０の解像度が悪化する、又はエッチング液の液まわりが悪化するため、サイドエッチングの影響が大きくなり、高密度なプリント配線板の製造が困難になる傾向がある。
【０１３７】
また、感光性エレメント１は、感光層２０の支持フィルム１０に接する第１の主面１２とは反対側の主面上に保護フィルム（図示せず）を備えていてもよい。保護フィルムとしては、感光層２０と支持フィルム１０との間の接着力よりも、感光層２０と保護フィルムとの間の接着力が小さくなるようなフィルムを用いることが好ましく、また、低フィッシュアイのフィルムを用いることが好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の不活性なポリオレフィンフィルムが挙げられる。感光層２０からの剥離性の見地から、ポリエチレンフィルムが好ましい。保護フィルムの厚みは、用途により異なるが１〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【０１３８】
感光性エレメント１は、支持フィルム１０、感光層２０及び保護フィルムの他に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層又は保護層を更に備えていてもよい。
【０１３９】
本実施形態の感光性エレメント１は、例えば、そのままの状態で又は感光層２０上に保護フィルムを更に積層したものを、円筒状の巻芯に巻き取った状態で貯蔵されてもよい。この際、支持フィルム１０が再外層になるようにロール状に巻き取られることが好ましい。また、ロール状に巻き取った感光性エレメント１の端面には、端面保護の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の低いブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【０１４０】
巻芯の材料としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂及びＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックが挙げられる。
【０１４１】
（レジストパターンの形成方法）
本実施形態のレジストパターンの形成方法は、上記感光性エレメント１を、感光層２０、支持フィルム１０の順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、活性光線を、上記支持フィルム１０を通して感光層２０の所定部分に照射して、感光層２０に光硬化部を形成させる露光工程と、上記光硬化部以外の感光層２０の部分を除去する現像工程と、を含む方法である。
【０１４２】
積層工程において、感光層２０を回路形成用基板上に積層する方法としては、感光層２０上に保護フィルムが存在している場合には、該保護フィルムを除去した後、感光層２０を７０〜１３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１ＭＰａ程度の圧力で圧着することにより積層する方法等が挙げられる。この積層工程において、減圧下で積層することも可能である。なお、回路形成用基板の積層される表面は通常金属面であるが、特に制限されない。また、積層性を更に向上させるために、回路形成用基板の予熱処理を行ってもよい。
【０１４３】
次に、上記積層工程で積層が完了した感光層２０に対して、ネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスクを支持フィルム１０の第２の主面１４に位置合わせをして密着させる。その後、露光工程では、感光層２０に対して、支持フィルム１０を通して活性光線が画像状に照射し、感光層２０に光硬化部を形成させることによって行われる。上記活性光線の光源としては、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線や可視光等を有効に放射するものが用いられる。また、レーザー直接描画露光法にも使用される。
【０１４４】
次いで、上記露光工程後、フォトマスクを支持フィルム１０から剥離する。更に、支持フィルム１０を感光層２０から剥離除去する。次に露光工程において、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウエット現像、ドライ現像等で感光層２０の未露光部（光硬化部）を除去して現像し、レジストパターンを製造することができる。
【０１４５】
アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％炭酸カリウムの希薄溶液、０．１〜５質量％水酸化ナトリウムの希薄溶液が挙げられる。上記アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１の範囲とすることが好ましく、その温度は、感光層２０の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。また、現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。
【０１４６】
また、現像工程後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱又は０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の露光を行うことにより、レジストパターンを更に硬化してもよい。
【０１４７】
（プリント配線板の製造方法）
本実施形態のプリント配線板の製造方法は、上記レジストパターンの形成方法によりレジストパターンの形成された回路形成用基板を、エッチング又はめっきすることによって行われる。ここで、回路形成用基板のエッチング又はめっきは、現像されたレジストパターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を公知の方法によりエッチング又はめっきすることによって行われる。
【０１４８】
エッチングに用いられるエッチング液としては、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、アルカリエッチング溶液等を用いることができる。
【０１４９】
めっきとしては、例えば、銅めっき、はんだめっき、ニッケルめっき、金めっき等が挙げられる。
【０１５０】
エッチング又はめっきを行った後、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカリ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液で剥離することができる。この強アルカリ性の水溶液としては、例えば、１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。また、剥離方式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられる。なお、レジストパターンが形成されたプリント配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルーホールを有していてもよい。
【０１５１】
また、めっきが絶縁層と絶縁層上に形成された導体層とを備えた回路形成用基板に対して行われた場合には、パターン以外の導体層を除去する必要がある。この除去方法としては、例えば、レジストパターンを剥離した後に軽くエッチングする方法や、上記めっきに続いてはんだめっき等を行い、その後レジストパターンを剥離することで配線部分をはんだでマスクし、次いで導体層のみをエッチング可能なエッチング液を用いて処理する方法等が挙げられる。
【０１５２】
（半導体パッケージ基板の製造方法）
本発明の感光性エレメント１は、リジット基板と、そのリジット基板上に形成された絶縁膜とを備えるパッケージ基板に用いることもできる。この場合、感光層の光硬化部を絶縁膜として用いればよい。感光層の光硬化部を、例えば半導体パッケージ用のソルダーレジストとして用いる場合は、上述のレジストパターンの形成方法における現像終了後、はんだ耐熱性、耐薬品性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプによる紫外線照射や加熱を行うことが好ましい。紫外線を照射させる場合は必要に応じてその照射量を調整することができ、例えば０．２〜１０Ｊ／ｃｍ２程度の照射量で照射を行うこともできる。また、レジストパターンを加熱する場合は、１００〜１７０℃程度の範囲で１５〜９０分程行われることが好ましい。さらに紫外線照射と加熱とを同時に行うこともでき、いずれか一方を実施した後、他方を実施することもできる。紫外線の照射と加熱とを同時に行う場合、はんだ耐熱性、耐薬品性等を効果的に付与する観点から、６０〜１５０℃に加熱することがより好ましい。
【０１５３】
このソルダーレジストは、基板にはんだ付けを施した後の配線の保護膜を兼ね、引張強度や伸び率等の物理特性及び耐熱衝撃性に優れているので、半導体パッケージ用の永久マスクとして有効である。
【０１５４】
このようにしてレジストパターンを備えたパッケージ基板は、その後、半導体素子などの実装（例えば、ワイヤーボンディング、はんだ接続）がなされ、そして、パソコン等の電子機器へ装着される。
【０１５５】
以上、本発明をその実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【実施例】
【０１５６】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１５７】
［実施例１〜１８及び比較例１〜５］
（感光性樹脂組成物の溶液の作製）
下記表１に示す各成分を配合して、感光性樹脂組成物の基本溶液を調製した。
【０１５８】
【表１】
【０１５９】
上記基本溶液に、（Ｄ）成分である密着性付与剤を下記表２〜５に示すように必要に応じ添加し、感光性樹脂組成物の溶液を得た。
【０１６０】
（感光性エレメントの作製）
感光性エレメントの支持フィルムとして、表２〜５に示すポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と表記する）フィルムを用意した。各ＰＥＴフィルムのヘーズ及び５μｍ以上の粒子等の個数を測定した結果を表２〜５に示す。
【０１６１】
上記粒子等の個数は、１ｍｍ２単位に存在する５μｍ以上の粒子等の数を偏光顕微鏡を用いて測定した値である。その際のｎ数は５とした。また、ヘーズは、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した値である。これらの支持フィルムの厚みは、いずれも１６μｍであった。
【０１６２】
次に、それぞれのＰＥＴフィルム上に上記の感光性樹脂組成物の溶液を厚さが均一になるようにして塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で２分間乾燥して溶媒を除去して感光層を形成した。乾燥後、ポリエチレン製保護フィルム（タマポリ社製、商品名「ＮＦ−１５」、厚さ２０μｍ）で感光層を被覆して感光性エレメントを得た。なお、乾燥後の感光層の厚さは、いずれも１５μｍであった。
【０１６３】
また、表２〜５中、ＨＴＲ−０２＊１は、微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポン（株）製、商品名）であり、ＱＳ−４８＊２は、微粒子を含有する層を表裏に有する３層構造の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名）であり、１−［Ｎ，Ｎ−ビス−（２−エチルヘキシル）］アミノメチルベンゾトリアゾール−５−カルボン酸＊３は、千代田化学（株）製のものである。
【０１６４】
（積層体の作製）
銅箔（厚さ：３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ材である銅張積層板（日立化成工業社製、商品名「ＭＬＣ−Ｅ−６７９」）を、表面粗化処理液「メックエッチボンドＣＺ−８１００」（メック社製、商品名）を用いて表面処理し、水洗、酸洗及び水洗後、空気流で乾燥した。得られた銅張積層板を８０℃に加温し、保護フィルムを剥離しながら、感光層が銅表面に接するように感光性エレメントをラミネートした。こうして、銅張積層板、感光層、支持フィルムの順に積層された積層体を得た。ラミネートは、１２０℃のヒートロールを用いて、０．４ＭＰａの圧着圧力、１．５ｍ／分のロール速度で行なった。これらの積層体は、以下に示す試験における試験片として用いた。
【０１６５】
（光感度測定試験）
試験片の支持フィルム上に、ネガとしてストーファー２１段ステップタブレットを載置し、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の照射エネルギー量となるように感光層を露光した。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃の１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間（未露光部分が除去される最少時間）の２倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。そして、銅張積層板上に形成された光硬化膜のステップタブレットの段数を測定することにより、感光性樹脂組成物の光感度を評価した。結果を表２〜５に示す。光感度は、ステップタブレットの段数で示され、このステップタブレットの段数が高いほど、光感度が高いことを示す。
【０１６６】
（サイドウォールピット発生数測定試験）
レジストの側面に発生するサイドウォールピットの発生数を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。
【０１６７】
その後、レジストラインの側面に発生しているサイドウォールピットの発生数を走査型電子顕微鏡（日立製作所社製、商品名「Ｓ−２１００Ａ」）により数えた。サンプル台の傾きを４５度、倍率を１０００倍に設定したときの１５０μｍ×７０μｍの観察範囲を１視野と定義し、１枚の基板をランダムに２００視野観察した。サイドウォールピットの発生数は、２００視野中に観測されたサイドウォールピットの総数とした。なお、レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍを超える場合は、約１μｍサイズであるサイドウォールピットの発生数を数えるのは困難なため、「観測不可」とした。その結果を表２〜５に示す。また、レジストパターンの側面に観測されるサイドウォールピットを示す電子顕微鏡写真（倍率１０００倍）を図２に示す。図２は上記観察範囲の１視野に相当するものであり、丸で囲った部分がサイドウォールピットの発生箇所である。
【０１６８】
（密着性測定試験）
密着性を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、密着性評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／１０００〜３０／１０００（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、密着性は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができたライン幅の最も小さい値（単位：μｍ）により評価した。なお、密着性の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表２〜５に示す。
【０１６９】
（解像度測定試験）
解像度を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、解像度評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が２／２〜３０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。ここで、解像度は、現像処理によって未露光部をきれいに除去することができたライン幅間のスペース幅の最も小さい値（単位：μｍ）により評価した。なお、解像度の評価は数値が小さいほど良好な値である。結果を表２〜５に示す。
【０１７０】
（レジストパターンの側面ギザ性試験）
レジストパターンの側面ギザ性を調べるため、ストーファー２１段ステップタブレットを有するフォトツールと、評価用ネガとしてライン幅／スペース幅が１０／３０（単位：μｍ）の配線パターンを有するガラスクロムタイプのフォトツールとを試験片の支持フィルム上に密着させ、高圧水銀灯ランプを有する露光機（オーク社製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、ストーファー２１段ステップタブレットの現像後の残存ステップ段数が５．０となる照射エネルギー量で露光を行った。次に、支持フィルムを剥離し、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を最少現像時間の４倍の時間でスプレー現像し、未露光部分を除去して現像を行った。その後、得られたレジストパターンの形状を走査型電子顕微鏡（日立製作所社製、商品名「Ｓ−２１００Ａ」）により観察し、レジストパターンの側面ギザ性を下記基準により評価した。レジストパターンの側面ギザとは、レジストパターンの形状がストレートではなく、ギザつき（凹凸）があって好ましくない状態をいい、レジストパターンの側面ギザの凹凸は浅い方が好ましい。結果を表２〜５に示す。
浅い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍ以下の場合、
深い：レジストパターンの側面ギザの凹凸が２μｍを超える場合。
【０１７１】
【表２】
【０１７２】
【表３】
【０１７３】
【表４】
【０１７４】
【表５】
【０１７５】
表２〜５に示した結果から明らかなように、本発明の一実施形態である実施例１〜１８は、サイドウォールピットの発生数が少なく、密着性及び解像度が共に１０μｍ以下を達成している。また、レジストパターンの側面ギザ性も良好である。これに対し、比較例１〜５は、上記特性のうちいずれかが劣る結果となった。
【図面の簡単な説明】
【０１７６】
【図１】本発明の感光性エレメントの好適な実施形態を示す模式断面図である。
【図２】レジストパターンの側面に観測されるサイドウォールピットを示す電子顕微鏡写真（倍率１０００倍）である。
【符号の説明】
【０１７７】
１…感光性エレメント、１０…支持フィルム、１２…第１の主面、１４…第２の主面、２０…感光層。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントであって、
前記支持フィルムのヘーズが０．０１〜１．５％であり、
前記感光層が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、前記（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、前記（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメント。
【請求項２】
前記感光層が、前記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有する、請求項１に記載の感光性エレメント。
【請求項３】
前記感光層の膜厚が３〜３０μｍである、請求項１又は２に記載の感光性エレメント。
【請求項４】
前記感光層が、前記（Ｂ）光重合性化合物として下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化１】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【請求項５】
前記（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーの重量平均分子量が、３０，０００〜１５０，０００である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の感光性エレメントを、前記感光層、前記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、
活性光線を、前記支持フィルムを通して前記感光層の所定部分に照射して、前記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、
前記光硬化部以外の前記感光層を除去する現像工程と、
を含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項７】
請求項６に記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法。
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に形成された感光性樹脂組成物からなる感光層と、を備える感光性エレメントであって、
前記支持フィルムのヘーズが０．０１〜１．５％であり、
前記感光層が、（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーと、（Ｂ）分子内に重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）密着性付与剤と、を含有し、且つ、前記（Ｃ）光重合開始剤として２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体を含有し、前記（Ｄ）密着性付与剤として（ａ）脂肪族カルボン酸化合物、及び／又は、分子内にカルボキシル基を２つ以上有するカルボン酸化合物を含有する、感光性エレメント。
【請求項２】
前記感光層が、前記（Ｄ）密着性付与剤として（ｂ）トリアゾール類、テトラゾール類及びイミダゾール類からなる群より選択される１種又は２種以上のヘテロ環化合物をさらに含有する、請求項１に記載の感光性エレメント。
【請求項３】
前記感光層の膜厚が３〜３０μｍである、請求項１又は２に記載の感光性エレメント。
【請求項４】
前記感光層が、前記（Ｂ）光重合性化合物として下記一般式（Ｉ）で表されるビスフェノールＡ系（メタ）アクリレート化合物を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【化１】
［式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６のアルキレン基を示し、ｐ及びｑはｐ＋ｑ＝４〜４０となるように選ばれる正の整数を示す。なお、式中、複数存在するＸは同一でも異なっていてもよい。］
【請求項５】
前記（Ａ）カルボキシル基含有バインダーポリマーの重量平均分子量が、３０，０００〜１５０，０００である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性エレメント。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の感光性エレメントを、前記感光層、前記支持フィルムの順に回路形成用基板上に積層する積層工程と、
活性光線を、前記支持フィルムを通して前記感光層の所定部分に照射して、前記感光層に光硬化部を形成させる露光工程と、
前記光硬化部以外の前記感光層を除去する現像工程と、
を含む、レジストパターンの形成方法。
【請求項７】
請求項６に記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板に対し、エッチング又はめっきを施す、プリント配線板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００９−１８６７８０（Ｐ２００９−１８６７８０Ａ）
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２６８８９（Ｐ２００８−２６８８９）
【出願日】平成２０年２月６日（２００８．２．６）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【出願人】（３９００１１９５８）千代田ケミカル株式会社 (6)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月２０日（２００９．８．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年２月６日（２００８．２．６）
【出願人】（０００００４４５５）日立化成工業株式会社 (4,649)
【出願人】（３９００１１９５８）千代田ケミカル株式会社 (6)
【Ｆターム（参考）】
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