液体供給ヘッド
【課題】液体の大気接触を抑制するとともに、液体の飛散を抑制する。
【解決手段】両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、整流板により、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導するよう構成する。
【解決手段】両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、整流板により、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導するよう構成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体供給ヘッドに関し、さらに詳しくは、例えばプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記す）用の平面ガラス基板のような処理対象に対し、ウエット処理の際に用いられる洗浄液、現像液、エッチング液のような薬液を注ぎかけるために主として用いられる液体供給ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえばＰＤＰでは、平面ガラス基板に電極を形成する場合、基板全体に導電膜を形成し、その後、レジストを塗布してレジストのパターニングを行い、レジストのない導電膜部分をエッチングで除去することにより、平面ガラス基板の所望の位置に電極を形成するようにしている。
【０００３】
上記の工程においては、レジストのパターニングの際には平面ガラス基板に現像液を注ぎかける。また、エッチングの際には平面ガラス基板にエッチング液を注ぎかける。
【０００４】
したがって、ＰＤＰのような薄型平面パネルの製造工程では、上述した現像液やエッチング液のような各種の薬液を平面ガラス基板に注ぎかけるための液体供給装置が用いられている。そして、このような液体供給装置の液体供給ヘッドは、ノズルタイプ、スリットタイプなど、様々な構造のものが知られている（特許文献１および特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２０７４０３号公報
【特許文献２】特開２００５−１５９１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した現像液やエッチング液のような薬液は、大気と接触すると劣化しやすい。また、薬液の供給口やその位置に起因して、薬液が処理チャンバ内で液状あるいはミスト状に飛散したり、薬液の揮発成分が飛散する状況で使用される。
【０００７】
したがって、このような薬液については、薬液の劣化に伴って加工精度が低下したり、劣化を補うための薬液コストが高くなるという問題がある。また、薬液が液状あるいはミスト状に飛散することにより、薬液が処理チャンバ外へ漏洩する機会が増え、作業環境悪化、設備稼働率低下の一因となる。
【０００８】
このため、薬液の劣化を防止でき、かつ薬液が処理チャンバ内で飛散しないような液体供給ヘッドの出現が望まれていた。
【０００９】
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、本体に液体の整流板を内装するとともに、液体の供給口を水平な一定幅の開口とし、この供給口から液体の処理対象まで液体が飛散せずかつ均一に処理対象に流下するように傾斜板を設けることで、液体の大気接触を抑制するとともに、液体の飛散を抑制するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、整流板は、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導してなる液体供給ヘッドである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、液体が薬液である場合には、薬液の大気接触を抑制して、薬液の劣化を防止することができる。また、薬液の飛散や漏洩を防止することができるので、それに起因する作業環境の悪化、および設備稼働率の低下を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の液体供給ヘッドは、現像液やエッチング液のような各種の薬液を処理対象に供給するために主として用いられるが、薬液に限定されず、あらゆる種類の液体に利用可能である。
【００１３】
本体は、両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有するものであればよい。本体の断面形状は、半円形、矩形、台形、三角形など、どのような形状であってもよい。注入口は、少なくとも１つあればよいが、液体を本体の長手方向に均等に行き渡らせるためには、本体の長手方向に沿って多数設けることが望ましい。供給口は、液体が一定の流量で間断なく供給口から流出する際でも供給口が塞がれない程度の幅を有していることが望ましい。また、供給口は、本体の長手方向全体にわたって一定の幅で切れ目なく形成されていることが望ましい。この供給口は、液体の落下方向に向けて配置されていてもよい。
【００１４】
傾斜板は、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させることができるものであればよい。この傾斜板は、傾斜板上を液体が流下する際の液体流下端面が鋭利に形成されていることが望ましい。傾斜板は、たとえば液体が薬液である場合には、その薬液に対して耐薬品性を有していればよく、加工の容易性の点からは、塩化ビニルのような樹脂で形成することが望ましい。
【００１５】
整流板は、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置されていればよい。この整流板は、長手方向に沿う上辺と下辺とのいずれか一方が本体に当接するように取り付けられ、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか他方から液体を迂回させて供給口に誘導する機能を有していればよい。整流板は、複数の整流板から構成されていてもよい。
【００１６】
上記構成においては、本体を長手方向に水平に支持可能な支持部をさらに備えていてもよい。この支持部は、本体の複数箇所をそれぞれ支持する複数の支持棒と、それらの複数の支持棒をそれぞれネジで取り付けることによって本体の水平度を調整することが可能な支持板から構成することが望ましい。この場合、支持部は、本体を、伏せた状態で搬送される処理対象の平面基板に対し平面基板の平面に平行で、かつその長手方向が平面基板の搬送方向に対して交差するように配置可能であることが望ましい。さらに支持部は、本体の複数箇所をそれぞれ支持する複数の支持棒に取り付けたネジを調整することで、傾斜板と伏せた状態で搬送される平面基板との間隔を調整できることが望ましい。
【００１７】
上記の平面基板としては、ガラス、石英、セラミック等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
【００１８】
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
【００１９】
実施形態１
図１は本発明の実施形態１の液体供給ヘッドの構成を示す斜視図である。
図において、Ｇは処理対象であり、例えばＰＤＰのような薄型平面パネルに用いられる平面ガラス基板である。本実施形態では、処理対象Ｇをガラス基板Ｇとして説明する。ガラス基板Ｇは、図中矢印Ｆで示す方向に搬送される。Ｆで示した方向については、左右どちらに搬送されてもよいが、揺動するのではなく、いずれか一方の方向に継続的に搬送される。
【００２０】
１は液体供給ヘッドである。液体供給ヘッド１は、筒状の本体２、整流板３、傾斜板４、支持棒５、支持板６から構成されている。
【００２１】
筒状の本体２は断面が矩形である。本体２は上板が支持棒５で支持されている。支持棒５は支持板６にネジで取り付けられており、支持棒５のネジを調整することで本体２の水平度を調整することができる。さらに、支持棒５のネジを調整することで、傾斜板４とガラス基板Ｇとの間隔Ｋを調整することもできる。
【００２２】
本体２の一方の側面には薬液の注入口（図示していない）が設けられており、他方の側面にはスリット状の供給口（開口）２ａが設けられている。供給口２ａの下方には傾斜板４が取り付けられている。
【００２３】
液体供給ヘッド１は、傾斜板４とガラス基板Ｇとの距離が一定の間隔Ｋとなるような位置に支持されている。
【００２４】
薬液の注入口にはホース７が接続されており、本体２へはホース７から薬液が供給される。
【００２５】
本体２の長手方向の端面は、図では内部が見やすいように開口となっているが、実際は平板（側板）で閉じられている。
【００２６】
本体２の内部には整流板３が設けられている。整流板３は上辺が本体２の上板に固定され、下辺と下板との間に隙間が設けられている。整流板３は注入口から注入された薬液の流勢を阻止して、薬液を本体２の長手方向に沿って流動させ、それにより薬液が本体２の長手方向に均一に行き渡るようにする役目を持っている。
【００２７】
ホース７から送られてきた薬液は、注入口から本体２内に入り、整流板３で阻止されて、図中矢印Ｌで示すように整流板３の下方を迂回して、供給口２ａから流出し、傾斜板４の上を流れて、矢印Ｍで示すようにガラス基板Ｇに注ぎかけられる。
【００２８】
図２は本体の断面を示す拡大図である。
この図に示すように、薬液は、矢印Ｌで示すように、注入口２ｂから本体２内に注入され、整流板３で整流され、整流板３の下方を迂回して供給口２ａから流出し、傾斜板４に沿って自然流下し、ガラス基板に注ぎかけられる。
【００２９】
現像液やエッチング液のような薬液は、ガラス基板全体に行き渡るように、ガラス基板に対して均等に注ぎかける必要があるが、整流板３の整流作用により、薬液の流量が均一化され、薬液をガラス基板に対して均等に注ぎかけることができる。
【００３０】
傾斜板４の傾斜角度θは、薬液の流量、傾斜板の長さとの兼ね合いによって、０〜９０度の範囲で任意に設定可能であるが、液供給均一性と液飛散防止効果をより高めるためには、１０〜６０度の範囲に設定することが望ましい。
【００３１】
図３は傾斜板の先端を示す説明図である。
傾斜板４の先端４ａは、液垂れ防止のために先端４ａの角度αが９０度未満になるように加工している。この先端４ａの角度αは、傾斜板４の傾斜角度θ未満に設定することが望ましい。
【００３２】
この液垂れ防止構造により、ガラス基板への薬液供給の均一性を確保し、加工精度の向上を図っている。また、この構造は、処理の停止などで薬液が流れないときの析出物発生防止に有効であり、析出物によるガラス基板のキズを防止することができ、そのメンテナンス機会を軽減することができる。
【００３３】
本体２、整流板３、傾斜板４、支持棒５、支持板６は、使用する薬液に対して耐性を持つものであれば、どのような材料を用いて作製されてもよいが、通常は金属あるいは樹脂で作製される。傾斜板については、加工性が良好である点を考慮して塩化ビニルを用いて作製している。
【００３４】
液体供給ヘッドの実際の寸法としては、本体２を平面的に見た場合の長手方向の長さは１５００ｍｍ、短手方向の長さ（幅）は１００ｍｍ、液体供給ヘッド１の高さＫ（ガラス基板Ｇまでの距離）は５０ｍｍ程度にそれぞれ設定する。液体供給ヘッド１の高さは、薬液が飛散しない範囲（５〜１００ｍｍの範囲）で適宜設定してよい。
【００３５】
薬液としては、たとえばＣｒ、Ａｌ、Ｃｕのような金属電極を形成する際に用いられる塩酸、リン酸、塩化第二鉄、塩化第二銅などを含む酸性水溶液、または過マンガン酸カリウムを含む水溶液、アルカリ性水溶液、などのエッチング液を適用することができる。この場合、薬液の液温は３０〜４０℃程度、液量は２０〜４０リットル／分程度に設定する。
【００３６】
ガラス基板Ｇのサイズは１５００×１０００ｍｍ程度までの大きさのものを適用することができる。この場合、ガラス基板の搬送速度は１８００ｍｍ／分程度に設定する。搬送速度は１０００〜１５０００ｍｍ／分の範囲で適宜設定してよい。
【００３７】
実施形態２
図４は本発明の実施形態２の構成を示す説明図である。
本実施形態は、本体２の供給口２ａが下向きの例である。この下向きの供給口２ａから傾斜板４に薬液を供給する。このように、傾斜板４に薬液を供給する供給口２ａは横方向に限定されず、下方向であってもよい。
【００３８】
実施形態３
図５は本発明の実施形態３の構成を示す説明図である。
本実施形態は、整流板が複数ある例である。図では３つの整流板３ａ，３ｂ、３ｃを設けている。このように、整流板３は１つに限定されず、２つ以上あってもよい。
【００３９】
実施形態４
図６は本発明の実施形態４の構成を示す説明図である。
本実施形態では、図１の実施形態１と比較して、本体２の上部に開口２ｃが設けられている。その他の点については実施形態１と同じである。
この開口２ｃにより、薬液の量が確認できるので、薬液の量の調整が容易である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施形態１の液体供給ヘッドの構成を示す斜視図である。
【図２】実施形態１の本体の断面を示す拡大図である。
【図３】実施形態１の傾斜板の先端を示す説明図である。
【図４】本発明の実施形態２の構成を示す説明図である。
【図５】本発明の実施形態３の構成を示す説明図である。
【図６】本発明の実施形態４の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１ 液体供給ヘッド
２ 本体
２ａ 供給口
２ｂ 注入口
２ｃ 開口
３，３ａ，３ｂ，３ｃ 整流板
４ 傾斜板
５ 支持棒
６ 支持板
７ ホース
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体供給ヘッドに関し、さらに詳しくは、例えばプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」と記す）用の平面ガラス基板のような処理対象に対し、ウエット処理の際に用いられる洗浄液、現像液、エッチング液のような薬液を注ぎかけるために主として用いられる液体供給ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
たとえばＰＤＰでは、平面ガラス基板に電極を形成する場合、基板全体に導電膜を形成し、その後、レジストを塗布してレジストのパターニングを行い、レジストのない導電膜部分をエッチングで除去することにより、平面ガラス基板の所望の位置に電極を形成するようにしている。
【０００３】
上記の工程においては、レジストのパターニングの際には平面ガラス基板に現像液を注ぎかける。また、エッチングの際には平面ガラス基板にエッチング液を注ぎかける。
【０００４】
したがって、ＰＤＰのような薄型平面パネルの製造工程では、上述した現像液やエッチング液のような各種の薬液を平面ガラス基板に注ぎかけるための液体供給装置が用いられている。そして、このような液体供給装置の液体供給ヘッドは、ノズルタイプ、スリットタイプなど、様々な構造のものが知られている（特許文献１および特許文献２参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２０７４０３号公報
【特許文献２】特開２００５−１５９１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した現像液やエッチング液のような薬液は、大気と接触すると劣化しやすい。また、薬液の供給口やその位置に起因して、薬液が処理チャンバ内で液状あるいはミスト状に飛散したり、薬液の揮発成分が飛散する状況で使用される。
【０００７】
したがって、このような薬液については、薬液の劣化に伴って加工精度が低下したり、劣化を補うための薬液コストが高くなるという問題がある。また、薬液が液状あるいはミスト状に飛散することにより、薬液が処理チャンバ外へ漏洩する機会が増え、作業環境悪化、設備稼働率低下の一因となる。
【０００８】
このため、薬液の劣化を防止でき、かつ薬液が処理チャンバ内で飛散しないような液体供給ヘッドの出現が望まれていた。
【０００９】
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、本体に液体の整流板を内装するとともに、液体の供給口を水平な一定幅の開口とし、この供給口から液体の処理対象まで液体が飛散せずかつ均一に処理対象に流下するように傾斜板を設けることで、液体の大気接触を抑制するとともに、液体の飛散を抑制するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、整流板は、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導してなる液体供給ヘッドである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、液体が薬液である場合には、薬液の大気接触を抑制して、薬液の劣化を防止することができる。また、薬液の飛散や漏洩を防止することができるので、それに起因する作業環境の悪化、および設備稼働率の低下を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の液体供給ヘッドは、現像液やエッチング液のような各種の薬液を処理対象に供給するために主として用いられるが、薬液に限定されず、あらゆる種類の液体に利用可能である。
【００１３】
本体は、両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有するものであればよい。本体の断面形状は、半円形、矩形、台形、三角形など、どのような形状であってもよい。注入口は、少なくとも１つあればよいが、液体を本体の長手方向に均等に行き渡らせるためには、本体の長手方向に沿って多数設けることが望ましい。供給口は、液体が一定の流量で間断なく供給口から流出する際でも供給口が塞がれない程度の幅を有していることが望ましい。また、供給口は、本体の長手方向全体にわたって一定の幅で切れ目なく形成されていることが望ましい。この供給口は、液体の落下方向に向けて配置されていてもよい。
【００１４】
傾斜板は、本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させることができるものであればよい。この傾斜板は、傾斜板上を液体が流下する際の液体流下端面が鋭利に形成されていることが望ましい。傾斜板は、たとえば液体が薬液である場合には、その薬液に対して耐薬品性を有していればよく、加工の容易性の点からは、塩化ビニルのような樹脂で形成することが望ましい。
【００１５】
整流板は、本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置されていればよい。この整流板は、長手方向に沿う上辺と下辺とのいずれか一方が本体に当接するように取り付けられ、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか他方から液体を迂回させて供給口に誘導する機能を有していればよい。整流板は、複数の整流板から構成されていてもよい。
【００１６】
上記構成においては、本体を長手方向に水平に支持可能な支持部をさらに備えていてもよい。この支持部は、本体の複数箇所をそれぞれ支持する複数の支持棒と、それらの複数の支持棒をそれぞれネジで取り付けることによって本体の水平度を調整することが可能な支持板から構成することが望ましい。この場合、支持部は、本体を、伏せた状態で搬送される処理対象の平面基板に対し平面基板の平面に平行で、かつその長手方向が平面基板の搬送方向に対して交差するように配置可能であることが望ましい。さらに支持部は、本体の複数箇所をそれぞれ支持する複数の支持棒に取り付けたネジを調整することで、傾斜板と伏せた状態で搬送される平面基板との間隔を調整できることが望ましい。
【００１７】
上記の平面基板としては、ガラス、石英、セラミック等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
【００１８】
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
【００１９】
実施形態１
図１は本発明の実施形態１の液体供給ヘッドの構成を示す斜視図である。
図において、Ｇは処理対象であり、例えばＰＤＰのような薄型平面パネルに用いられる平面ガラス基板である。本実施形態では、処理対象Ｇをガラス基板Ｇとして説明する。ガラス基板Ｇは、図中矢印Ｆで示す方向に搬送される。Ｆで示した方向については、左右どちらに搬送されてもよいが、揺動するのではなく、いずれか一方の方向に継続的に搬送される。
【００２０】
１は液体供給ヘッドである。液体供給ヘッド１は、筒状の本体２、整流板３、傾斜板４、支持棒５、支持板６から構成されている。
【００２１】
筒状の本体２は断面が矩形である。本体２は上板が支持棒５で支持されている。支持棒５は支持板６にネジで取り付けられており、支持棒５のネジを調整することで本体２の水平度を調整することができる。さらに、支持棒５のネジを調整することで、傾斜板４とガラス基板Ｇとの間隔Ｋを調整することもできる。
【００２２】
本体２の一方の側面には薬液の注入口（図示していない）が設けられており、他方の側面にはスリット状の供給口（開口）２ａが設けられている。供給口２ａの下方には傾斜板４が取り付けられている。
【００２３】
液体供給ヘッド１は、傾斜板４とガラス基板Ｇとの距離が一定の間隔Ｋとなるような位置に支持されている。
【００２４】
薬液の注入口にはホース７が接続されており、本体２へはホース７から薬液が供給される。
【００２５】
本体２の長手方向の端面は、図では内部が見やすいように開口となっているが、実際は平板（側板）で閉じられている。
【００２６】
本体２の内部には整流板３が設けられている。整流板３は上辺が本体２の上板に固定され、下辺と下板との間に隙間が設けられている。整流板３は注入口から注入された薬液の流勢を阻止して、薬液を本体２の長手方向に沿って流動させ、それにより薬液が本体２の長手方向に均一に行き渡るようにする役目を持っている。
【００２７】
ホース７から送られてきた薬液は、注入口から本体２内に入り、整流板３で阻止されて、図中矢印Ｌで示すように整流板３の下方を迂回して、供給口２ａから流出し、傾斜板４の上を流れて、矢印Ｍで示すようにガラス基板Ｇに注ぎかけられる。
【００２８】
図２は本体の断面を示す拡大図である。
この図に示すように、薬液は、矢印Ｌで示すように、注入口２ｂから本体２内に注入され、整流板３で整流され、整流板３の下方を迂回して供給口２ａから流出し、傾斜板４に沿って自然流下し、ガラス基板に注ぎかけられる。
【００２９】
現像液やエッチング液のような薬液は、ガラス基板全体に行き渡るように、ガラス基板に対して均等に注ぎかける必要があるが、整流板３の整流作用により、薬液の流量が均一化され、薬液をガラス基板に対して均等に注ぎかけることができる。
【００３０】
傾斜板４の傾斜角度θは、薬液の流量、傾斜板の長さとの兼ね合いによって、０〜９０度の範囲で任意に設定可能であるが、液供給均一性と液飛散防止効果をより高めるためには、１０〜６０度の範囲に設定することが望ましい。
【００３１】
図３は傾斜板の先端を示す説明図である。
傾斜板４の先端４ａは、液垂れ防止のために先端４ａの角度αが９０度未満になるように加工している。この先端４ａの角度αは、傾斜板４の傾斜角度θ未満に設定することが望ましい。
【００３２】
この液垂れ防止構造により、ガラス基板への薬液供給の均一性を確保し、加工精度の向上を図っている。また、この構造は、処理の停止などで薬液が流れないときの析出物発生防止に有効であり、析出物によるガラス基板のキズを防止することができ、そのメンテナンス機会を軽減することができる。
【００３３】
本体２、整流板３、傾斜板４、支持棒５、支持板６は、使用する薬液に対して耐性を持つものであれば、どのような材料を用いて作製されてもよいが、通常は金属あるいは樹脂で作製される。傾斜板については、加工性が良好である点を考慮して塩化ビニルを用いて作製している。
【００３４】
液体供給ヘッドの実際の寸法としては、本体２を平面的に見た場合の長手方向の長さは１５００ｍｍ、短手方向の長さ（幅）は１００ｍｍ、液体供給ヘッド１の高さＫ（ガラス基板Ｇまでの距離）は５０ｍｍ程度にそれぞれ設定する。液体供給ヘッド１の高さは、薬液が飛散しない範囲（５〜１００ｍｍの範囲）で適宜設定してよい。
【００３５】
薬液としては、たとえばＣｒ、Ａｌ、Ｃｕのような金属電極を形成する際に用いられる塩酸、リン酸、塩化第二鉄、塩化第二銅などを含む酸性水溶液、または過マンガン酸カリウムを含む水溶液、アルカリ性水溶液、などのエッチング液を適用することができる。この場合、薬液の液温は３０〜４０℃程度、液量は２０〜４０リットル／分程度に設定する。
【００３６】
ガラス基板Ｇのサイズは１５００×１０００ｍｍ程度までの大きさのものを適用することができる。この場合、ガラス基板の搬送速度は１８００ｍｍ／分程度に設定する。搬送速度は１０００〜１５０００ｍｍ／分の範囲で適宜設定してよい。
【００３７】
実施形態２
図４は本発明の実施形態２の構成を示す説明図である。
本実施形態は、本体２の供給口２ａが下向きの例である。この下向きの供給口２ａから傾斜板４に薬液を供給する。このように、傾斜板４に薬液を供給する供給口２ａは横方向に限定されず、下方向であってもよい。
【００３８】
実施形態３
図５は本発明の実施形態３の構成を示す説明図である。
本実施形態は、整流板が複数ある例である。図では３つの整流板３ａ，３ｂ、３ｃを設けている。このように、整流板３は１つに限定されず、２つ以上あってもよい。
【００３９】
実施形態４
図６は本発明の実施形態４の構成を示す説明図である。
本実施形態では、図１の実施形態１と比較して、本体２の上部に開口２ｃが設けられている。その他の点については実施形態１と同じである。
この開口２ｃにより、薬液の量が確認できるので、薬液の量の調整が容易である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施形態１の液体供給ヘッドの構成を示す斜視図である。
【図２】実施形態１の本体の断面を示す拡大図である。
【図３】実施形態１の傾斜板の先端を示す説明図である。
【図４】本発明の実施形態２の構成を示す説明図である。
【図５】本発明の実施形態３の構成を示す説明図である。
【図６】本発明の実施形態４の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１ 液体供給ヘッド
２ 本体
２ａ 供給口
２ｂ 注入口
２ｃ 開口
３，３ａ，３ｂ，３ｃ 整流板
４ 傾斜板
５ 支持棒
６ 支持板
７ ホース
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、
本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、
本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、
整流板は、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導してなる液体供給ヘッド。
【請求項２】
本体を長手方向に水平に支持可能な支持部をさらに備えてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項３】
支持部は、本体を、伏せた状態で搬送される処理対象の平面基板に対し平面基板の平面に平行で、かつその長手方向が平面基板の搬送方向に対して交差するように配置可能である請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項４】
供給口が、本体の長手方向全体にわたって一定の幅で切れ目なく形成されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項５】
供給口が液体の落下方向に向けて配置されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項６】
整流板が複数の整流板からなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項７】
傾斜板は、傾斜板上を液体が流下する際の液体流下端面が鋭利に形成されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項１】
両端が閉じられた樋形状で、一方の側面に液体の注入口を、他方の側面に液体の供給口を、それぞれ有する本体と、
本体の供給口に連設され、供給口から流出する液体を傾斜面に沿って流下させる傾斜板と、
本体内に注入口と供給口とを仕切るように本体の長手方向に沿って配置された整流板とを備え、
整流板は、本体の注入口から注入された液体を本体の長手方向に沿って流動させるとともに、上辺と下辺とのいずれか一方から液体を迂回させて供給口に誘導してなる液体供給ヘッド。
【請求項２】
本体を長手方向に水平に支持可能な支持部をさらに備えてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項３】
支持部は、本体を、伏せた状態で搬送される処理対象の平面基板に対し平面基板の平面に平行で、かつその長手方向が平面基板の搬送方向に対して交差するように配置可能である請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項４】
供給口が、本体の長手方向全体にわたって一定の幅で切れ目なく形成されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項５】
供給口が液体の落下方向に向けて配置されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項６】
整流板が複数の整流板からなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【請求項７】
傾斜板は、傾斜板上を液体が流下する際の液体流下端面が鋭利に形成されてなる請求項１記載の液体供給ヘッド。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２００６−２５５６５７（Ｐ２００６−２５５６５７Ａ）
【公開日】平成１８年９月２８日（２００６．９．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−７９８９７（Ｐ２００５−７９８９７）
【出願日】平成１７年３月１８日（２００５．３．１８）
【出願人】（５９９１３２７０８）富士通日立プラズマディスプレイ株式会社 (328)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年９月２８日（２００６．９．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年３月１８日（２００５．３．１８）
【出願人】（５９９１３２７０８）富士通日立プラズマディスプレイ株式会社 (328)
【Ｆターム（参考）】
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